一种双滑座的盘片抛光及检测装置的制作方法

1.本发明涉及研磨抛光设备领域，具体涉及一种双滑座的盘片抛光及检测装置。


背景技术：

2.盘片是各种机械设备上常用的部件，比如刹车盘片是各种交通工具上的常见部件，也是容易磨损的部件之一，当盘片磨损到一定程度后将影响其使用性能，需要拆下进行研磨抛光，经过研磨抛光后再次组装使用。有些磨损的盘片在研磨抛光后，需要对打磨量进行检测。现用的抛光工序和检测工序分别采用不同的设备来完成，抛光用的磨床不具备自动测量研磨量的功能，磨削过程中只能人工观察，并根据经验判定研磨量是否符合要求，效率低、经验估算也不准确。


技术实现要素：

3.本发明的目的在于克服现有技术中的缺点与不足，提供了一种双滑座的盘片抛光及检测装置，其通过光敏阵列来检测抛光后的盘片的受光量，并传送到光敏检测仪分析，从而确定盘片的研磨抛光量达不达标，可精确计算研磨量，同时，本装置的滑槽内可同时放置两块滑座，使得抛光组件与检测组件同时在线工作，显著提升生产效率。
4.为了达到上述目的，本发明是通过以下技术方案实现的：
5.一种双滑座的盘片抛光及检测装置，包括机台、设置在机台上的抛光组件、分别设置在抛光组件相对两侧的移位组件及检测组件，进一步地：
6.所述机台，其台面上设置有一滑槽，该滑槽位于所述抛光组件与检测组件的一侧；该滑槽内设置有一滑座，该滑座与滑槽匹配，滑座上开设有一加工槽；机台上在抛光组件与检测组件之间还设置有一隔离板；机台的前侧面上还设置有一手轮，手轮位于抛光组件的正前方，手轮的转轴前后方向贯穿滑槽的侧壁；机台的下方还倾斜设置有一导向斗；
7.所述抛光组件，其与检测组件并排在所述滑槽的一侧，该抛光组件包括升降台、设置在升降台上的升降轴、以及安装在升降轴顶部的悬臂；所述悬臂的末端设置有一伺服电机，该伺服电机的输出轴朝下，该输出轴的下端安装有一砂轮，砂轮位于所述加工槽的正上方；
8.所述移位组件，其包括一固定设置在机台上的气缸，该气缸的伸缩杆朝向所述滑座，且气缸的伸缩杆末端固紧连接有一推板，推板设置在所述滑槽内，且贴靠在所述滑座的一旁；
9.所述检测组件，其包括设置在机台的台面上的检测架、设置在检测架上的检测头、以及设置在机台的台面下的光敏检测仪，该检测头与光敏检测仪电性连接。
10.进一步地，所述检测头包括一安装座，该安装座顶部设置有球面的光罩，该光罩内的弧顶处设置有一光源；所述安装座上设置有若干均匀分布的有源光敏传感器。
11.进一步地，所述安装座上安装有一透明的安装板，该安装板上均匀分布若干安装孔，每一个所述有源光敏传感器对应安装在一个安装孔内。
12.进一步地，所述光源、每一个所述有源光敏传感器及所述光敏检测仪电性连接。
13.进一步地，所述安装座与所述光罩之间还设置有一分光板。
14.进一步地，所述砂轮是高分子改性pu硬质弹性砂轮，其包括依次压制的海绵基体层、纳米金刚石磨料层、固化剂层及合成树脂固型层。
15.进一步地，所述的双滑座的盘片抛光及检测装置，还包括有一控制开关组，该控制开关组包括第一控制开关和第二控制开关，第一控制开关控制悬臂升降、伺服电机启动或停止、气缸伸缩杆的伸缩；第二控制开关控制检测头开启或关闭。
16.优选地，所述检测头在检测架上的安装高度可调。
17.相比于现有技术，本发明的有益效果在于：
18.1)本案的双滑座的盘片抛光及检测装置，将抛光设备和检测设备结合在一起，通过特制的砂轮来进行研磨抛光，通过光敏阵列来检测抛光后的盘片的受光量，并传送到光敏检测仪分析，从而确定盘片的研磨抛光量达不达标，可精确计算研磨量，效率高；
