显示面板及其测试端子的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其测试端子。


背景技术：

2.显示面板的制程往往是较复杂的，以液晶显示面板为例，其中就包括阵列基板制程工艺、彩膜基板制程工艺，对盒工艺，而且还包括切割工艺，将一大块显示面板母板切割成多个显示面板子板。而由于制程良率的原因，在每一步关键制程后都需要进行一定检测，以保证后续工艺的正常进行，这里以阵列基板的布线工艺为例，阵列基板上的驱动走线，例如扫描线、数据线等信号线需要检测是否存在制程不良例如断线等问题。此时的阵列基板还未进行绑定芯片等制程，因此为了测试良率，一般在阵列基板上形成测试走线，通过测试走线裸露的测试端子连接外部信号，来对阵列基板内部的测试走线进行检测。
3.但是裸露的测试端子暴露在环境中，很容易被环境中的水汽所腐蚀，而且测试端子中的金属层一旦发生腐蚀，该腐蚀是具有连续性的，会导致整条测试走线无法使用，更有甚者会导致测试走线腐蚀导致显示面板整体报废。因此如何解决测试端子的腐蚀问题成为本领域技术人员亟需解决的问题。


技术实现要素：

4.本技术的目的是提供一种显示面板及其测试端子，以提高显示面板的测试端子的抗腐蚀能力。
5.本技术公开了一种显示面板的测试端子，所述显示面板包括测试走线和测试端子，所述测试走线连接所述测试端子，所述测试端子包括：金属层和连接电极层，所述金属层包括第一金属衬垫和第二金属衬垫，所述第一金属衬垫连接所述测试走线，所述第二金属衬垫设置在所述第一金属衬垫远离所述测试走线的一侧；所述第一金属衬垫与所述第二金属衬垫之间通过间断部断开；所述连接电极层电连接所述第一金属衬垫和第二金属衬垫，所述连接电极层采用耐腐蚀的导电材料制成。
6.可选的，所述测试端子还包括绝缘层，所述绝缘层设置在所述金属层上，且所述第一金属衬垫和所述第二金属衬垫之间通过所述绝缘层隔离，所述绝缘层对应所述第一金属衬垫和所述第二金属衬垫的位置设置有多个第一过孔；所述连接电极层设置在所述绝缘层上；且覆盖所述第一金属衬垫和所述第二金属衬垫；所述连接电极层通过所述第一过孔连接至所述第一金属衬垫和第二金属衬垫；所述第一金属衬垫和所述第二金属衬垫对应所述第一过孔的位置裸露。
7.可选的，所述连接电极层对应所述间断部设置在所述第一金属衬垫和所述第二金属衬垫的下方；所述耐腐蚀的导电材料包括铟锡氧化物材料，所述连接电极层采用铟锡氧化物材料制成；所述测试端子还包括绝缘层和透明导电层，所述绝缘层设置在所述金属层上，且所述第一金属衬垫和所述第二金属衬垫之间通过所述绝缘层隔离，所述绝缘层对应所述第二金属衬垫的位置设置有多个第二过孔；所述第二金属衬垫对应所述第二过孔的位
置裸露；所述透明导电层设置在金属层上，且仅覆盖所述第二金属衬垫，所述透明导电层通过所述第二过孔连接所述第二金属衬垫。
8.可选的，所述测试端子还包括保护层，所述保护层对应所述第一金属衬垫设置，且所述保护层设置在所述连接电极层上。
9.可选的，所述第一金属衬垫的面积小于所述第二金属衬垫的面积。
10.可选的，所述间断部的宽度大于等于一预设距离。
11.可选的，所述间断部对应所述显示面板的切割线设置。
12.可选的，所述第一金属衬垫的宽度等于所述第二金属衬垫的宽度，所述第一金属衬垫的长度小于等于所述第二金属衬垫的长度的一半。
13.可选的，所述预设距离为20um。
14.本技术还公开了一种显示面板，包括多条测试走线和多个上述显示面板的测试端子，多个所述测试端子与多条所述测试走线一一对应连接。
15.本技术通过将测试端子的金属层进行分段设计，即分割成第一金属衬垫和第二金属衬垫，两者之间的连接通过连接电极层来连接。当裸露的金属衬垫发生腐蚀后，由于金属腐蚀具有连续性，会持续腐蚀更多的金属，但是在间断部的位置处，金属腐蚀由于测试连接线的阻挡，不会进一步蔓延至内部的测试走线。具体来说是由于连接电极层采用铟锡氧化物材料制成，具有较强的抗腐蚀性能，使得在第二金属衬垫被腐蚀后，即使造成金属腐蚀蔓延，也不会蔓延至测试走线。
附图说明
16.所包括的附图用来提供对本技术实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本技术的实施方式，并与文字描述一起来阐释本技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：图1是本技术的第一实施例的一种显示面板的示意图；图2是本技术的第一实施例的第一种测试端子和测试走线的俯视示意图；图3是图2沿a
