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清洁刷具结构的制作方法

2020-06-16 23:05:00 来源:中国专利 TAG:双螺旋 结构 脏污 方向性 两端
清洁刷具结构的制作方法

本实用新型有关于一种清洁刷具结构,尤指涉及一种在清洗时,双螺旋式可以将脏污具方向性的由中心向两端外侧推出,可提供更有效的清洁效率,并能有效提升水流分布的结构。



背景技术:

一般的精密电子组件(如:硅晶圆、硬盘、半导体及cpu芯片)所需的清洁结构,如中国台湾专利第419401号的“清洁用海绵辊子”,其是由具有弹性的聚乙烯醇缩乙醛系多孔质体海绵所构成,同时在侧部表面配设多数的突起,并使该突起的顶部旋转接触于被清洁体的清洁面来清洁被清洁体,其中该些突起呈现矩阵形式排列,而每一突起的顶部由光滑度高的表层部所形成;借此,可配合所需的致动机构以表面配设的多数突起,而达到清洁精密电子组件的功效。

又如中国台湾专利第i286096号的“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”,其包括可转动基座,其包括一内表面及一外表面;多孔垫材料,其覆盖该基座的至少一部分的外表面,以用于自基材移除材料;该多孔垫材料与该基座结合,而维持突出物于该多孔垫材料表面上的对准,且该些突出物在该多孔垫材料表面上呈现矩阵形式排列;借此,可配合所需的致动机构以突出物达到清洁精密电子组件的功效。

再如中国台湾专利第m362051号的“清洁结构”与第201347862号的“凹型结核海绵刷”,其包括一载体/刷具;以及多数清洁单元/结核,分别设于该载体/刷具的表面上而呈矩阵形式排列,且各清洁单元/结核的端面分别具有一凹弧部/凹型表面;借此,使各清洁单元/结核利用其端面凹弧部/凹型表面,而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。

虽然上述四种已知的“清洁用海绵辊子”、“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”、“清洁结构”与“凹型结核海绵刷”皆可用于清洁精密电子组件,但是由于该“清洁用海绵辊子”的突起呈现矩阵形式排列,而突起的顶部是由光滑度高的表层部所形成,且该突起的顶部为一平面;该“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”的突出物成型后亦为一平面且呈矩阵形式排列,因此,其二者于清洁时,无法有效接触原本即为不规则面的精密电子组件;而该“清洁结构”与“凹型结核海绵刷”的清洁单元/结核端面虽然设有凹弧部/凹型表面,可有效接触具有不规则面的精密电子组件,但其清洁单元/结核成型后亦呈矩阵形式排列,因此,此四者于清洁时,容易导致颗粒(particle)乱喷无方向性,无法将颗粒有方向性的清除之外,反而使颗粒可能会截留于清洁结构与精密电子组件之间,并刮擦精密电子组件而造成损害

另外,本案申请人曾针对上述已知技术提出一种如中国台湾专利第m576921号的“清洁刷结构”,其利用由数个清洁豆分别以螺旋形式定位排列于载体表面上的螺旋式清洁单元,可在水平式清洗运动时,将颗粒由一方推至另一方,虽然可较传统矩阵式清洁结构提供更有效的清洁效率,然而此结构的螺旋式清洁单元为单向螺旋式,仅能将脏污以单一水平方向性地推开,因此其平行方向的水流只能造成一个流场分布。

鉴此,本创作人留意于前述的问题点,而提供本创作,以可提升水流分布而获得更有效的清洁效率。



技术实现要素:

本实用新型的主要目的在于,克服已知技术所遭遇的上述问题,并提供一种清洁刷具结构,其利用由数个清洁豆分别以双向螺旋形式定位排列于载体表面上,以及以不等间距的方式沿一基线排列于该载体中心上的双向螺旋式清洁单元,当旋转时它就是兼具正、反方向,此双向螺旋式清洁单元会造成数个流场,除了对被清洗的物体有垂直方向,其还会有一个横的方向,变成是一个由中心向两端外侧推出的水流的流场,因此可较传统矩阵式清洁结构更容易把脏污排走,也较单向螺旋式清洁结构更能提升水流分布,进而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高等功效的目的。

为达以上目的,本实用新型所采用的技术方案是:一种清洁刷具结构,其包括一载体,该载体呈圆筒状,且其中央处具有套接部,以该套接部与致动机构组设;其特征在于,还包括双向螺旋式清洁单元,该双向螺旋式清洁单元由数个清洁豆分别以双向螺旋形式定位排列于该载体的表面上,而该载体中心的清洁豆则沿一基线以不等间距排列,形成数条由该载体的中心向两端外侧以不同方向螺旋盘绕的双向螺旋形,而该些清洁豆形成围绕该载体并自中心向两端外侧沿周向延伸的二环形螺旋曲线通道;当该致动机构带动该载体以该些清洁豆清洁电子组件时,附着于该载体上的液体或清洁剂可沿该环形螺旋曲线通道上数条螺旋切线方向排出。

