一种磁瓦打磨装置的制作方法

1.本实用新型属于磁瓦打磨加工相关技术领域，更具体地说，涉及一种磁瓦打磨装置。


背景技术：

2.磁瓦主要用在永磁直流电机中，与电磁式电机通过励磁线圈产生磁势源不同，永磁电机是以永磁材料产生恒定磁势源。在进行磁瓦的生产过程中，已初步成型的磁瓦的硬度相对较高，此时若需要对磁瓦进行打磨，则需要使用相应的打磨设备，而磁瓦的轮廓线一般是具有弧度的，这就对于磁瓦的打磨提出了要求。
3.关于磁瓦的打磨设备，中国专利申请号为：201621399841.5，公告日为：2017.07.07的：“瓦型磁石的研磨装置”，其包括转轴、套设于转轴上的砂轮，砂轮包括轮身、设于轮身中部的轴孔及设于轮身边缘的凸边，转轴穿过轴孔，与砂轮相互固定安装，轮身侧边设有加工面，凸边凸出轮身边缘将加工面围成研磨槽，研磨槽的中部上表面设有向上凸起的第一弧形面及连接第一弧形面的底边的侧研磨边，第一弧形面与侧研磨边连接形成w字型。
4.中国专利申请号为：201710470208.3，公开日为：2017
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17的：“一种磁瓦内弧打磨装置”，其包括：底板、支撑板一、气缸、支架、电机、砂轮、支撑板二、限位板、夹具、夹槽、螺栓，所述的底板上平面的左端固定安装一个支撑板一，所述的支撑板一的左平面固定两个气缸，所述的两个气缸的活塞杆上固定安装一个支架，所述的支架上固定安装一个电机，所述的电机的转轴与支架通过轴承连接，所述的电机的转轴上固定安装有砂轮，所述的底板上平面的右端固定安装一个支撑板二，所述的支撑板左平面固定安装一个限位板，所述的限位板内放置有夹具，所述的夹具的左平面开设有夹槽，所述的限位板的上平面设有螺栓，所述的螺栓与夹具接触。
5.中国专利申请号为：201911011376.1，公开日为：2020
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14的：“一种永磁铁氧体瓦形块打磨装置”，其包括输送架、固定工装、支撑架、限位座、液压杆和抓夹机构，所述输送架顶部安装有若干个固定工装，所述输送架一侧顶部安装有支撑架，所述支撑架两侧均安装有限位座，一侧所述限位座一侧安装有第一伺服电机，所述第一伺服电机输出端安装有第一螺纹杆，所述第一螺纹杆一端穿过一侧限位座与另一侧限位座转动连接，所述支撑架一侧开设有滑槽，所述滑槽内部滑动安装有滑座；其能够对固定工装进行精确完美抓夹，然后对其高度进行调节，便于后续与打磨操作相互配合，保证打磨的精度高，效率快，能够一次性完成瓦形永磁铁氧体一面的打磨。


