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用于贵金属还原提取的搅拌装置的制作方法

2021-10-19 22:58:00 来源:中国专利 TAG:搅拌 装置 贵金属 提取 还原

1.本实用新型涉及一种搅拌装置,特别是涉及一种用于贵金属还原提取的搅拌装置。


背景技术:

2.目前全球发现的贵重金属中,绝大多数需要在自然界中进行提炼提取。大部分的贵重金属在自然界中以氧化物形式存在,需要先将金属矿石进行溶解制作为溶液,在溶液中将贵金属进行还原提取。
3.含贵金属废催化剂此类的贵金属二次资源综合利用工业中,需要将贵金属溶解为离子态,再加入还原金属,将溶液中的贵金属离子置换为单质,提取出来。
4.使用普通金属置换还原贵重金属,由于是固液反应,存在接触不充分,溶液中的贵金属还原不彻底;所得到的贵金属单质中混杂有未反应的还原金属,还需要反复再提纯。


技术实现要素:

5.有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种用于贵金属还原提取的搅拌装置,可以有效保证在还原反应中固液相的充分接触反应,还原反应后溶液中贵金属含量低于5ppm,还原得到的贵金属中还原金属杂质低于0.1%。
6.为了达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:一种用于贵金属还原提取的搅拌装置,包括有数个托盘、底架和隔离支撑杆构成,数个托盘依次由下向上通过隔离支撑杆等距设置在底架上,在托盘上设置有若干透孔,在托盘外沿设置有向上凸起的凸棱。
7.作为进一步的技术方案,所述透孔直径为2mm

10mm,所述透孔数量为50
ꢀ‑
100个/m
2 ,所述凸棱向上凸起的高度为5mm

10mm。
8.作为进一步的技术方案,两个相邻托盘之间的距离与托盘直径的比值为1:1~1:10。
9.作为进一步的技术方案,所述底架由环形底座、一字形底座和底座支撑杆构成,所述环形底座水平设置,一字形底座穿过环形底座中心,一字形底座两端分别与环形底座相对应位置相连接,三个底座支撑杆上部设置有向外伸出的底架支撑台,三个底座支撑杆直线分布 ,位于中间的底座支撑杆固定设置在环形底座中心位置的一字形底座上,位于两侧的底座支撑杆分别固定设置在环形底座上,所述托盘上表面设置有三个直线分布的安装孔,位于最下位置的托盘设置在底架上,托盘上三个安装孔套装在底架上的三个底座支撑杆上,托盘下面分别抵压在三个底座支撑杆的底架支撑台上。
10.作为进一步的技术方案,所述隔离支撑杆上部设置有向外伸出的隔离支撑台,数个隔离支撑杆上端分别插装在托盘的安装孔中,隔离支撑台抵压在托盘下面上,隔离支撑杆下端插装在底架的底座支撑杆上端中或插装在位于下方位置的隔离支撑杆上端中。
11.作为进一步的技术方案,还包括有水平连杆,所述水平连杆分别水平连接在底架
的底座支撑杆侧壁上。
12.采用上述技术方案后的有益效果是:一种用于贵金属还原提取的搅拌装置,通过本技术方案,利用多层多孔托盘的设计方案,能够起到固液反应的搅拌效果,还原金属多层分布,不易团聚,充分增加还原金属粉末与含贵金属溶液的接触面积,延长金属粉末在溶液中的停留时间,有效防止还原金属粉末沉积在反应液底部,阻碍还原反应进行,通过大量的实验证明,能够很好的解决还原金属使用过量,提取得到的贵金属中混杂还原金属,需要反复提纯等问题,可用于含贵金属溶液的还原提取工艺中,还原率一次性达到99%以上,并且通过大量实际试验数据表明,贵重金属溶液还原提取时,贵金属的提取率提高了约20%,提高效率节省时间约为一半以上,节省操作步骤、节能降耗约三分之一。
附图说明
13.图1为本实用新型的整体结构示意图。
14.图2为图1的俯视结构示意图。
15.图3为本实用新型中底架的俯视剖视结构示意图。
16.图中,1托盘、2底架、3隔离支撑杆、4透孔、5凸棱、6环形底座、7一字形底座、8底座支撑杆、9底架支撑台、10安装孔、11隔离支撑台、12水平连杆。
具体实施方式
17.下面将结合附图对本实用新型中具体实施例作进一步详细说明。
18.如图1一图3所示,本实用新型涉及的用于贵金属还原提取的搅拌装置,包括有数个托盘1、底架2和隔离支撑杆3构成,数个托盘1依次由下向上通过隔离支撑杆3等距设置在底架2上,在托盘1上设置有若干透孔4,在托盘1外沿设置有向上凸起的凸棱5。
19.作为进一步的实施例,所述透孔4直径为4mm

