金属遮罩基材的制备方法与流程

技术特征：
1.一种金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，包括：提供一金属基材，其具有一表面；量测该表面并取得一光泽度；判断该光泽度是否介于一默认值范围内；以及当判断该光泽度介于该默认值范围内时，对该金属基材进行一光刻制程，其中该默认值范围介于90gu至400gu。2.根据权利要求1所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该光泽度是依据20度光泽度标准而量测。3.根据权利要求1所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，当判断该光泽度未介于该默认值范围内时，对该金属基材进行一表面处理，以使该光泽度符合该默认值范围。4.根据权利要求3所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，对该金属基材进行该表面处理的步骤包括：当该光泽度小于90gu时，将该金属基材浸泡于一第一蚀刻液；以及当该光泽度大于400gu时，将该金属基材浸泡于一第二蚀刻液，其中该第一蚀刻液的黏滞系数大于该第二蚀刻液的黏滞系数。5.根据权利要求4所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该第一蚀刻液的浓度大于该第二蚀刻液的浓度。6.根据权利要求1所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，当该光泽度介于90gu至400gu时，该表面的三次元表面粗糙度sa介于0.05微米至0.3微米之间。7.根据权利要求1所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，当该光泽度介于90gu至400gu时，该表面的最大高度粗糙度sz介于0.5微米至3微米之间。8.根据权利要求1所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该金属基材的形成方法包括：提供一初始金属基材；以及对该初始金属基材进行一初步表面处理。9.根据权利要求8所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该初步表面处理包括化学蚀刻、研磨或电抛光。10.一种金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，包括：提供一金属基材，其具有彼此相对的一第一表面与一第二表面；量测该第一表面并取得一第一光泽度；量测该第二表面并取得一第二光泽度；判断该第一光泽度与该第二光泽度每一者是否介于一默认值范围内；以及当该第一光泽度与该第二光泽度皆介于该默认值范围时，对该金属基材进行一光刻制程，其中该默认值范围介于90gu至400gu。11.根据权利要求10所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该第一光泽度与该第二光泽度皆是依据20度光泽度标准而量测。12.根据权利要求10所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，当该第一光泽度与该第二光泽度任一者不介于90gu至400gu时，对该金属基材进行一表面处理。13.根据权利要求12所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，对该金属基材进行
该表面处理的步骤包括：当该第一光泽度与该第二光泽度任一者小于90gu时，将该金属基材浸泡于一第一蚀刻液；以及当该第一光泽度与该第二光泽度任一者大于400gu时，将该金属基材浸泡于一第二蚀刻液，其中该第一蚀刻液的黏滞系数大于该第二蚀刻液的黏滞系数。14.根据权利要求13所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该第一蚀刻液的浓度大于该第二蚀刻液的浓度。15.根据权利要求10所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，当该第一光泽度与该第二光泽度每一者介于90gu至400gu时，该第一表面与该第二表面两者的三次元表面粗糙度sa介于0.05微米至0.3微米之间。16.根据权利要求10所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，当该第一光泽度与该第二光泽度每一者介于90gu至400gu时，该第一表面与该第二表面两者的最大高度粗糙度sz介于0.5微米至3微米之间。17.根据权利要求10所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该金属基材的形成方法包括：提供一初始金属基材；以及对该初始金属基材进行一初步表面处理。18.根据权利要求17所述的金属遮罩基材的制备方法，其特征在于，该初步表面处理包括化学蚀刻、研磨或电抛光。

技术总结
本发明公开一种金属遮罩基材的制备方法，包括提供金属基材。接着，量测金属基材的表面并取得光泽度。之后，判断光泽度是否介于默认值范围内。当判断光泽度介于默认值范围内时，对金属基材进行光刻制程，其中上述默认值范围介于90GU至400GU。介于90GU至400GU。介于90GU至400GU。


技术研发人员：林启维 林文宜
受保护的技术使用者：达运精密工业股份有限公司
技术研发日：2021.11.04
技术公布日：2022/2/28