一种五辊镀膜系统的制作方法

1.本实用新型涉及镀膜加工技术领域，具体为一种五辊镀膜系统。


背景技术：

2.采用镀膜，能够有效的减少反射，提高透光率以及影像的质量，镀膜是根据光学的干涉原理，在表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质，使这一波长的色光的反射降至最低，从而有效的进行透光，常用的卷膜一般需要进行镀膜处理；
3.而现有技术背景下的镀膜加工处理系统，在进行加工使用时，仍存在一定的弊端，其不便于保证膜卷的整体稳定，不利于避免镀膜鼓的污染，容易导致镀膜作业受影响，同时不利于保证镀层的稳定、均匀以及牢固性，不利于保证卷膜的展平，不便于调节作业使用，因此，我们提出一种五辊镀膜系统，以便于解决上述中提出的问题。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种五辊镀膜系统，以解决上述背景技术提出的目前的镀膜加工处理系统，在进行加工使用时，不便于保证膜卷的整体稳定，不利于避免镀膜鼓的污染，容易导致镀膜作业受影响，同时不利于保证镀层的稳定、均匀以及牢固性，不利于保证卷膜的展平，不便于调节作业使用的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种五辊镀膜系统，包括机箱、膜、蒸发源和传动带，所述机箱的内侧设置有膜，且膜的顶端连接有放膜卷系统，所述放膜卷系统的右侧设置有第一导向辊，所述第一导向辊的上方设置有前水冷镀膜鼓，且第一导向辊与前水冷镀膜鼓之间安装有等离子器，所述前水冷镀膜鼓的右侧设置有隔板，且隔板的内部设置有蒸发源，所述蒸发源的底部设置有底箱，且蒸发源与底箱之间连接有调节螺栓，所述蒸发源的外侧设置有吹气管，且吹气管的顶部外侧连接有吹气嘴，所述隔板的上方设置有后水冷镀膜鼓，且后水冷镀膜鼓的左侧上方设置有水冷张力辊，所述水冷张力辊的左侧安装有摆架结构，且摆架结构的底部设置有第二导向辊，所述摆架结构的左侧设置有第三导向辊，且摆架结构的顶部安装有光电开关，所述摆架结构的左侧设置有收膜卷系统。
6.优选的，所述膜对应依次连接在放膜卷系统、第一导向辊、等离子器、前水冷镀膜鼓、后水冷镀膜鼓、水冷张力辊、第二导向辊、第三导向辊和收膜卷系统之间。
7.优选的，所述放膜卷系统和收膜卷系统均由气胀轴、动力装置和传动装置构成，且气胀轴通过传动装置与动力装置之间构成传动机构。
8.优选的，所述等离子器为辉光放电装置，且等离子器的温度为70℃。
9.优选的，所述等离子器通过氩气将等离子体打到膜的表面，进行膜的表面预处理，且等离子器通过氧气助燃，将膜的表面的细毛通过等离子体烧掉。
10.优选的，所述前水冷镀膜鼓和后水冷镀膜鼓的内部均通冷却液，且膜通过前水冷镀膜鼓进入到隔板的内部，并且隔板与前水冷镀膜鼓和后水冷镀膜鼓之间对应开设有缝隙。
11.优选的，所述蒸发源在底箱的上方等间距设置，且蒸发源通过调节螺栓与底箱之间构成升降结构，并且蒸发源的温度大于1000℃。
12.优选的，所述吹气管的末端对应连接有吹气装置，且吹气管的顶端等间距安装有吹气嘴，且吹气嘴对应插接在蒸发源的内侧。
13.优选的，所述后水冷镀膜鼓通过传动带与前水冷镀膜鼓和水冷张力辊之间均构成连动结构，且传动带的内侧对应设置有速度传感器。
14.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该五辊镀膜系统：
15.1.本方案中前水冷镀膜鼓和后水冷镀膜鼓通过同步带拉着，行成完全的同步；
16.2.本方案中膜在前后镀膜鼓中间，不会污染镀膜鼓，不是直接蒸镀在镀膜鼓上，这样设计大大减少镀膜鼓的污染；
17.3.本方案中所蒸镀的物质残留不会粘连的膜上。因为前镀膜鼓右侧有隔板，隔板有小缝，小缝隙，在真空度达到e
