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一种恩格列净异构体杂质的合成方法与流程

2021-11-09 21:13:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种合成式i-1或式i-2的化合物的方法,其包括以下步骤:a)间溴氟苯或邻溴氟苯与(s)-3-羟基四氢呋喃反应,生成式vi-1或vi-2的化合物;b)式vi-1或vi-2的化合物与5-溴-2-氯苯甲醛在丁基锂的作用下反应,生成式v-1或v-2的化合物;c)式v-1或v-2的化合物溶于有机溶剂中,在三氟乙酸或三氟化硼乙醚和三乙基硅烷的作用下,得到式iv-1或iv-2的化合物;d)式iv-1或iv-2的化合物与式iii化合物,即2,3,4,6-四-o-三乙基硅烷基-d-葡萄糖内酯,在正丁基锂作用下反应得到式ii-1或ii-2的化合物;和
e)ii-1或ii-2的化合物在三氟化硼乙醚和三乙基硅烷作用下,得到式i-1或i-2的化合物。2.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤a)中,间溴氟苯或邻溴氟苯与(s)-3羟基四氢呋喃的摩尔比为1:1.1-1:1.5。3.根据权利要求1或2所述的方法,其中在步骤b)中,化合物vi-1或vi-2与丁基锂的摩尔比为1:1.2-1:1,化合物vi-1或vi-2与5-溴-2-氯苯甲醛的摩尔比为1:1.2-1:1.1。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中在步骤c)中,化合物v-1或v-2与三乙基硅烷的摩尔比为1:2-1:5,化合物v-1或v-2与三氟乙酸(或三氟化硼乙醚)摩尔比为1:5-1:10。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中在步骤d)中,化合物iv-1或iv-2与式iii的化合物摩尔比为1:1-1:1.2,化合物iv-1或iv-2与正丁基锂摩尔比可以为1:1-1:1.5。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中在步骤e)中,化合物ii-1或ii-2与三氟化硼乙醚的摩尔比为1:2-1:4,化合物ii-1或ii-2与三乙基硅烷摩尔比为1:2-1:5。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其中步骤a)的反应中可加入碱,所述碱选自叔丁醇钾、叔丁醇钠和碳酸铯中的一种、两种或更多种。8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中各步骤的反应可在溶剂中进行,各步骤所用的溶剂可相同或不同,所述溶剂可选自n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、四氢呋喃、无水乙醚、甲苯、二氯甲烷、乙腈和四氢呋喃中的一种、两种或更多种。

技术总结
本发明公开了一种式I-1或I-2的化合物的合成方法,所述式I-1或I-2的化合物为恩格列净在合成过程中产生的间位和邻位异构体。本发明公开的合成方法放弃了傅克酰基化的思路,巧妙地找寻到了合适的起始物料间溴氟苯或邻溴氟苯,用溴苯的锂化作为亲核试剂,和醛类化合物做亲核加成反应。本发明的制备方法反应路线较短、操作简单、产品纯度和收率较高、适合大规模生产,对研究和控制恩格列净的质量具有重要意义。义。义。义。


技术研发人员:梁飞 郑祖爽 宋启义 李成云 高书军
受保护的技术使用者:北京康派森医药科技有限公司
技术研发日:2020.05.07
技术公布日:2021/11/8
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