一种抛光载盘清洗存储设备的制作方法

1.本实用新型涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种抛光载盘清洗存储设备。


背景技术：

2.硅片等半导体加工过程中，需要进行双面研磨以提高半导体的质量，双面研磨过程中，通常需要将半导体设置于抛光载盘上，然后在双面研磨设备上进行研磨。而研磨液及研磨下来的硅片碎屑可能残留并附着于抛光载盘表面，这样，抛光载盘表面可能存在残留物，并对后续的半导体加工过程造成影响。


技术实现要素：

3.本实用新型实施例提供一种抛光载盘清洗存储设备，以解决抛光载盘表面可能存在残留物，对半导体加工过程造成影响的问题。
4.本实用新型实施例提供了一种抛光载盘清洗存储设备，用于清洗并存储抛光载盘，包括壳体，所述壳体内设置有支撑结构和清洁刷，所述支撑结构用于固定抛光载盘，所述清洁刷对应所述支撑结构设置，且所述清洁刷用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘，对应每一所述支撑结构设置的清洁刷包括两组，且两组所述清洁刷分别用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘的两侧。
5.可选的，所述清洁刷包括刷体和设置于所述刷体表面的刷毛，所述刷体设置有所述刷毛的一侧还设置有距离传感器，所述距离传感器用于检测所述刷体和抛光载盘之间的距离。
6.可选的，所述刷体呈圆柱形，所述刷毛环绕所述刷体设置，其中，所述刷体的直径为4至7厘米，所述刷毛的长度为0.5至1厘米。
7.可选的，还包括驱动组件，所述清洁刷与所述驱动组件相连，所述驱动组件用于带动所述清洁刷自转和移动。
8.可选的，还包括设置于所述壳体内的清洁喷头，所述清洁喷头对应所述支撑结构设置，所述清洁喷头用于喷洒清洁液以清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘。
9.可选的，所述壳体内还设置有溢流槽，所述溢流槽与所述壳体的底部之间的壳体为密封结构，所述清洁喷头还用于在存储抛光载盘时，持续向所述壳体内注入清洁液。
10.可选的，所述清洁喷头分别固定于所述壳体的顶部和底部。
11.可选的，还包括可自转的转盘，所述转盘设置于所述壳体内，所述清洁喷头固定于所述转盘上，以在所述转盘的带动下随所述转盘转动。
12.可选的，还包括可自转的转盘，所述转盘设置于所述壳体内，所述支撑结构包括多个吊钩，所述吊钩固定于所述转盘上，以在所述转盘的带动下随所述转盘转动。
13.本实用新型实施例通过设置清洁刷，对位于支撑结构上的抛光载盘的两侧进行清洗，以去除抛光载盘表面残留的研磨液或硅片颗粒等异物，提高抛光载盘的清洁度，有利于降低对于后续半导体加工过程可能造成的影响。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对本实用新型实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
15.图1是本实用新型一实施例提供的抛光载盘清洗存储设备的结构图
具体实施方式
16.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
17.本实用新型实施例提供了一种抛光载盘清洗存储设备，该抛光载盘清洗存储设备用于清洗并存储抛光载盘。
18.如图1所示，在一个实施例中，该抛光载盘清洗存储设备包括壳体101，壳体101内设置有支撑结构，该支撑结构可以是支架，也可以是挂钩等，该支撑结构用于支撑及固定抛光载盘200。
19.该抛光载盘清洗存储设备还包括清洁刷102，清洁刷102对应支撑结构设置，且清洁刷102用于清洁固定于支撑结构上的抛光载盘200，对应每一支撑结构设置的清洁刷102包括两组，且两组清洁刷102分别用于清洁固定于支撑结构上的抛光载盘200的两侧。
20.工作过程中，首先将使用过后的抛光载盘200设置在支撑结构上，示例性的，可以将抛光载盘200悬挂在挂钩上，接下来，控制清洁刷102对位于支撑结构上的抛光载盘200的两侧进行刷洗，以去除抛光载盘200表面残留的研磨液或硅片颗粒等异物。