‑
a切割线的截面示意图；图4是本技术的第一实施例的切割后的显示面板的示意图；图5是本技术的第一实施例的第二种测试端子和测试走线的俯视示意图；图6是图5沿b
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b切割线的截面示意图；图7是本技术的第一实施例的第三种测试端子和测试走线的俯视示意图；图8是本技术的第一实施例的第四种测试端子和测试走线的俯视示意图；图9是本技术的第二实施例的一种测试端子和测试走线的俯视示意图；图10是图9沿c
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c切割线的截面示意图。
17.其中，10、显示面板；100、测试端子；110、金属衬垫；111、第一金属衬垫；112、第二金属衬垫；113、第一子金属衬垫；114、第二子金属衬垫；115、间断部；120、绝缘层；121、第一过孔；122、第二过孔；130、透明导电层；131、连接电极层；140、保护层；150、切割线；200、测试走线；201、测试主线；202、测试支线；203、第一分支；204、第二分支；210、测试连接线；300、驱动走线。
具体实施方式
18.需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本技术可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。
19.在本技术的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形，意为不排他的包含，可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
20.另外，“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本技术的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
21.此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
22.下面参考附图和可选的实施例对本技术作详细说明。
23.实施例一：如图1所示，作为本技术的第一实施例，公开了一种显示面板10的示意图，包括多条测试走线200和多个测试端子100，多个所述测试端子100与多条所述测试走线200一一对应连接，所述测试走线200连接与显示面板10内部的驱动走线300，该驱动走线300可包括数据线、扫描线、栅极驱动线、源极驱动线、时钟信号线等。需要说明的是，本技术主要改进在于测试端子100的结构方面，而该测试端子100不仅限于连接测试走线200，对应显示面板10内部需要连接测试端子100的走线都可适用，属于本技术的保护范围。以下以测试端子100来具体说明。
24.如图2所示，公开了一种显示面板的测试端子，所述测试端子100包括：金属层110和连接电极层131，所述金属层110包括第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，所述第一金属衬垫111连接所述测试走线，所述第二金属衬垫112设置在所述第一金属衬垫111远离所述测试走线200的一侧；所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间通过间断部115断开；所述连接电极层131电连接所述第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，所述连接电极层131采用耐腐蚀的导电材料制成，所述耐腐蚀的导电材料包括铟锡氧化物材料或耐腐蚀的金属材料，本技术主要以铟锡氧化物材料为例。
25.本技术通过将测试端子100的金属层110进行分段设计，即分割成第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，两者之间的连接通过连接电极层131来连接。当裸露的金属衬垫发生腐蚀后，由于金属腐蚀具有连续性，会持续腐蚀更多的金属，但是在间断部115的位置处，金属腐蚀由于测试连接线的阻挡，不会进一步蔓延至内部的测试走线。具体来说是由于连接电极层131采用铟锡氧化物材料制成，具有较强的抗腐蚀性能，使得在第二金属衬垫112被腐蚀后，即使造成金属腐蚀蔓延，也不会蔓延至测试走线。
