一种带有排气阀的化学镀装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种化学镀装置，尤其是一种带有排气阀的化学镀装置。


背景技术：

2.现有化学镀装置为了实现镀液搅拌均匀目的，采用在化学镀槽底部通入氮气的方法，当氮气在镀液中排出的时候带动镀液翻动形成搅拌。虽然这种方法成功实现了搅拌，但是由于槽底铺设的气体管路出口少，且出气量大，形成很大的气泡，气泡在接近镀件表面通过的机会较大。当气泡在镀件表面通过时对镀件表面附近的镀液扰动剧烈，沉积反应受到影响，可能会造成镀膜不均匀，产品质量不合格。


技术实现要素：

3.本实用新型目的就是提供一种可以实现均匀搅拌镀液，而不会造成镀膜不均匀的化学镀装置。
4.为实现上述目的，本实用新型采用下述技术方案：
5.一种带有排气阀的化学镀装置，所述装置包括加热槽、化学镀槽、筛板、排气阀、下盖板、气阀、通气管路，所述加热槽内盛加热介质，用于给化学镀槽加热，所述化学镀槽内有支撑结构用于支撑筛板，筛板下方有固定隔板，固定隔板将镀槽分成上下两部分，镀槽底部与下盖板密封联接形成镀槽下部的气室，所述固定隔板上开分布均匀的小孔，小孔内固定排气阀，气室与通气管路连接，所述通气管路上安装气阀控制气体通断。
6.所述的一种带有排气阀的化学镀装置，进一步的，所述筛板与固定隔板的距离为 1～10cm。
7.所述的一种带有排气阀的化学镀装置，进一步的，所述固定隔板与下盖板的距离为 1～10cm。
8.所述的一种带有排气阀的化学镀装置，进一步的，所述排气阀的高度为2～10cm，排气阀的分布密度为每平方分米1～4个。
9.所述的一种带有排气阀的化学镀装置，进一步的，所述下盖板与镀槽用固定件联接密封，可拆卸清理。
10.本实用新型提供的一种带有排气阀的化学镀装置，将镀件放置在筛板上进行化学镀，反应时用通气管路通入惰性气体，气体进入气室，当气室气压达到一定程度后压开排气阀排气，排气阀分布密集，所排气体在镀液中形成小气泡，对镀件表面镀液扰动较小且均匀流动，沉积材料可在镀件表面形成均匀镀膜。
附图说明
11.图1是本实用新型提供的一种带有排气阀的化学镀装置结构示意图。
12.图2是本实用新型提供的一种带有排气阀的化学镀装置剖视图。
13.图中：
14.1、加热槽，2、化学镀槽，3、筛板，4、排气阀，5、下盖板，6、气阀，7、通气管路
具体实施方式
15.下面结合附图给出的实施例对本实用新型作进一步说明。
16.参见图1、图2，带有排气阀的化学镀装置包括加热槽1、化学镀槽2、筛板3、排气阀 4、下盖板5、气阀6、通气管路7，加热槽1内盛加热介质，用于给化学镀槽2加热，化学镀槽2内有支撑结构用于支撑筛板3，化学镀时镀件放置在筛板3上，筛板3下方有固定隔板，两者之间的距离为5cm，固定隔板将镀槽分成上下两部分，镀槽底部与下盖板5用固定件密封联接形成镀槽下部的气室，下盖板5可拆卸清理，固定隔板与下盖板5的距离为 5cm，固定隔板上开分布均匀的小孔，开孔密度为每平方分米1个，小孔内固定排气阀4，排气阀4的高度为5cm，所述排气阀4在气室气压较大时向上排气，气室气压较小时排气阀关闭并阻止镀液通过，气室与通气管路7连接，通气管路7上安装气阀6控制气体通断。
17.最后应说明的是，以上实施例仅用于说明本实用新型的技术方案而非限制，凡对本实用新型的技术方案所做的等效修改或者等同替换，只要不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。


技术特征：
1.一种带有排气阀的化学镀装置，所述装置包括加热槽、化学镀槽、筛板、排气阀、下盖板、气阀、通气管路，所述加热槽内盛加热介质，用于给化学镀槽加热，其特征在于：所述化学镀槽内有支撑结构用于支撑筛板，筛板下方有固定隔板，固定隔板将镀槽分成上下两部分，镀槽底部与下盖板密封联接形成镀槽下部的气室，所述固定隔板上开分布均匀的小孔，小孔内固定排气阀，气室与通气管路连接，所述通气管路上安装气阀控制气体通断。2.根据权利要求1所述的一种带有排气阀的化学镀装置，其特征在于：所述筛板与固定隔板的距离为1～10cm。3.根据权利要求1所述的一种带有排气阀的化学镀装置，其特征在于：所述固定隔板与下盖板的距离为1～10cm。4.根据权利要求1所述的一种带有排气阀的化学镀装置，其特征在于：所述排气阀的高度为2～10cm，排气阀的分布密度为每平方分米1～4个。5.根据权利要求1所述的一种带有排气阀的化学镀装置，其特征在于：所述下盖板与镀槽用固定件联接密封，可拆卸清理。

技术总结
本实用新型公开了一种带有排气阀的化学镀装置，包括加热槽、化学镀槽、筛板、排气阀、下盖板、气阀、通气管路，所述加热槽内盛加热介质，用于给化学镀槽加热，所述化学镀槽内有支撑结构用于支撑筛板，筛板下方有固定隔板，固定隔板将镀槽分成上下两部分，镀槽底部与下盖板密封联接形成镀槽下部的气室，所述固定隔板上开分布均匀的小孔，小孔内固定排气阀。本实用新型结构简单，操作方便，排气阀分布密集，所排气体在镀液中形成小气泡，对镀件表面镀液扰动较小，有益于化学镀的镀膜均匀性。有益于化学镀的镀膜均匀性。有益于化学镀的镀膜均匀性。


技术研发人员：金会义 徐晓萍 卜路霞 张淑娟 石军
受保护的技术使用者：天津农学院
技术研发日：2021.01.11
技术公布日：2021/11/16