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一种碳化硅粉料的合成方法与流程

2021-10-09 02:29:00 来源:中国专利 TAG:碳化硅 合成 特别 方法

技术特征:
1.一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,包括如下步骤:将高纯碳粉和高纯硅粉进行混合,并装入石墨坩埚内,其中所述石墨坩埚内设有氟化石墨内衬,将所述石墨坩埚放置炉腔内;将所述炉腔升温,并在升温过程中,向所述炉腔内通入氢气与惰性气体的混合气体,且所述氟化石墨内衬分解释放含氟气体;抽出所述炉腔内的气体,使所述高纯碳粉和所述高纯硅粉反应,得到中间相产物;将所述炉腔升温,使所述中间相产物反应生成碳化硅粉料。2.根据权利要求1所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,所述高纯碳粉和所述高纯硅粉的摩尔比为1:1~1:1.2。3.根据权利要求1所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,所述氟化石墨内衬的厚度为2~10mm。4.根据权利要求1所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,还包括如下步骤:将所述炉腔内温度从室温升至第一温度,其中,所述第一温度为400~600℃,且在升温过程中多次对炉腔进行充惰性气体及抽真空。5.根据权利要求4所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,将所述炉腔温度从所述第一温度升至第二温度,且在此期间向所述炉腔内通入氢气与惰性气体的混合气体,所述第二温度为1050~1150℃。6.根据权利要求5所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,所述氢气与所述惰性气体的体积比为3:1~5:1。7.根据权利要求5所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,在第二温度时,所述炉腔内的气体包括氢气、氮气、氟气及反应生产的氟化氢、气态氟化硅、氨气。8.根据权利要求1所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,所述高纯碳粉和所述高纯硅粉在炉腔真空度小于6

10
‑6mbar时,且在第三温度下反应6~10h,制得所述中间相产物,其中,所述第三温度为1150~1300℃。9.根据权利要求8所述的一种碳化硅粉料的合成方法,其特征在于,所述中间相产物在第四温度下反应20~30h,制得碳化硅粉料,且所述第四温度为2000~2200℃。10.一种碳化硅粉料的合成装置,其特征在于,所述碳化硅粉料的合成装置用于执行权利要求1至权利要求9任一项所述碳化硅粉料的合成方法,且所述碳化硅粉料的合成装置包括:所述石墨坩埚,内设有所述氟化石墨内衬;以及石墨盖,连接所述石墨坩埚上,以形成反应腔。

技术总结
本发明公开了一种碳化硅粉料的合成方法,包括:通过将高纯碳粉和高纯硅粉进行混合,并装入石墨坩埚内,其中石墨坩埚内设有氟化石墨内衬,将所述石墨坩埚放置炉腔内;将所述炉腔升温,并在升温过程中,向所述炉腔内通入氢气与惰性气体的混合气体,且所述氟化石墨内衬分解释放含氟气体;抽出所述炉腔内的气体,使所述高纯碳粉和所述高纯硅粉反应,得到中间相产物;将所述炉腔升温,使所述中间相产物反应生成碳化硅粉料。通过本发明提供的一种碳化硅粉料合成方法,能够得到高纯度的碳化硅粉料。能够得到高纯度的碳化硅粉料。能够得到高纯度的碳化硅粉料。


技术研发人员:陈豆 关承浩 周玉洁 潘尧波
受保护的技术使用者:中电化合物半导体有限公司
技术研发日:2021.08.20
技术公布日:2021/10/8
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