26.如图3示出了图2沿a
‑
a切割线的截面示意图，所述测试端子还包括绝缘层120，所述绝缘层120设置在所述金属层110上，且所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112之间通过所述绝缘层隔离，所述绝缘层120对应所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112的位置设置有多个第一过孔121；所述连接电极层131设置在所述绝缘层上；且覆盖所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112；所述连接电极层131通过所述第一过孔121连接至所述第一金属衬垫111和第二金属衬垫112；所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112对应所述第一过孔121的位置裸露。
27.需要说明的是，所述金属衬垫为金属层形成，该金属层与显示面板内薄膜晶体管的栅极位于同一金属层，而且测试走线一般采用金属形成，与显示面板内部的薄膜晶体管的栅极或源漏极为同一金属层，而金属层一般采用铜、铝、钼等金属材料形成，较容易被腐蚀，而铟锡氧化物的抗腐蚀能力较强。而本技术通过将金属衬垫断开为第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，通过选用抗腐蚀能力较强的连接电极层131进行转接。当裸露的金属衬垫发生腐蚀后，由于金属腐蚀具有连续性，会持续腐蚀更多的金属，但是在间断部115的位置处，金属腐蚀由于间断部115的阻挡，不会进一步蔓延至内部的测试走线。
28.本技术通过将测试端子100内的金属衬垫110分块设置，即分割成两块金属衬垫，且两块金属衬垫仍然是一个测试端子100，同时连接到同一条测试走线200上，因此该两款金属衬垫上实际上还是传输的同一个测试信号。而将其金属衬垫110分块设置后，即使其中一块受到水汽腐蚀，也不会将这个测试端子100内的金属衬垫110完全腐蚀，通过分块设置后，例如第一金属衬垫111发生腐蚀后，由于金属腐蚀具有连续性，会持续腐蚀更多的金属，而第二金属衬垫112由于不与第一金属衬垫111直接接触，而且与第一金属衬垫111设置一定距离，因此不会直接蔓延至第二金属衬垫112。相对来说，即使第一金属衬垫111与第二金属衬垫112之间虽然分隔开，但是两者之间的间距若是较小，在第一金属衬垫111腐蚀后，第二金属衬垫112仍有较大可能被第一金属衬垫111连续腐蚀。因此本技术还设置所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间的距离大于等于一第一预设长度，来保证在该间距下，即使第一金属衬垫111被腐蚀，第二金属衬垫112也不会受到第一金属衬垫111的影响，从而可以保护测试端子100的正常工作，进而提升测试端子100的抗腐蚀能力。
29.其中，第一预设长度为20um，也就是说所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间的距离l大于等于20um。本技术通过在温度为85摄氏度，湿度为85%rh条件下，测试第一金属衬垫111腐蚀后，第二金属衬垫112在不同间距，例如5um、10um、20um和30um的腐蚀情况，具体查看下表：其中，表中横坐标表示测试时间，单位为小时，纵坐标表示不同间距，单位为微米，表中为电阻测试值，单位为欧姆。
30.表1：高温高湿存储验证
时间/距离/电阻030608015024034050051052053060080010005um14.3327116912002800530089001200075000158000680000450000010um12.813.837.744.31042101200230045008000190003000029000020um12.44.610.81839567514228745262482898530um1111115.58.6243562124168199