19.2)本案的双滑座的盘片抛光及检测装置，在滑槽内可同时放置两块滑座，使得抛光组件与检测组件可同时在线工作，形成抛光后检测的流水线，可显著提升生产效率；
20.3)本案中研磨抛光用的砂轮是高分子改性pu硬质弹性砂轮，其包括依次压制的海绵基体层、纳米金刚石磨料层、固化剂层及合成树脂固型层，该砂轮具有超强的锋利度和耐磨度，富有弹性和柔韧性，可有效的对盘片表面进行研磨抛光；
21.4)本装置结构简单、操作方便快捷，测量值准确，测试效率高，避免人为估算研磨量不准的情况发生。
22.为了能更清晰的理解本发明，以下将结合附图说明阐述本发明的较佳的实施方式。
附图说明
23.图1、图2、图3为本发明的立体示意图；
24.图4为本发明的前视的结构示意图；
25.图5为本发明的侧视的结构示意图；
26.图6为本发明的俯视的结构示意图；
27.图7、图8为本发明中检测头的结构示意图。
具体实施方式
28.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
29.请同时参阅图1至图8，本发明的一种双滑座的盘片抛光及检测装置，包括机台1、设置在机台1上的抛光组件、分别设置在抛光组件相对两侧的移位组件及检测组件。
30.所述机台1，其台面上设置有一滑槽11，滑槽11位于所述抛光组件与检测组件的一侧。该滑槽11内设置有一滑座12，该滑座12与滑槽11匹配使得滑座12可以在滑槽11内滑动，
滑座12上开设有一加工槽，该加工槽内放置待加工的盘片13。机台1上在抛光组件与检测组件之间还设置有一隔离板14，隔离板14将机台1分隔成相应的抛光区和检测区。
31.所述抛光组件，其与检测组件并排在所述滑槽11的一侧，该抛光组件包括升降台21、设置在升降台21上的升降轴22、以及安装在升降轴22顶部的悬臂23，所述升降轴22带动所述悬臂23升降。所述悬臂23的末端设置有一伺服电机24，该伺服电机24的输出轴朝下，该输出轴的下端安装有一砂轮25，砂轮25位于所述加工槽的正上方。所述伺服电机24驱动砂轮25高速旋转，同时升降轴22带动悬臂23下降，使得砂轮25可对加工槽内的盘片13进行研磨抛光。
32.进一步地，作为优选，本实施例中，所述砂轮25是高分子改性pu硬质弹性砂轮(pu是聚氨酯材料，是聚氨基甲酸酯的简称，英文名称是polyurethane)，其包括依次压制的海绵基体层、纳米金刚石磨料层、固化剂层及合成树脂固型层，该砂轮25具有超强的锋利度和耐磨度，富有弹性和柔韧性，可有效的对盘片13表面进行研磨抛光。
33.所述移位组件，其包括一固定设置在机台1上的气缸41，该气缸41的伸缩杆朝向所述滑座12，且气缸41的伸缩杆末端固紧连接有一推板42，推板42设置在所述滑槽11内且贴靠在所述滑座12一旁，气缸41的伸缩杆可带动推板42在所述滑槽11内往复运动。当气缸41的伸缩杆伸出最大行程时，推板42将原本位于砂轮25正下方的第一块滑座12向左推移至所述检测组件中的检测头的正下方，此时，第一块滑座12上的第一块盘片13为抛光后的待检测状态；当气缸41的伸缩杆缩回最大行程时，推板42复位至所述滑槽11的最右端，此时可人工在滑槽11内放置上第二块滑座12，并在滑座12上放置第二块盘片13，此时，第二块盘片13为待研磨抛光状态。
34.所述检测组件，其包括设置在机台1的台面上的检测架31、设置在检测架31上的检测头33、以及设置在机台1的台面下的光敏检测仪35。检测头33在检测架上的安装高度可调，且检测头33与所述光敏检测仪35电性连接，使得通过检测头33采集到的测量信息可传输到所述光敏检测仪35进行集中处理。