21.本实用新型实施例通过设置清洁刷102，对位于支撑结构上的抛光载盘200的两侧进行清洗，以去除抛光载盘200表面残留的研磨液或硅片颗粒等异物，提高抛光载盘200的清洁度，有利于降低对于后续半导体加工过程可能造成的影响。
22.在其中一些实施例中，清洁刷102包括刷体和设置于刷体表面的刷毛，刷体设置有刷毛的一侧还设置有距离传感器，距离传感器用于检测刷体和抛光载盘200之间的距离。
23.为了便于操作以及为了避免损坏抛光载盘200，实施时一般不会在抛光载盘200上施加较大的力，因此，更适合以挂钩等非固定支撑结构固定抛光载盘200，这样，可能导致抛光载盘200存在一定的晃动，本实施例中，通过设置位于每一固定结构两侧的两组清洁刷102，并进一步设置了距离传感器检测清洁刷102与抛光载盘200之间的距离，以便根据距离传感器的检测结果控制清洁刷102的位置，能够降低损坏抛光载盘200的可能性，同时有助于提高对于抛光载盘200的清洁效果。
24.本实施例中，刷体呈圆柱形，刷毛环绕刷体设置，其中，刷体的直径为4至7厘米，刷毛的长度为0.5至1厘米，这样，清洁刷102的总体直径控制在5至8厘米左右，能够提高对于抛光载盘200的清洁效果。本实施例中，清洁刷102的轴心与抛光载盘200之间的距离可以控制在2.2至3.5毫米左右，实施时，通过距离传感器检测清洁刷102与抛光载盘200之间的距离，并根据检测到的结果微调清洁刷102的位置，以提高对于抛光载盘200的清洁效果。
25.在其中一些实施例中，还包括驱动组件，清洁刷102与驱动组件相连，驱动组件用于带动清洁刷102自转，以实现对于抛光载盘200的清洗，该驱动组件还用于带动清洁刷102移动，从而实现对于抛光载盘200不同位置的清洗。
26.在一个实施例中，控制清洁刷102的自转速度小于或等于15转每分钟，从而降低清洗过程中损坏抛光载盘200的可能性。
27.在其中一些实施例中，还包括设置于壳体101内的清洁喷头103，清洁喷头103对应支撑结构设置，清洁喷头103用于喷洒清洁液以清洁固定于支撑结构上的抛光载盘200。
28.本实施例中，所选用的清洁液包括但不限于去离子水等，在对抛光载盘200清洁过程中，通过清洁喷头103不断喷淋清洁液，有助于提高对于抛光载盘200的清洁效果。
29.在其中一些实施例中，壳体101内还设置有溢流槽104，溢流槽104与壳体101的底部之间的壳体101为密封结构，清洁喷头103还用于在存储抛光载盘200时，持续向壳体101内注入清洁液。
30.在清洁完成之后，抛光载盘200仍然在壳体101内存储，抛光载盘200的储存过程中，清洁喷头103持续向壳体101内注入清洁液，例如可以是去离子水，从而能够降低抛光载盘200与其他物品接触的可能性，减少可能对抛光载盘200造成的污染。
31.在其中一些实施例中，清洁喷头103分别固定于壳体101的顶部和底部，以分别从不同凡响对抛光载盘200进行清洁，有助于提高清洁效果。
32.在其中一些实施例中，还包括可自转的转盘，转盘设置于壳体101内，清洁喷头103固定于转盘上，以在转盘的带动下随转盘转动。
33.在其中一些实施例中，还包括可自转的转盘，转盘设置于壳体101内，支撑结构包括多个吊钩，吊钩固定于转盘上，以在转盘的带动下随转盘转动。
34.本实施例中，转盘用于控制抛光载盘200和清洁喷头103相对转动，从而提高对于抛光载盘200的清洁效果。在其中一些实施例中，转盘可以用于带动支撑组件及其支撑的抛光载盘200转动，也就是说，清洁喷头103的位置相对于壳体101是固定的；在另外一些实施例中，转盘用于带动清洁喷头103转动，也就是说，支撑组件及其支撑的抛光载盘200相对于壳体101来说是固定的，同样能够实现控制抛光载盘200相对于清洁喷头103转动，有助于提高清洁效果。
35.在对于抛光载盘200进行清洁过程中，清洁液的流量相对较大，示例性的，可以是每一清洁喷头103的流量为3～10升每分钟，当完成对于抛光载盘200的清洁之后，降低清洁喷头103的清洁液流量，本实施例中，可以降低至0.5～2升每分钟，以节约清洁液的使用。充满壳体101的清洁液可以由溢流槽104溢出，溢出的清洁液可以直接排放，也可以进一步执行过滤、蒸馏等回收操作后重复利用。
36.以上，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。