通过数据说明，在第一金属衬垫111和第二金属衬垫112的间距为10um时，在500h之后，产生了较大电阻变异，说明此事的金属衬垫已经被腐蚀了，则在第一金属衬垫111腐蚀后，第二金属衬垫112仍然有被腐蚀的风险；而在第一金属衬垫111和第二金属衬垫112的
间距为20um时，第二金属衬垫112不被腐蚀的可能性大大提升，即使在1000h的情况下，仍然未突破1000欧姆。可以看出在20um及其以上，金属衬垫的腐蚀蔓延情况是较好的。
31.需要说明的是，本实施例中，仅以第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，即将测试端子100分成两个金属衬垫为例，在不同情况下，还可以分成三个、四个或以上；在此不做限定，在实际应用中，可视情况选择。
32.具体地，所述第一金属衬垫111的面积小于所述第二金属衬垫112的面积。第一金属衬垫111更靠近所述测试走线200，将第一金属衬垫111的面积设置的更小，使得第一金属衬垫111被腐蚀的风险更低，而且为了防止第一金属衬垫111被腐蚀，本技术还进行了进一步的改进，后续详细说明。此处，所述第一金属衬垫111的宽度等于所述第二金属衬垫112的宽度，所述第一金属衬垫111的长度m1小于等于所述第二金属衬垫112的长度m2的一半。
33.如图3所示，本实施例还可将所述间断部115对应所述显示面板的切割线150设置，所述显示面板的切割线150用于沿该切割线150切割所述显示面板，在显示面板的成品阶段，此时外部电路板已经绑定到显示面板上，此时可加一道切割工序，将测试端子100切除，从而防止在成品后，测试端子100因裸露问题而腐蚀，而且可以避免测试端子100腐蚀后沿金属衬垫110向测试走线200方向进行蔓延。
34.具体来说，本技术的测试走线200一般用于多个显示面板组成的显示母板，在切割前需要对显示母板进行测试。在切割后，形成多个显示面板后，需要对显示面板进一步进行测试，此时需要用到测试端子100。当然，在切割显示母板时，可能形成四分之一的大板进行出货，此时的大板仍然是有多个显示面板组成的，仅相对显示母板而言，进行了切割，此时也可以用于出货。一般而言，将显示面板切割成单个的板后，需要一次测试，测试完成后进行绑定外部电路板，完成之后，测试端子100可切掉，不再需要测试端子100进行测试。需要说明的是，在显示母板阶段，测试端子上的测试走线可以从测试端子的第二金属衬垫延伸至显示母板的上，进而有显示母板上的测试走线将其连接至显示母板的测试端上，而此时的测试信号不从显示面板的测试端子上输入，而是从显示母板的测试端，经显示母板的测试走线到第二金属衬垫、再到第一金属衬垫、再从显示面板上的测试走线200传输至显示面板的内部。因此第二金属衬垫也可能会连接另一条测试走线。该条测试走线在显示母板切割时，会切断。对应的即使第二金属衬垫腐蚀，沿该条测试走线腐蚀蔓延，也不会造成显示面板内部的驱动走线腐蚀的情况，具体地该条连接到第二金属衬垫的测试走线还可以采用后续测试分支的思路来解决腐蚀的问题，详细见下文。
35.如图4示出了图3沿切割线150切割后的显示面板，对应的本技术还公开了一种切割后的显示面板，该显示面板包括测试走线200，测试走线200延伸至显示面板的一侧，且该位置处由测试连接线210连接至测试走线200，此处的测试走线200采用金属层制成，与内部的薄膜晶体管的栅极金属层位于同一层，而连接电极层131采用铟锡氧化物制成，可设置在测试走线200的上层。而连接电极层131从显示面板的侧面进行裸露，测试走线200不在裸露在外，而且后续可通过磨边或涂胶的方式，将连接电极层131进行覆盖，使得水汽无法从连接电极层131的位置进入。
36.如图5示出了第一实施例的第二种测试端子的俯视示意图，结合图6示出了图5沿b
‑
b切割线的截面示意图，为了进一步保护第一金属衬垫不被腐蚀，以下公开了第一种变形实施方式，所述测试端子还包括保护层140，所述保护层140对应所述第一金属衬垫设置，且
