一种胶层可控的纳米压印设备的制作方法

1.本实用新型涉及纳米印刷技术领域，具体为一种胶层可控的纳米压印设备。


背景技术：

2.纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术，该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段，这项技术最初由美国普林斯顿大学的stephen.y.chou (周郁)教授在20世纪90年代中期发明，两个参数决定了纳米压印的最终质量：1.压印最终胶层的厚度；2.整片胶层厚度的均匀性，以上两个指标很难获得，需要主动控制基片和pet的距离，现有技术中的纳米印刷设备存在一定的缺陷，比如，不能精确的控制压印的最终胶层厚度，同样无法保证胶层的平整度和均匀性，因此需要一种新型的胶层可控的纳米压印设备，来解决上述问题。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种胶层可控的纳米压印设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种胶层可控的纳米压印设备，包括设备壳体、印压装置和膜厚控制装置，所述印压装置包括，压印杆和台盘，所述设备壳体的上端固定安装所述台盘，所述台盘的上端表面均设有一组真空槽，所述一组真空槽的每个真空槽内均设有真空孔，所述一组真空槽的上端活动安装有基片，所述膜厚控制装置包括，挡块、定位销、升降杆和升降电机，所述台盘的上下两侧均设有一组所述定位销，所述定位销的上端固定安装所述挡块，所述台盘的下端固定安装所述升降电机，所述升降电机的输出端固定安装所述升降杆。
5.优选的，所述基片的上端活动安装有pet杆，所述pet杆的上端滑动安装所述压印杆。
6.优选的，所述压印杆的长度大于所述台盘的宽度，所述pet杆的尺寸大于所述基片的尺寸，且宽度小于所述压印杆的长度。
7.优选的，所述定位销的下端固定连接所述升降杆，所述挡块的下端左右两侧均固定安装有限位块。
8.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该胶层可控的纳米压印设备，结构简单、操作方便，通过合理的压印装置和膜后控制装置配合操作，精确控制压印最终胶层的厚度，并保证胶层的平整度和均匀性。
附图说明
9.图1为本实用新型的正视图；
10.图2为本实用新型的侧视图；
11.图3为本实用新型的俯视图。
12.图中：10设备壳体、1印压装置、11压印杆、12台盘、13一组真空槽、 14真空孔、2膜后控制装置、21挡块、22定位销、23升降杆、24升降电机、 25限位块、3pet杆、4胶体、5基片。
具体实施方式
13.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
14.请参阅图1、图2和图3，本实用新型提供一种技术方案：一种胶层可控的纳米压印设备，包括设备壳体10、印压装置1和膜厚控制装置2，所述印压装置1包括，压印杆11和台盘12，所述设备壳体10的上端固定安装所述台盘12，所述台盘12的上端表面均设有一组真空槽13，所述一组真空槽13的每个真空槽内均设有真空孔14，所述一组真空槽13的上端活动安装有基片5，所述膜厚控制装置2包括，挡块21、定位销22、升降杆23和升降电机24，所述台盘12的上下两侧均设有一组所述定位销22，所述定位销22的上端固定安装所述挡块 21，所述台盘12的下端固定安装所述升降电机24，所述升降电机24的输出端固定安装所述升降杆23；
15.具体的，所述台盘12固定安装在所述设备壳体10上，用于承载和固定所述基片5，所述台盘12的上端表面设置有多种尺寸的正方形和圆形的所述一组真空槽(如附图3所示)，每一个形状尺寸的所述一组真空槽13的真空槽内均对应设有一个所述真空孔14，所述真空孔14通过气管与传统的真空泵连接，通过真空泵抽真空将所述一组真空槽形成负压装置，将所述基片固定在所述一组真空槽上，所述升降电机24安装在所述台盘下端的地面上，用于驱动所述升降杆23升降，所述升降电机为传统的型号为pa200的升降电机，所述台盘 12的上下两侧沿着侧边均匀设有所述定位销22，通过所述定位销固定安装所述挡块21，用于定位挡块21于所述台盘12的相对位置，所述定位销的下端连接所述升降杆，所述升降电机即可推动所述挡块上下移动，所述挡块的不易变形、耐腐蚀和不易磨损的不锈钢材质。
16.所述基片5的上端活动安装有pet杆3，所述pet杆3的上端滑动安装所述压印杆11；
17.具体的，所述基片5的上端活动安装所述pet杆3，所述压印杆11设置在所述台盘12的上方，用于将所述pet杆3压在涂有胶体的所述基片5上。
18.所述压印杆11的长度大于所述台盘12的宽度，所述pet杆3的尺寸大于所述基片5的尺寸，且宽度小于所述压印杆11的长度。
19.所述定位销22的下端固定连接所述升降杆23，所述挡块21的下端左右两侧均固定安装有限位块25；
20.具体的，所述定位销22的下端固定连接所述升降杆23，所述定位销的下端连接所述升降杆，所述升降电机即可推动所述挡块上下移动，所述限位块 25用于限制所述挡块的位置。
21.工作过程：升降电机带动挡块移动到限位块上方，记录原点位置，当挡块回到原点位置，挡块的上表面与台盘的上表面齐平；将旋涂有纳米压印胶体的基片放置在台盘对应尺寸的真空槽上方，基片完全覆盖其尺寸的真空槽，真空泵开始工作，通过气管和真空孔与真空槽相连，在真空槽内形成负压，固定基片；将pet杆的两端固定，置于台盘上方；将纳米
压印用的胶体点在基片的中心处，完成点胶动作；根据最终的胶层的厚度及基片的厚度，两者相加的厚度，即为挡块上表面相对于台盘上表面向上移动的距离，确认压印厚度；pet杆的一端下降至压印最终位置，另一端抬起；压印杆下降到pet 杆较低的一端的上表面。压印杆慢慢向pet杆的另一侧移动，pet杆较高一端慢慢下降，直至pet较高的一端也下降到最总的压印位置；通过挡块控制 pet杆和基片之间的距离，控制胶层厚度和均匀度。
22.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
23.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。