35.所述检测头33其包括一圆形的安装座331，该安装座331顶部设置有球面的光罩332，该安装座331与光罩332之间还设置有一分光板333，该光罩332内的弧顶处设置有光源334。所述安装座331上安装有一透明的安装板335，该安装板335上均匀分布若干安装孔336，每一个安装孔336内均设置有一个有源光敏传感器337，所有的有源光敏传感器337共同形成了一个光敏阵列。所述光源334、每一个所述有源光敏传感器337及所述光敏检测仪35电性连接，所述光源334为所有的有源光敏传感器337提供感光光源。
36.检测头33对抛光后的盘片13进行研磨抛光量检测，检测头33的检测原理为：通过光敏阵列检测到盘片13的受光量，并传送到所述光敏检测仪35，光敏检测仪35通过分析计算后得到盘片13的受光面积，该受光面积即为盘片13表面已经研磨了的面积大小，将受光面积与预设值比对，就能确定盘片13的研磨抛光量达不达标。
37.进一步地，本案的双滑座的盘片抛光及检测装置还包括有一控制开关组5，该控制开关组5包括第一控制开关和第二控制开关。第一控制开关控制悬臂23升降、伺服电机24启动或停止、气缸41伸缩杆的伸缩；第二控制开关控制检测头33开启或关闭。第一控制开关、第二控制开关并排设置在机台1前部位置，以便人工操控。
38.进一步地，在砂轮25给盘片13进行抛光时，为了保证滑座12在滑槽11内的紧固性，
在机台1的前侧面上还设置有一手轮15，手轮15位于砂轮的正前方，手轮15的转轴前后方向贯穿滑槽11的侧壁。顺时针转动手轮15时，手轮15的转轴可从侧向顶紧滑槽11内的滑座12，此时，推板42不可推动滑座12；逆时针转动手轮15时，手轮15的转轴远离并松开滑槽11内的滑座12，此时，推板42可推动滑座12。
39.进一步地，在检测组件检测完盘片后，为了能快速的轮换滑座12，在机台1的下方还倾斜设置有一导向斗16。当检测组件检测完盘片13后，盘片13被人工转移至下一工序，而滑座12被放入导向斗16内，进而使得滑座12从检测区滑回到抛光区待用，从而达到两块滑座快速轮换的效果，提升了生产效率。
40.本案的双滑座的盘片抛光及检测装置的工作流程为：
41.1)人工将第一块盘片13放置在第一块滑座12上的加工槽内，开启第一控制开关使得砂轮25下降并对第一块盘片13进行研磨抛光，研磨抛光完成后，关闭第一控制开关使得砂轮25升起，同时气缸41的伸缩杆带动推板42将第一块滑座12推移至检测头正下方，此后，气缸41的伸缩杆带动推板42复位；
42.2)开启第二控制开关，检测组建对第一块滑座12上的第一块盘片13进行检测，检测完成后关闭第二控制开关，然后，人工将第一块盘片13转移至下一工序，将第一块滑座12被放入导向斗16内转移至抛光区；
43.3)在检测组建对第一块滑座12上的第一块盘片13进行检测的同时，可重复步骤1)，人工将第二块盘片13放置在第二块滑座12上的加工槽内，并开启第一控制开关使得砂轮25下降并对第二块盘片13开始新一轮的研磨抛光作业。
44.相比于现有技术，本发明的有益效果在于：本案的双滑座的盘片抛光及检测装置，在滑槽内可同时放置两块滑座，使得抛光组件与检测组件可同时在线工作，形成抛光后检测的流水线，可显著提升生产效率。
45.以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。