所述保护层140设置在所述连接电极层131上。本实施例通过设置保护层140，该保护层140覆盖其中一个金属衬垫设置，这里是以第一金属衬垫111为例，第一金属衬垫111裸露的位置皆存在保护层140覆盖，因而第一金属衬垫111不会再裸露。该测试端子100内的第一金属衬垫111和第二金属衬垫112虽然分开，但是该透明导电层130却是一整块，在外部的探针与第二金属衬垫112上方的透明导电层130接触时，实际上也是与第一金属衬垫111与探针进行导电连接。通过保护层140的设置，可以较好的保护其中一个金属衬垫，使其受到水汽腐蚀的可能性大大降低，从而抗腐蚀能力大大提升。通过将测试端子100的一部分金属衬垫即第二金属衬垫112裸露，一部分金属保护即第一金属衬垫111覆盖保护层140，来实现既能与外部的探针接触，也能保护一部分的金属衬垫。而且在金属衬垫腐蚀后，这一部分被保护的金属衬垫被腐蚀的风险仍然是较低的。进一步的，所述保护层140与所述第一金属衬垫111的正投影完全重合。这里所陈述的正投影指的是，显示面板的衬底上的膜层，例如第一金属衬垫、保护层140在衬底上的投影为正投影。
37.如图7示出了第一实施例的第三种测试端子和测试走线的俯视示意图；为了进一步保护第一金属衬垫不被腐蚀，以下公开了第三种变形实施方式，测试走线划分为测试主线和测试支线，所述测试主线通过所述测试支线连接到测试端子，所述测试支线连接所述第一金属衬垫。所述第一金属衬垫包括第一子金属衬垫113和第二子金属衬垫114，所述第一子金属衬垫113与所述第二子金属衬垫114之间通过所述绝缘层隔离，所述第一子金属衬垫113与所述第二子金属衬垫114之间也存在间隔，该间隔可与上述的间断部115保持相同的设计，在此不再赘述。
38.在第一金属衬垫发生腐蚀的情况下，较大可能会蔓延至测试走线，因此此处设置测试支线，来防止第一金属衬垫发生腐蚀的情况下，进一步向测试走线腐蚀。而且将第一金属衬垫分割成第一子金属衬垫113和第二子金属衬垫114，可以避免第一金属衬垫在腐蚀后，整块的第一金属衬垫全部报废。即使第一子金属衬垫113被腐蚀，也很难腐蚀蔓延到第二子金属衬垫114，一定程度上可提高第一金属衬垫的抗腐蚀能力。
39.所述测试支线202还可包括第一分支203和第二分支204，所述第一子金属衬垫113通过所述第一分支连接到测试走线200，所述第二子金属衬垫114通过所述第二分支连接到测试走线200；所述第一分支203与所述第二分支204通过所述绝缘层120隔离；所述第一分支203的长度m大于等于第二预设长度，所述第二分支204的长度m大于等于第二预设长度。需要说明的是，这里的第一分支203和第二分支204可以直接连接所述测试支线202。或者第一分支203和第二分支204构成测试支线202，该第一分支203和第二分支204与测试连接线连接。
40.第一子金属衬垫113或第二子金属衬垫114腐蚀后都有向测试走线200蔓延的可能性，如果测试走线200也被腐蚀，首先将导致无法测试，后续还会影响显示面板10内的驱动走线300，造成更大的影响。因此本实施例通过设置分支，使得第一子金属衬垫113和第二子金属衬垫114分别通过分支连接到测试走线200，那么即使在第一子金属衬垫113或第二子金属衬垫114受到腐蚀的情况下，即使向测试走线200方向进行腐蚀，仍然存在第一分支203或第二分支204的减缓作用，防止腐蚀蔓延到测试走线200；而且第一分支203和第二分支204设置的长度m大于等于一第二预设长度，该第二预设长度在上述同样的条件下进行测试：在温度为85摄氏度，湿度为85%rh条件下，测试第一金属衬垫111腐蚀后，第一分支在不
同长度，例如10um、30um、50um、70um和100um的腐蚀情况，具体查看下表：其中，表中横坐标表示测试时间，单位为小时，纵坐标表示不同间距，单位为微米，表中为电阻测试值，单位为欧姆。由上述实验数据可知，在第二预设长度为50um的情况下，第一分支的腐蚀蔓延情况较好。
41.表2：高温高湿存储验证
时间/距离/电阻0306080150240340500510520530600800100010um1.22.540100121033006900100002500031000121000030000005000000850000030um1.21.513.837.744.3104210920231045208120191103400029600050um1.21.41.815.528395675160270450650920114070um1.21.41.610.82226355578123150178186200100um1.21.21.21.21.21.21.21.21.21.51.51.51.51.5