技术特征：
1.一种胶层可控的纳米压印设备，包括设备壳体(10)、印压装置(1)和膜厚控制装置(2)，其特征在于：所述印压装置(1)包括，压印杆(11)和台盘(12)，所述设备壳体(10)的上端固定安装所述台盘(12)，所述台盘(12)的上端表面均设有一组真空槽(13)，所述一组真空槽(13)的每个真空槽内均设有真空孔(14)，所述一组真空槽(13)的上端活动安装有基片(5)，所述膜厚控制装置(2)包括，挡块(21)、定位销(22)、升降杆(23)和升降电机(24)，所述台盘(12)的上下两侧均设有一组所述定位销(22)，所述定位销(22)的上端固定安装所述挡块(21)，所述台盘(12)的下端固定安装所述升降电机(24)，所述升降电机(24)的输出端固定安装所述升降杆(23)。2.根据权利要求1所述的一种胶层可控的纳米压印设备，其特征在于：所述基片(5)的上端活动安装有pet杆(3)，所述pet杆(3)的上端滑动安装所述压印杆(11)。3.根据权利要求2所述的一种胶层可控的纳米压印设备，其特征在于：所述压印杆(11)的长度大于所述台盘(12)的宽度，所述pet杆(3)的尺寸大于所述基片(5)的尺寸，且宽度小于所述压印杆(11)的长度。4.根据权利要求1所述的一种胶层可控的纳米压印设备，其特征在于：所述定位销(22)的下端固定连接所述升降杆(23)，所述挡块(21)的下端左右两侧均固定安装有限位块(25)。

技术总结
本实用新型公开了一种胶层可控的纳米压印设备，包括设备壳体、印压装置和膜厚控制装置，印压装置包括，压印杆和台盘，设备壳体的上端固定安装台盘，台盘的上端表面均设有一组真空槽，一组真空槽的每个真空槽内均设有真空孔，一组真空槽的上端活动安装有基片，膜厚控制装置包括，挡块、定位销、升降杆和升降电机，台盘的上下两侧均设有一组定位销，定位销的上端固定安装挡块，台盘的下端固定安装升降电机，升降电机的输出端固定安装升降；该胶层可控的纳米压印设备，结构简单、操作方便，通过合理的压印装置和膜后控制装置配合操作，精确控制压印最终胶层的厚度，并保证胶层的平整度和均匀性。均匀性。均匀性。


技术研发人员：冀然
受保护的技术使用者：青岛天仁微纳科技有限责任公司
技术研发日：2021.04.01
技术公布日：2021/10/18