6mm,在托盘1直径为2m的情况下,透孔4数量为300个,所述凸棱5向上凸起的高度为5mm

10mm。
20.作为进一步的实施例,在托盘1直径为2m的情况下,两个相邻托盘1之间的距离为200 mm
ꢀ‑
300mm。
21.作为进一步的实施例,所述底架2由环形底座6、一字形底座7和底座支撑杆8构成,所述环形底座6水平设置,一字形底座7穿过环形底座6中心,一字形底座7两端分别与环形底座6相对应位置相连接,三个底座支撑杆8上部设置有向外伸出的底架支撑台9,三个底座支撑杆8直线分布 ,位于中间的底座支撑杆8固定设置在环形底座6中心位置的一字形底座7上,位于两侧的底座支撑杆8分别固定设置在环形底座6上,所述托盘1上表面设置有三个直线分布的安装孔10,位于最下位置的托盘1设置在底架2上,托盘1上三个安装孔10套装在底架2上的三个底座支撑杆8上,托盘1下面分别抵压在三个底座支撑杆8的底架支撑台9上。
22.作为进一步的实施例,所述隔离支撑杆3上部设置有向外伸出的隔离支撑台11,数个隔离支撑杆3上端分别插装在托盘1的安装孔10中,隔离支撑台11抵压在托盘1下面上,隔离支撑杆3下端插装在底架2的底座支撑杆8上端中或插装在位于下方位置的隔离支撑杆3上端中。
23.作为进一步的实施例,还包括有水平连杆12,所述水平连杆12分别水平连接在底架2的底座支撑杆8侧壁上。
24.本实用新型的实施例中,通过凸棱5的设置有效的防止金属粉从托盘1四周洒落;在设置托盘1为3

4层的情况下,经过实际验证,贵重金属提取率提高了22%

27%,提取效率提高了34%

55%。
25.本实用新型中为了避免搅拌装置与溶液发生反应,搅拌装置全部材料采用聚四氟乙烯、聚丙烯、尼龙、搪瓷和玻璃等材料制成。
26.以上所述,仅为本实用新型的较佳可行实施例而已,并非用以限定本实用新型的保护范围。


技术特征:
1.一种用于贵金属还原提取的搅拌装置,其特征在于,包括有数个托盘、底架和隔离支撑杆构成,数个托盘依次由下向上通过隔离支撑杆等距设置在底架上,在托盘上设置有若干透孔,在托盘外沿设置有向上凸起的凸棱。2.根据权利要求1所述的用于贵金属还原提取的搅拌装置,其特征在于,所述透孔直径为2mm

10mm,所述透孔数量为50
ꢀ‑
100个/m
2 ,所述凸棱向上凸起的高度为5mm

10mm。3.根据权利要求1所述的用于贵金属还原提取的搅拌装置,其特征在于,两个相邻托盘之间的距离与托盘直径的比值为1:1~1:10。4.根据权利要求1所述的用于贵金属还原提取的搅拌装置,其特征在于,所述底架由环形底座、一字形底座和底座支撑杆构成,所述环形底座水平设置,一字形底座穿过环形底座中心,一字形底座两端分别与环形底座相对应位置相连接,三个底座支撑杆上部设置有向外伸出的底架支撑台,三个底座支撑杆直线分布 ,位于中间的底座支撑杆固定设置在环形底座中心位置的一字形底座上,位于两侧的底座支撑杆分别固定设置在环形底座上,所述托盘上表面设置有三个直线分布的安装孔,位于最下位置的托盘设置在底架上,托盘上三个安装孔套装在底架上的三个底座支撑杆上,托盘下面分别抵压在三个底座支撑杆的底架支撑台上。5.根据权利要求1或4所述的用于贵金属还原提取的搅拌装置,其特征在于,所述隔离支撑杆上部设置有向外伸出的隔离支撑台,数个隔离支撑杆上端分别插装在托盘的安装孔中,隔离支撑台抵压在托盘下面上,隔离支撑杆下端插装在底架的底座支撑杆上端中或插装在位于下方位置的隔离支撑杆上端中。6.根据权利要求4所述的一种用于贵金属还原提取的搅拌装置,其特征在于,还包括有水平连杆,所述水平连杆分别水平连接在底架的底座支撑杆侧壁上。

技术总结
本实用新型涉及的用于贵金属还原提取的搅拌装置,包括有数个托盘、底架和隔离支撑杆构成,数个托盘依次由下向上通过隔离支撑杆等距设置在底架上;通过本技术方案,利用多层多孔托盘的设计方案,能够起到固液反应的搅拌效果,还原金属多层分布,不易团聚,充分增加还原金属粉末与含贵金属溶液的接触面积,延长金属粉末在溶液中的停留时间,有效防止还原金属粉末沉积在反应液底部,阻碍还原反应进行,可用于含贵金属溶液的还原提取工艺中,还原率一次性达到99%以上,并且通过大量实际试验数据表明,贵重金属溶液还原提取时,贵金属的提取率提高了20%以上,提高效率节省时间约为一半以上,节省操作步骤、节能降耗约三分之一。节能降耗约三分之一。节能降耗约三分之一。


技术研发人员:常怀春 宋望一 夏春华 周霞 刘楠 高红恩 齐文龙 贺永梅 陈伟元 武峻峰
受保护的技术使用者:山东华鲁恒升化工股份有限公司
技术研发日:2021.01.11
技术公布日:2021/10/18
再多了解一些

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