技术特征：
1.一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，包括壳体(1)，所述壳体(1)的侧板底面螺栓连接盖板(7)，其特征在于：所述壳体(1)内安装第一冷却板(11)，所述第一冷却板(11)内设有冷却水道(13)，所述第一冷却板(11)的左右两侧分别连接与所述冷却水道(13)连通的输入管(4)和输出管(9)，所述盖板(7)的底面水平安装循环泵(8)，所述循环泵(8)的输出端与所述输出管(9)连接，所述循环泵(8)的输入端与所述输入管(4)连接，所述盖板(7)的顶面设置磁轭(6)。2.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，其特征在于：所述磁轭(6)的顶面设置第三定位环(5)，所述第三定位环(5)的顶面与所述第一冷却板(11)的底面贴合，所述第三定位环(5)内套接第二冷却板(10)，所述第二冷却板(10)位于所述第一冷却板(11)和所述磁轭(6)之间，且所述第二冷却板(10)的顶面与所述第一冷却板(11)的底面贴合，所述第二冷却板(10)的底面与所述磁轭(6)的顶面贴合，所述第二冷却板(10)内设有空腔(14)。3.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，其特征在于：所述壳体(1)内安装有第一定位环(12)，所述第一定位环(12)的底面设置靶材(2)，所述靶材(2)位于所述第一冷却板(11)的上方，并与所述第一冷却板(11)的顶面贴合。4.根据权利要求2所述的一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，其特征在于：所述第二冷却板(10)为一个具有良好导热性的金属板材，所述第二冷却板(10)的侧面设有与所述空腔(14)内部连通的补充管(16)，所述补充管(16)的外缘连接补充阀(15)。5.根据权利要求3所述的一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，其特征在于：所述第一定位环(12)的底面设有两个径向对置分布的定位槽(17)，所述定位槽(17)内安装定位块(18)，所述定位块(18)的底面与所述靶材(2)的顶面垂直固定，所述靶材(2)的底面设有第二定位环(3)，所述第二定位环(3)与所述第一冷却板(11)的顶面贴合。6.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，其特征在于：所述冷却水道(13)呈s形分布。
技术总结
本实用新型公开了一种真空磁控溅射的金属镀膜装置，包括壳体，所述壳体的侧板底面螺栓连接盖板，所述壳体内安装第一冷却板，所述第一冷却板内设有冷却水道，所述第一冷却板的左右两侧分别连接与所述冷却水道连通的输入管和输出管，所述盖板的底面水平安装循环泵，所述循环泵的输出端与所述输出管连接，所述循环泵的输入端与所述输入管连接，所述盖板的顶面设置磁轭，通过本方案对靶材运行时产生的温度进行降温，保证了设备在对金属材料进行镀膜时运行的稳定性，在一定程度上起到了延长镀膜设备的使用寿命。设备的使用寿命。设备的使用寿命。
技术研发人员：钦瑞良
受保护的技术使用者：苏州凯瑞纳米科技有限公司
技术研发日：2021.09.08
技术公布日：2022/1/11
再多了解一些
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