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喷嘴装置及基板处理装置的制作方法

2021-10-12 19:52:00 来源:中国专利 TAG:液体 发明 装置 基板 用于

技术特征:
1.一种喷嘴装置,所述喷嘴装置包括:喷嘴主体,其包括喷嘴头,所述喷嘴头具有用于将处理液喷射到基板上的排出口;喷嘴移动单元,其用于使所述喷嘴主体相对于基板移动;旋转部件,其用于使所述喷嘴主体或所述喷嘴头旋转以使处理液在旋转的同时喷射到基板上;以及控制单元,其用于控制所述喷嘴移动单元和所述旋转部件的操作。2.根据权利要求1所述的喷嘴装置,其中,所述排出口为狭缝形状,并且设置成相对于基板表面倾斜预定角度地喷射处理液。3.根据权利要求2所述的喷嘴装置,其中,所述喷嘴主体或所述喷嘴头的旋转对应于处理液的排出方向。4.一种基板处理装置,所述基板处理装置包括:支撑部件,其布置有基板并且沿一个方向旋转;喷嘴装置,其具有喷嘴主体,所述喷嘴主体用于将处理液从所述支撑部件的上部喷射到基板上,其中,所述喷嘴主体在扫描移动和旋转的同时将处理液喷射到所述基板上。5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴主体沿与所述支撑部件的旋转方向相反的方向旋转。6.根据权利要求4所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴主体具有以狭缝形状设置的排出口。7.根据权利要求4所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴主体设置有沿一个方向布置有排出口的多个孔。8.根据权利要求6所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴装置还包括用于使所述喷嘴主体旋转的旋转部件。9.根据权利要求4或8所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴主体具有喷嘴头,所述喷嘴头相对于基板表面倾斜预定角度地喷射化学溶液。10.根据权利要求4所述的基板处理装置,所述基板处理装置还包括:喷嘴移动单元,其用于使所述喷嘴主体相对于所述支撑部件移动;以及控制单元,其控制所述喷嘴移动单元的操作,其中,所述喷嘴主体包括:喷嘴头,所述喷嘴头具有排出口,所述排出口以绕旋转轴可旋转的方式设置在所述喷嘴主体上并且所述排出口的横截面形状形成为狭缝形状;以及旋转部件,其用于使所述喷嘴头旋转,其中,所述控制单元控制所述喷嘴移动单元和所述旋转部件的操作,从而在使所述喷嘴主体在所述基板上移动的同时从旋转的所述喷嘴头的所述排出口排出化学溶液。11.根据权利要求10所述的基板处理装置,其中,所述旋转轴对应于所述排出口的排出方向,所述排出口为狭缝形状,并且设置成相对于基板表面倾斜预定角度地喷射化学溶液。12.一种基板处理装置,所述基板处理装置包括:
壳体,在其内部形成有处理空间;支撑部件,其设置在所述处理空间内并且用于支撑和旋转所述基板;以及喷嘴装置,其用于将处理液喷射到由所述支撑部件支撑的基板上,其中,所述喷嘴装置包括:喷嘴主体,在其底面上形成有狭缝形状的排出口;以及流路,其形成在所述喷嘴主体的内部并与所述排出口连接,并且所述处理液通过所述流路移动,其中,所述排出口被设置为可旋转。13.根据权利要求12所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴主体的所述底表面包括:面对由所述支撑部件支撑的所述基板的第一表面;以及形成为相对于所述第一表面倾斜预定角度的第二表面,其中,所述排出口形成在所述第二表面上。14.根据权利要求13所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴装置包括设置在所述第二表面上的喷嘴头,所述排出口形成在所述喷嘴头上。15.根据权利要求14所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴装置包括用于使所述喷嘴头旋转的旋转部件,通过由所述旋转部件旋转的所述喷嘴头使所述排出口旋转,从所述排出口排出的处理液以狭缝形状排出,并且通过旋转的所述喷嘴头以接近圆形的形状排出到由所述支撑部件支撑的所述基板上。16.根据权利要求13所述的基板处理装置,其中,所述喷嘴装置包括使所述喷嘴主体旋转的旋转部件,通过由所述旋转部件旋转的所述喷嘴主体使所述排出口旋转,从所述排出口排出的处理液以狭缝形状排出,并且通过旋转的所述喷嘴主体以接近圆形的形状排出到由所述支撑部件支撑的所述基板上。17.根据权利要求12所述的基板处理装置,其中,从所述排出口排出的所述处理流体相对于由所述支撑部件支撑的所述基板的表面以预定角度倾斜地排出。18.根据权利要求12所述的基板处理装置,其中,所述流路包括:第一流路,所述第一流路形成在与所述喷嘴主体的长度方向平行的方向上;以及第二流路,所述第二流路的一端与所述第一流路连接,并且形成在与所述长度方向不同的方向上,所述第二流路的另一端连接至所述排出口。19.根据权利要求12至18中任一项所述的基板处理装置,其中,所述排出口沿与所述基板的旋转方向相反的方向旋转。20.根据权利要求12至18中任一项所述的基板处理装置,其中,所述处理液包含显影剂。

技术总结
本发明提供了一种喷嘴装置。所述喷嘴装置包括:喷嘴主体,包括喷嘴头,所述喷嘴头具有用于将处理液喷射到基板上的排出口;喷嘴移动单元,用于使所述喷嘴主体相对于基板移动;旋转部件,用于使所述喷嘴主体或所述喷嘴头旋转以使处理液在旋转的同时喷射到基板上;以及控制单元,用于控制所述喷嘴移动单元和所述旋转部件的操作。件的操作。件的操作。


技术研发人员:朴珉贞
受保护的技术使用者:细美事有限公司
技术研发日:2021.04.08
技术公布日:2021/10/11
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