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2pa的时候形成密封，所以说蒸镀物也不能飞到镀膜鼓上，形成污染，同理，后镀膜鼓也是有小缝隙，也形成不了污染；
18.4.本方案中膜前后均有镀膜鼓，形成悬浮结构，这样镀膜的时候消除膜上的镀空线；
19.5.本方案中有等离子，并且有前镀膜鼓，可以使等离子发生的热量，消除，使得膜镀的更牢固，更均匀，并且前后镀膜鼓，还有张力辊都冷热可调节，可分别调节，可以使膜在蒸镀过程中，保持恒定的温度，达到不变形的效果；
20.6.本方案中前镀膜鼓和后镀膜鼓放在盛有膜卷的一侧，没有在蒸镀侧，不会有污染物存在，这样设计，使得蒸镀空间可以缩小，可以使蒸镀室抽空效果更好，减少抽真空的浪费，并且，蒸镀室空间小了，清洁更方便，快捷；
21.7.本方案中前镀膜鼓和后镀膜鼓的进冷却液可以随时调节，并且前镀膜鼓设计的小一些，可以调节，把需要蒸镀的膜的热量达到室温，使膜处于最佳展平状态，因为膜有热缩冷涨的原理，调节温度，可以使膜展平；
22.8.本方案中蒸发源高度可以调节，根据真空度和镀膜的牢固程度，达到最好的效果；
23.9.本方案中向蒸发源吹气，氧气，可以与蒸发的铝起到氧化反应，形成三氧化二铝，保证三氧化二铝是纯净的，以保证镀膜质量。
附图说明
24.图1为本实用新型正面剖切结构示意图；
25.图2为本实用新型展开结构示意图；
26.图3为本实用新型图2中a部放大结构示意图；
27.图4为本实用新型图2中b部放大结构示意图；
28.图5为本实用新型工作流程示意图。
29.图中：1、机箱；101、膜；2、放膜卷系统；201、气胀轴；202、动力装置；203、传动装置；3、第一导向辊；4、等离子器；5、前水冷镀膜鼓；6、隔板；7、蒸发源；8、调节螺栓；9、底箱；10、吹气管；11、吹气嘴；12、后水冷镀膜鼓；13、水冷张力辊；14、摆架结构；15、第二导向辊；16、第三导向辊；17、光电开关；18、收膜卷系统；19、速度传感器；20、传动带。
具体实施方式
30.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
31.请参阅图1
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5，本实用新型提供一种技术方案：一种五辊镀膜系统，包括机箱1、膜101、放膜卷系统2、气胀轴201、动力装置202、传动装置203、第一导向辊3、等离子器4、前水冷镀膜鼓5、隔板6、蒸发源7、调节螺栓8、底箱9、吹气管10、吹气嘴11、后水冷镀膜鼓12、水冷张力辊13、摆架结构14、第二导向辊15、第三导向辊16、光电开关17、收膜卷系统18、速度传感器19和传动带20，机箱1的内侧设置有膜101，且膜101的顶端连接有放膜卷系统2，放膜卷系统2的右侧设置有第一导向辊3，第一导向辊3的上方设置有前水冷镀膜鼓5，且第一导向辊3与前水冷镀膜鼓5之间安装有等离子器4，前水冷镀膜鼓5的右侧设置有隔板6，且隔板6的内部设置有蒸发源7，蒸发源7的底部设置有底箱9，且蒸发源7与底箱9之间连接有调节螺栓8，蒸发源7的外侧设置有吹气管10，且吹气管10的顶部外侧连接有吹气嘴11，隔板6的上方设置有后水冷镀膜鼓12，且后水冷镀膜鼓12的左侧上方设置有水冷张力辊13，水冷张力辊13的左侧安装有摆架结构14，且摆架结构14的底部设置有第二导向辊15，摆架结构14的左侧设置有第三导向辊16，且摆架结构14的顶部安装有光电开关17，摆架结构14的左侧设置有收膜卷系统18。
32.如图1中膜101对应依次连接在放膜卷系统2、第一导向辊3、等离子器4、前水冷镀膜鼓5、后水冷镀膜鼓12、水冷张力辊13、第二导向辊15、第三导向辊16和收膜卷系统18之间，便于进行膜101的传输，便于进行蒸镀使用。