所述各清洁豆的端面分别具有一中心下凹的凹弧部,且该凹弧部的曲率介于70%~99%之间。

所述载体与该双向螺旋式清洁单元由软性泡棉发泡一体成型制成。

所述清洁豆为圆柱体,或多边体,或者是圆柱体与多边体。

所述清洁豆自该载体表面向外突出一距离。

所述基线为直线,且该载体的轴向垂直于该基线。

附图说明

图1是本实用新型清洁刷具结构的立体示意图。

图2是本实用新型清洁刷具结构的使用状态示意图。标号对照:

清洁刷具结构100

基线101

载体1

套接部11

双向螺旋式清洁单元2

清洁豆21

环形螺旋曲线通道22、23

凹弧部24

电子组件3。

具体实施方式

请参阅图1及图2所示,分别为本实用新型清洁刷具结构的立体示意图、以及本实用新型清洁刷具结构的使用状态示意图。如图所示:本实用新型为一种清洁刷具结构100,其至少由一载体1以及一双向螺旋式清洁单元2所构成,而该载体1与该双向螺旋式清洁单元2可依所需以复合材料、海绵、聚胺甲酸酯(pu)、聚乙烯醇(pva)或高分子材料等不同的软性泡棉发泡一体成型制成。

上述所提的载体1呈一圆筒状,且其中央处具有一套接部11,以该套接部与致动机构(图中未示)组设。

该双向螺旋式清洁单元2布设于该载体1的外侧缘,其由数个清洁豆21分别以双向螺旋形式定位排列于该载体1的表面上,而在该载体1中心的清洁豆21则以不等间距的方式沿一基线101排列,该基线101为一直线,且该载体1的轴向垂直于该基线101,借此使该些清洁豆21形成数条由该载体1的中心向两端外侧以不同方向螺旋盘绕的双向螺旋形。该些清洁豆21自该载体1表面向外突出一距离,并形成围绕该载体1并自中心向两端外侧沿周向延伸的二环形螺旋曲线通道22、23,而各该清洁豆21的端面分别具有一中心下凹的凹弧部24,且各该凹弧部24的曲率介于70%~99%之间,其中各该清洁豆21可为圆柱体、多边体或其组合。如是,借由上述揭露结构构成一全新的清洁刷具结构。

当运用时,可使一个或多数个载体1利用其套接部11与相关的致动机构(图中未示)组装,使该致动机构以滚动的方式带动该载体1,并依所需的清洁状态及位置移动该致动机构,使载体1外侧缘上双向螺旋式清洁单元2的各清洁豆21与相关精密电子组件3的表面接触进行所需的清洁。于一较佳实施例中,如图2所示,在清洗运动时,假设精密电子组件3(如:晶圆)在原位会以顺时钟或逆时钟方向转,具双向螺旋式清洁单元2的圆筒状载体1也会旋转,以不同方向螺旋盘绕为双向螺旋形的双向螺旋式清洁单元2可以将脏污(如:颗粒)利用数个清洁豆21所形成围绕该载体1并自中心向两端外侧沿周向延伸的二环形螺旋曲线通道22、23,由载体1中心向两端外侧推出(如图2中水平粗黑箭头所示),可以将脏污具方向性的由中心向外推开,提供更有效的清洁效率,并且附着于该载体1上的液体或清洁剂可沿该环形螺旋曲线通道22、23上数条螺旋切线方向排出(如图2中倾斜粗黑箭头所示),可提升水流分布,进而大幅降低截留于清洁刷具结构100与电子组件3之间的颗粒;此外,由于各清洁豆21端面所设凹弧部24的曲率介于70%~99%之间,因此,更可于各清洁豆21使用时达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。

综上所述,本实用新型的清洁刷具结构,可有效改善现有技术的种种缺点,利用由数个清洁豆分别以双向螺旋形式定位排列于载体表面上,以及以不等间距的方式沿一基线排列于该载体中心上的双向螺旋式清洁单元,当旋转时它就是兼具正、反方向,此双向螺旋式清洁单元会造成数个流场,除了对被清洗的物体有垂直方向,其还会有一个横的方向,变成是一个由中心向两端外侧推出的水流的流场,因此可较传统矩阵式清洁结构更容易把脏污排走,也较单向螺旋式清洁结构更能提升水流分布,进而使本实用新型能产生更进步、更实用、更符合使用者所须,确已符合实用新型专利申请的要件,依法提出专利申请。

但以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例而已,当不能以此限定本实用新型实施的范围。故,凡依本实用新型申请专利范围及新型说明书内容所作的简单的等效变化与修饰,皆应仍属本实用新型专利涵盖的范围内。

再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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