一种晶圆镀膜真空腔室的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆镀膜真空腔室。


背景技术：

2.晶圆生产包括多个工艺步骤，镀膜是其中的一个重要工艺，目前在进行镀膜时广泛采用真空镀膜工艺，真空镀膜时需要利用到真空镀膜室，真空镀膜室一般采用真空泵进行抽真空，并采用阴阳极放电轰靶实现溅射镀膜。
3.目前的真空镀膜室具有一些缺点，如：在进行轰靶时，根据工艺需要通入多种气体，但是难以对通入的气体进行控温，并且不在对镀膜室进行温度控制时，无法分区对阴阳极的温度进行调整。


技术实现要素：

4.针对背景技术中提到的问题，本实用新型的目的是提供一种晶圆镀膜真空腔室，以解决背景技术中提到的问题。
5.本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
6.一种晶圆镀膜真空腔室，包括镀膜室，所述镀膜室内固定有用于放置待镀晶圆的阳极板和用于固定靶材的阴极板，所述阳极板和所述阴极板之间形成有镀膜区域，所述阳极板内开设有凹槽，所述凹槽处固定有进气管，所述进气管内安装有温控器，所述进气管的一端位于所述镀膜室外部，所述进气管端部拆卸连接有通气管，所述镀膜室的外部固定有真空泵，所述真空泵的吸气口通过抽气管伸入至所述镀膜室内部，所述阴极板位于所述阳极板的下方，所述阴极板的下方固定有底部加热座，所述阳极板的顶部固定有顶部加热座，所述顶部加热座和所述底部加热座内分别设置有ptc加热器，所述镀膜室的顶部连通固定有辅助排气管，所述辅助排气管上设置有第一电磁阀。
7.通过采用上述技术方案，本晶圆镀膜真空腔室在进行真空镀膜时，能够通入至镀膜室内的气体进行控温，并能够分区对阴极板和阳极板的温度进行控制；当应用本晶圆镀膜真空腔室时，可依靠真空泵进行抽真空，并能够依靠辅助排气管外接负压进行真空度保持，并可在通过通气管、进气管送入气体轰靶时，依靠温控器对气温进行控制，还可依靠底部加热座对阴极板温进行把控，依靠顶部加热座对阳极板和靶材温度进行控制。
8.较佳的，所述抽气管上安装有压力表。
9.通过采用上述技术方案，压力表能够对镀膜室的真空状态进行检测。
10.较佳的，所述阴极板和所述阳极板分别为圆盘状。
11.通过采用上述技术方案，采用圆盘状的阴极板和阳极板时，能够包括放电区域和镀膜室容积比的最优。
12.较佳的，所述镀膜室的表面涂镀有一层聚四氟乙烯涂层。
13.通过采用上述技术方案，聚四氟乙烯层具有良好的惰性和耐污性。
14.较佳的，所述通气管上连通固定有若干个送气支管，若干个所述送气支管上分别
安装有第二电磁阀。
15.通过采用上述技术方案，依靠送气支管和第二电磁阀能够实现多通道送气控制。
16.较佳的，所述进气管和所述通气管端部分别固定有固定环，两个所述固定环的外部共同螺纹连接有锁紧环。
17.通过采用上述技术方案，利用固定环和锁紧环能够方便进气管与通气管的拆卸。
18.较佳的，所述靶材通过胶带粘贴固定在所述阴极板上。
19.通过采用上述技术方案，采用胶带固定靶材的方式，方便操作，且轰靶效果良好。
20.较佳的，所述阴极板和所述阳极板之间串联有电流表、电阻和电源，所述阴极板和所述阳极板之间并联有电压表。
21.通过采用上述技术方案，依靠串联的电流表和电阻能够对电流进行控制检测，依靠电压表能够测量电压大小。
22.综上所述，本实用新型主要具有以下有益效果：
23.本晶圆镀膜真空腔室在进行真空镀膜时，能够通入至镀膜室内的气体进行控温，并能够分区对阴极板和阳极板的温度进行控制；当应用本晶圆镀膜真空腔室时，可依靠真空泵进行抽真空，并能够依靠辅助排气管外接负压进行真空度保持，并可在通过通气管、进气管送入气体轰靶时，依靠温控器对气温进行控制，还可依靠底部加热座对阴极板温进行把控，依靠顶部加热座对阳极板和靶材温度进行控制。
附图说明
24.图1为本实用新型的结构示意图；
25.图2为本实用新型的结构剖视图；
26.图3为图2中的a处放大图。
27.图中：1、镀膜室；2、阳极板；3、靶材；4、阴极板；5、凹槽；6、进气管；7、温控器；8、通气管；9、真空泵；10、抽气管；11、底部加热座；12、顶部加热座；13、辅助排气管；14、第一电磁阀；15、压力表；16、送气支管；17、第二电磁阀；18、固定环；19、锁紧环。
具体实施方式
28.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
29.参考图1至图3，一种晶圆镀膜真空腔室，包括镀膜室1，镀膜室1内固定有用于放置待镀晶圆的阳极板2和用于固定靶材3的阴极板4，阳极板2和阴极板4之间形成有镀膜区域，阳极板2内开设有凹槽5，凹槽5处固定有进气管6，进气管6内安装有温控器7，进气管6的一端位于镀膜室1外部，进气管6端部拆卸连接有通气管8，镀膜室1的外部固定有真空泵9，真空泵9的吸气口通过抽气管10伸入至镀膜室1内部，阴极板4位于阳极板2的下方，阴极板4的下方固定有底部加热座11，阳极板2的顶部固定有顶部加热座12，顶部加热座12和底部加热座11内分别设置有ptc加热器，镀膜室1的顶部连通固定有辅助排气管13，辅助排气管13上设置有第一电磁阀14。
30.参考图1至图3，本晶圆镀膜真空腔室在进行真空镀膜时，能够通入至镀膜室1内的气体进行控温，并能够分区对阴极板4和阳极板2的温度进行控制；当应用本晶圆镀膜真空腔室时，可依靠真空泵9进行抽真空，并能够依靠辅助排气管13外接负压进行真空度保持，并可在通过通气管8、进气管6送入气体轰靶时，依靠温控器7对气温进行控制，还可依靠底部加热座11对阴极板4温进行把控，依靠顶部加热座12对阳极板2和靶材3温度进行控制。
31.参考图1至图3，其中在抽气管10上安装有压力表15，压力表15能够对镀膜室1的真空状态进行检测；其中阴极板4和阳极板2分别为圆盘状，采用圆盘状的阴极板4和阳极板2时，能够包括放电区域和镀膜室1容积比的最优；其中在镀膜室1的表面涂镀有一层聚四氟乙烯涂层，聚四氟乙烯层具有良好的惰性和耐污性。
32.参考图1至图3，其中在通气管8上连通固定有若干个送气支管16，若干个送气支管16上分别安装有第二电磁阀17，依靠送气支管16和第二电磁阀17能够实现多通道送气控制；其中在进气管6和通气管8端部分别固定有固定环18，两个固定环18的外部共同螺纹连接有锁紧环19，利用固定环18和锁紧环19能够方便进气管6与通气管8的拆卸。
33.参考图1至图3，其中靶材3通过胶带粘贴固定在阴极板4上，采用胶带固定靶材3的方式，方便操作，且轰靶效果良好；其中阴极板4和阳极板2之间串联有电流表、电阻和电源，阴极板4和阳极板2之间并联有电压表，依靠串联的电流表和电阻能够对电流进行控制检测，依靠电压表能够测量电压大小。
34.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。