33.如图1、图2和图3中放膜卷系统2和收膜卷系统18均由气胀轴201、动力装置202和传动装置203构成，且气胀轴201通过传动装置203与动力装置202之间构成传动机构，便于进行膜101的放卷和收卷作业，以保证稳定加工，且膜101通过放膜卷系统2的放卷后，通过第一导向辊3把膜101的方向固定，而后经过等离子器4进行处理，等离子器4为辉光放电装置，且等离子器4的温度为70℃，等离子器4通过氩气将等离子体打到膜101的表面，进行膜101的表面预处理，且等离子器4通过氧气助燃，将膜101的表面的细毛通过等离子体烧掉。
34.如图1和图2中前水冷镀膜鼓5和后水冷镀膜鼓12的内部均通冷却液，且膜101通过前水冷镀膜鼓5进入到隔板6的内部，并且隔板6与前水冷镀膜鼓5和后水冷镀膜鼓12之间对应开设有缝隙，经过等离子器4处理后的膜101经过前水冷镀膜鼓5进行冷却到正常温度，而后使得膜101进入到隔板6的内部，且隔板6的内部抽真空工作，由于隔板6的外侧有小缝，在真空度达到e
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2pa的时候形成密封，避免蒸发源7作业时蒸镀物飞出污染前水冷镀膜鼓5和后水冷镀膜鼓12，同时蒸发源7在底箱9的上方等间距设置，且蒸发源7通过调节螺栓8与底箱9之间构成升降结构，并且蒸发源7的温度大于1000℃，能够对蒸发源7的高度进行调节，有利于根据真空度和镀膜的牢固程度进行调节使用，以保证镀膜的质量，同时吹气管10的末端对应连接有吹气装置，且吹气管10的顶端等间距安装有吹气嘴11，且吹气嘴11对应插接在蒸发源7的内侧，便于保证将氧气与蒸发的铝起到氧化反应，形成纯净的三氧化二铝，保证镀膜的质量。
35.而后，如图1和图2中后水冷镀膜鼓12通过传动带20与前水冷镀膜鼓5和水冷张力
辊13之间均构成连动结构，且传动带20的内侧对应设置有速度传感器19，通过后水冷镀膜鼓12对膜101进行再冷却，且后水冷镀膜鼓12通过传动带20与前水冷镀膜鼓5同步转动，有利于保证镀膜的均匀，且通过水冷张力辊13使得膜101进行张力加紧，而后经过摆架结构14使得收膜卷系统18对膜101进行收卷。
36.工作原理：在使用该五辊镀膜系统时，首先膜101对应依次连接在放膜卷系统2、第一导向辊3、等离子器4、前水冷镀膜鼓5、后水冷镀膜鼓12、水冷张力辊13、第二导向辊15、第三导向辊16和收膜卷系统18之间，以便于进行膜101的传输，便于进行蒸镀使用，使得膜101通过放膜卷系统2的放卷后，通过第一导向辊3把膜101的方向固定，经过等离子器4进行处理，等离子器4为辉光放电装置，温度为70℃，冲入氩气和氧气，通过氩气将等离子体打到膜101的表面，进行膜101的表面预处理（把膜101的表面打上一下麻点，微观的，肉眼看不出来），且等离子器4通过氧气助燃，将膜101的表面的细毛通过等离子体烧掉，这个时候，膜101有一定的温度，经过前水冷镀膜鼓5进行冷却到正常温度；
37.而后膜101经过隔板6进入到蒸发源7的上方，蒸发源7的温度都超过1000摄氏度，蒸发源7把所蒸镀的物质，蒸镀到膜101的表面，这个时候膜101也受热，经过后水冷镀膜鼓12，把膜101冷却下来，后面水冷张力辊13进行张力加紧，把膜101收紧，后经过摆架结构14、第二导向辊15、第三导向辊16，回到收膜卷系统18进行收卷，这就行该五辊镀膜系统的整个工作过程，本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
38.本实用新型使用到的标准零件均可以从市场上购买，异形件根据说明书的和附图的记载均可以进行订制，各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓、铆钉、焊接等常规手段，机械、零件和设备均采用现有技术中，常规的型号，加上电路连接采用现有技术中常规的连接方式，在此不再详述。
39.尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。