需要说明的是，第二金属衬垫也可以一分为二，对应第二金属衬垫连接的测试走线也可以采用分支的方式，来避免在显示母板阶段，第二金属衬垫腐蚀后沿该条测试走线至显示母板的测试走线上，如图8示出了第四种测试端子的示意图。
42.实施例二：如图9所述，作为本技术的第二实施例，与上一实施例不同之处在于连接电极层131的位置不同，图9示出了测试走线200与测试端子100的腐蚀示意图，图10示出了图9沿c
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c切割线150的截面示意图。
43.所述连接电极层131对应所述间断部115设置在所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112的下方；所述耐腐蚀的导电材料包括铟锡氧化物材料，所述测试连接线采用铟锡氧化物材料制成。所述测试端子100还包括绝缘层120和透明导电层130，所述绝缘层120设置在所述金属层110上，且所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112之间通过所述绝缘层120隔离，所述绝缘层120对应所述第二金属衬垫112的位置设置有多个第二过孔122；所述第二金属衬垫112对应所述第二过孔122的位置裸露；所述透明导电层130设置在金属层110上，且仅覆盖所述第二金属衬垫112，所述透明导电层130通过所述第二过孔122连接所述第二金属衬垫112。
44.相对于实施例一将连接电极层131设置在绝缘层上的方式来说，本实施例直接将连接电极层131采用底层设计，设置在测试端子的金属层下方，且不再需要过孔的方式连接连接电极层131，直接与连接电极层131连接即可，连接电极层131与第一金属衬垫和第二金属衬垫之间不存在绝缘层隔离。而且将连接电极层131设置在底层，可避免外部水汽的侵入。
45.具体地，所述测试端子还可包括保护层140，所述保护层140对应所述第一金属衬垫设置，且所述保护层140设置在所述连接电极层131上。需要说明的是，实施例一中的同样适用于实施例二，例如：所述第一金属衬垫的面积小于所述第二金属衬垫的面积。所述间断部115的宽度大于等于一预设距离；所述预设距离为20um。所述间断部115对应所述显示面板的切割线设置。所述第一金属衬垫的宽度等于所述第二金属衬垫的宽度，所述第一金属衬垫的长度小于等于所述第二金属衬垫的长度的一半。结合于实施例二中，具有区别于实施例一的效果，例如在防止水汽干扰方面效果更佳。
46.需要说明的是，本技术还可以将实施例一和实施例二的方案进行结合，即设置双层的连接电极层131，不仅在底层设置连接电极层131连接间断部115的第一金属衬垫和第二金属衬垫，而且通过顶层连接电极层131设置过孔的方式来连接第一金属衬垫和第二金
属衬垫，相当于两层连接电极层131并联的方式，考虑到铟锡氧化物的阻抗较高，此并联方式也可以降低间断部115的电阻，使得此处的电阻与测试走线上的电阻更均一。
47.需要说明的是,本技术的发明构思可以形成非常多的实施例，但是申请文件的篇幅有限，无法一一列出，因而，在不相冲突的前提下,以上描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例，各实施例或技术特征组合之后，将会增强原有的技术效果。
48.本技术的技术方案可以广泛用于各种显示面板，如tn（twisted nematic，扭曲向列型）显示面板、ips（in
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plane switching，平面转换型）显示面板、va（vertical alignment，垂直配向型）显示面板、mva（multi
‑
domain vertical alignment，多象限垂直配向型）显示面板，当然，也可以是其他类型的显示面板，如oled（organic light
‑
emitting diode，有机发光二极管）显示面板，均可适用上述方案。
49.以上内容是结合具体的可选实施方式对本技术所作的进一步详细说明，不能认定本技术的具体实施只局限于这些说明。对于本技术所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本技术的保护范围。