技术实现要素：

6.1、要解决的问题
7.针对现有磁瓦不便于打磨的问题，本实用新型提供一种磁瓦打磨装置，通过将工作层和基体分开，能够方便的进行工作层的更换，而基体可进行重复利用，工作层的第一工
作部和第二工作部的工作区域划分，能够方便的一次性进行整个磁瓦的打磨，打磨的效率高。
8.2、技术方案
9.为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案。
10.本实用新型的一种磁瓦打磨装置，包括基体和工作层，所述基体呈环形，所述工作层呈环形包覆在基体外侧，所述工作层包括第一工作部和第二工作部，所述第二工作部设置在第一工作部两侧。通过将工作层和基体分开，能够方便的进行工作层的更换，而基体可进行重复利用，工作层的第一工作部和第二工作部的工作区域划分，能够方便的一次性进行整个磁瓦的打磨，打磨的效率高。
11.作为本实用新型进一步可能实施的方案中，所述第一工作部外侧截面轮廓呈弧形。第一工作部在使用过程中，对应着磁瓦的内弧面或外弧面，设置成与磁瓦内弧面和外弧面相匹配的形状，能够对磁瓦的内弧面或外弧面进行一次性加工。
12.作为本实用新型进一步可能实施的方案中，所述工作层整体呈“w”形。呈“w”形的工作层针对的是磁瓦内弧面的打磨，若需要设置成对磁瓦外弧面的打磨，除了第一工作部需要设置成弧面与磁瓦的外弧面相匹配，还需要对第二工作部进行适应性调整。
13.作为本实用新型进一步可能实施的方案中，所述基体与工作层之间通过压合组件相接。为了方便基体与工作层之间的结合，方便工作层的设置，通过在基体和工作层之间设置压合组件的形式，实现基体与工作层之间的连接，工作层第一工作部是直接与基体之间进行连接的，但第二工作部是向上翘起的，在基体上加工相应的形状，会增加基体的加工难度，通过压合组件的设置既能够方便工作层的设置，提升第二工作部打磨工作的稳定性，又能够减小基体的加工难度。
14.作为本实用新型进一步可能实施的方案中，所述压合组件包括第一压环、第二压环和第三压环，所述第一压环设置在基体与工作层第二工作部之间，所述第二压环设置在工作层第二工作部外侧，第二压环顶靠第一压环，所述第三压环设置在基体上，并顶靠第一压环和第二压环。第一压环实现第二工作部底部的抵靠，第二压环实现第二工作部侧边的抵靠，第三压环与基体相接，实现第一压环和第二压环的抵靠，整体结构稳定，也便于对装置进行后续处理。
15.作为本实用新型进一步可能实施的方案中，所述第三压环与基体之间卡合相接。
16.作为本实用新型进一步可能实施的方案中，所述第三压环与基体相接的一端设置凸起，基体与第三压环相接的一侧设置凹槽，第三压环与基体之间通过凸起和凹槽卡合相接。第三压环与基体之间通过凸起卡槽卡合相接的方式，结构稳定，在后续需要对工作层进行处理时，能够方便对三个压环进行装卸，方便使用。
17.作为本实用新型进一步可能实施的方案中，所述基体上设置有安装孔。
18.3、有益效果
19.相比于现有技术，本实用新型的有益效果为：
20.(1)本实用新型的一种磁瓦打磨装置，通过将工作层和基体分开，能够方便的进行工作层的更换，而基体可进行重复利用，工作层的第一工作部和第二工作部的工作区域划分，能够方便的一次性进行整个磁瓦的打磨，打磨的效率高；
21.(2)本实用新型的一种磁瓦打磨装置，第一工作部在使用过程中，对应着磁瓦的内
弧面或外弧面，设置成与磁瓦内弧面和外弧面相匹配的形状，能够对磁瓦的内弧面或外弧面进行一次性加工；
22.(3)本实用新型的一种磁瓦打磨装置，为了方便基体与工作层之间的结合，方便工作层的设置，通过在基体和工作层之间设置压合组件的形式，实现基体与工作层之间的连接，工作层第一工作部是直接与基体之间进行连接的，但第二工作部是向上翘起的，在基体上加工相应的形状，会增加基体的加工难度，通过压合组件的设置既能够方便工作层的设置，提升第二工作部打磨工作的稳定性，又能够减小基体的加工难度；
23.(4)本实用新型的一种磁瓦打磨装置，第三压环与基体之间通过凸起卡槽卡合相接的方式，结构稳定，在后续需要对工作层进行处理时，能够方便对三个压环进行装卸，方便使用。
附图说明
24.图1为一种磁瓦的基本结构示意图；
25.图2为本实用新型的一种磁瓦打磨装置一侧侧面结构示意图；
26.图3为本实用新型的一种磁瓦打磨装置的截面结构示意图；
27.图4为图3的a处放大图；
28.图5为图4的b处放大图。
29.附图中：1、基体；11、安装孔；2、工作层；3、压合组件；31、第一压环；32、第二压环；33、第三压环。
具体实施方式
30.下面结合具体实施例对本实用新型进一步进行描述。
31.实施例1
32.如图1所示，为磁瓦的一种基本结构示意图，磁瓦的基本结构包括内弧面、外弧面以及内弧面和外弧面之间的连接面，在对磁瓦的打磨工作过程中，主要针对磁瓦几个面进行打磨。
33.本实施例的一种磁瓦打磨装置，包括基体1和工作层2，基体1呈环形，工作层2呈环形包覆在基体1外侧，工作层2包括第一工作部和第二工作部，第二工作部设置在第一工作部两侧。通过将工作层2和基体1分开，能够方便的进行工作层2的更换，而基体1可进行重复利用，工作层2的第一工作部和第二工作部的工作区域划分，能够方便的一次性进行整个磁瓦的打磨，打磨的效率高。基体1上设置有安装孔11，通过安装孔11的设置，能够方便的进行打磨装置的安装，由于基体1与工作层2之间是分体式，故在安装孔11的选择上没有限制。
34.第一工作部外侧截面轮廓呈弧形，第一工作部在使用过程中，对应着磁瓦的内弧面或外弧面，设置成与磁瓦内弧面和外弧面相匹配的形状，能够对磁瓦的内弧面或外弧面进行一次性加工。工作层2整体呈“w”形。呈“w”形的工作层2针对的是磁瓦内弧面的打磨，若需要设置成对磁瓦外弧面的打磨，除了第一工作部需要设置成弧面与磁瓦的外弧面相匹配，还需要对第二工作部进行适应性调整。
35.基体1与工作层2之间通过压合组件3相接，为了方便基体1与工作层2之间的结合，方便工作层2的设置，通过在基体1和工作层2之间设置压合组件3的形式，实现基体1与工作
层2之间的连接，工作层2第一工作部是直接与基体1之间进行连接的，但第二工作部是向上翘起的，在基体1上加工相应的形状，会增加基体1的加工难度，通过压合组件3的设置既能够方便工作层2的设置，提升第二工作部打磨工作的稳定性，又能够减小基体1的加工难度。
36.压合组件3包括第一压环31、第二压环32和第三压环33，第一压环31设置在基体1与工作层2第二工作部之间，第二压环32设置在工作层2第二工作部外侧，第二压环32顶靠第一压环31，第三压环33设置在基体1上，并顶靠第一压环31和第二压环32。第一压环31实现第二工作部底部的抵靠，第二压环32实现第二工作部侧边的抵靠，第三压环33与基体1相接，实现第一压环31和第二压环32的抵靠，整体结构稳定，也便于对装置进行后续处理，第三压环33与基体1之间卡合相接。第三压环33与基体1相接的一端设置凸起，基体1与第三压环33相接的一侧设置凹槽，第三压环33与基体1之间通过凸起和凹槽卡合相接。第三压环33与基体1之间通过凸起卡槽卡合相接的方式，结构稳定，在后续需要对工作层2进行处理时，能够方便对三个压环进行装卸，方便使用。
37.以上实施例对本实用新型及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造宗旨的前提下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。