一种真空磁控溅射的金属镀膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及镀膜装置领域，特别是涉及一种真空磁控溅射的金属镀膜装置。


背景技术：

2.一般的，磁控溅射时物理气相沉积的一种。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。磁控溅射的工作原理是指电子在电场的作用下，在飞向产品的过程中与氩原子发生碰撞，使其电离子产生氩正离子和新的电子。新电子飞向产品，氩离子在电场的作用下飞向靶材并以高能量轰击靶材表面使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在产品上形成薄膜。现有磁控溅射靶的冷却效果一般，导致靶材易因高温出现损坏的现象，进而对溅射效率与设备的使用产生严重的影响。


技术实现要素：

3.为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种真空磁控溅射的金属镀膜装置, 通过本方案对靶材运行时产生的温度进行降温，保证了设备在对金属材料进行镀膜时运行的稳定性，在一定程度上起到了延长镀膜设备的使用寿命。
4.为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种真空磁控溅射的金属镀膜装置,包括壳体，所述壳体的侧板底面螺栓连接盖板，所述壳体内安装第一冷却板，所述第一冷却板内设有冷却水道，所述第一冷却板的左右两侧分别连接与所述冷却水道连通的输入管和输出管，所述盖板的底面水平安装循环泵，所述循环泵的输出端与所述输出管连接，所述循环泵的输入端与所述输入管连接，所述盖板的顶面设置磁轭。
5.优选的，所述磁轭的顶面设置第三定位环，所述第三定位环的顶面与所述第一冷却板的底面贴合，所述第三定位环内套接第二冷却板，所述第二冷却板位于所述第一冷却板和所述磁轭之间，且所述第二冷却板的顶面与所述第一冷却板的底面贴合，所述第二冷却板的底面与所述磁轭的顶面贴合，所述第二冷却板内设有空腔。
6.优选的，所述壳体内安装有第一定位环，所述第一定位环的底面设置靶材，所述靶材位于所述第一冷却板的上方，并与所述第一冷却板的顶面贴合。
7.优选的，所述第二冷却板为一个具有良好导热性的金属板材，所述第二冷却板的侧面设有与所述空腔内部连通的补充管，所述补充管的外缘连接补充阀。
8.优选的，所述第一定位环的底面设有两个径向对置分布的定位槽，所述定位槽内安装定位块，所述定位块的底面与所述靶材的顶面垂直固定，所述靶材的底面设有第二定位环，所述第二定位环与所述第一冷却板的顶面贴合。
9.优选的，所述冷却水道呈s形分布。
10.与现有技术相比，本实用新型能达到的有益效果是：
11.1、通过本方案对靶材运行时产生的温度进行降温，保证了设备在对金属材料进行镀膜时运行的稳定性，在一定程度上起到了延长镀膜设备的使用寿命。
12.2、通过设置第二冷却板对第一冷却板内的冷却液起到了降温的作用，保障了第一
冷却板独一靶材的冷却降温的效果，避免了第一冷却板内的冷却液吸收了过多的热量导致冷却液本身的温度升高，从而降低第一冷却板对靶材的冷却效果，而第二冷却板与磁轭的顶面贴合，在第二冷却板对第一冷却板内的冷却液进行降温的同时对磁轭也起到了降温的作用。
附图说明
13.图1为本实用新型整体结构图；
14.图2为本实用新型第一冷却板内部结构剖视图；
15.图3为本实用新型第二冷却板内部内部结构剖视图；
16.图4为本实用新型图1中a处的结构放大图；
17.其中：1、壳体；2、靶材；3、第二定位环；4、输入管；5、第三定位环；6、磁轭；7、盖板；8、循环泵；9、输出管；10、第二冷却板；11、第一冷却板；12、第一定位环；13、冷却水道；14、空腔；15、补充阀；16、补充管；17、定位槽；18、定位块。
具体实施方式
18.为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型，但下述实施例仅仅为本实用新型的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本实用新型的保护范围。下述实施例中的实验方法，如无特殊说明，均为常规方法，下述实施例中所用的材料、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径得到。
19.实施例:
20.如图1-图4所示，本实用新型提供，一种真空磁控溅射的金属镀膜装置,包括壳体1，壳体1的侧板底面螺栓连接盖板7，壳体1内安装有第一定位环12，第一定位环12的底面设有两个径向对置分布的定位槽17，定位槽17内安装定位块18，定位块18的底面设有靶材2，靶材2的底面设有第二定位环3，第二定位环3内安装第一冷却板11，第一冷却板11的顶面与靶材2的底面贴合，第一冷却板11的下方设有第三定位环5，第三定位环5的顶面与第一冷却板11的底面贴合，第三定位环5的下方设有磁轭6，磁轭6的顶面与第三定位环5的底面贴合，磁轭6的底面与盖板7的顶面贴合，第一冷却板11内设有冷却水道13，冷却水道13呈s形分布，第一冷却板11的左右两侧分别连接与冷却水道13连通的输入管4和输出管9，盖板7的底面水平安装循环泵8，循环泵8的输出端与输出管9连接，循环泵8的输入端与输入管4连接；
21.在使用时循环泵8将冷却液输送至第一冷却板11内的冷却水道13中，冷却水道13内的冷却液在循环泵8的作用下再次回到循环泵8内，再由循环泵8输送至第一冷却板11内的冷却水道13内，依此循环，靶材2在运行时产生的温度，传递到第一冷却板11上，第一冷却板11内的冷却液在冷却水道13内 流动的同时将靶材2传递到第一冷板上的热量带走，通过本方案对靶材2运行时产生的温度进行降温，保证了设备在对金属材料进行镀膜时运行的稳定性，在一定程度上起到了延长镀膜设备的使用寿命。
22.如图1和图3所示，本实施例还公开了,第三定位环5内套接第二冷却板10，第二冷却板10位于第一冷却板11和磁轭6之间，且第二冷却板10的顶面与第一冷却板11的底面贴
合，第二冷却板10的底面与磁轭6的顶面贴合，第二冷却板10为一个具有良好导热性的金属板材，第二冷却板10内设有用来填充液氮的空腔14，第二冷却板10的侧面设有与空腔14内部连通的补充管16，补充管16的外缘连接补充阀15；
23.通过设置第二冷却板10对第一冷却板11内的冷却液起到了降温的作用，保障了第一冷却板11独一靶材2的冷却降温的效果，避免了第一冷却板11内的冷却液吸收了过多的热量导致冷却液本身的温度升高，从而降低第一冷却板11对靶材2的冷却效果，而第二冷却板10与磁轭6的顶面贴合，在第二冷却板10对第一冷却板11内的冷却液进行降温的同时对磁轭6也起到了降温的作用。
24.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之
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上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
25.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例，并不用来限制本实用新型，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。