技术总结
本申请涉及消音减噪技术领域，特别涉及一种吸声结构，包括盒体、阻性吸声层和抗性吸声层；所述阻性吸声层由多孔吸声材料制成；所述抗性吸声层内设有亥姆霍兹共鸣腔阵列；所述阻性吸声层和所述抗性吸声层均安装于所述盒体内；所述盒体的第一面上设有多个通孔；所述阻性吸声层设置于所述抗性吸声层与所述盒体的第一面之间。本申请通过设置有亥姆霍兹共鸣腔阵列的抗性吸声层可以针对户内变电站较难控制的100Hz和200Hz低频有调声进行特殊“消峰”设计，频率针对性较强，有效地解决了现有技术中存在无法很好地降低声源位置的100Hz和200Hz低频有调声的技术问题。200Hz低频有调声的技术问题。200Hz低频有调声的技术问题。
技术研发人员：王毅 潘海毅 林其雄 许杰 王立峰 洪炜平 蔡蒂 邹伟煜 陈宇健 李阔 吴国玥 梁为 林伟斌 黄威
受保护的技术使用者：广东电网有限责任公司广州供电局
技术研发日：2021.04.01
技术公布日：2021/6/7
本申请涉及消音减噪技术领域，特别涉及一种吸声结构，包括盒体、阻性吸声层和抗性吸声层；所述阻性吸声层由多孔吸声材料制成；所述抗性吸声层内设有亥姆霍兹共鸣腔阵列；所述阻性吸声层和所述抗性吸声层均安装于所述盒体内；所述盒体的第一面上设有多个通孔；所述阻性吸声层设置于所述抗性吸声层与所述盒体的第一面之间。本申请通过设置有亥姆霍兹共鸣腔阵列的抗性吸声层可以针对户内变电站较难控制的100Hz和200Hz低频有调声进行特殊“消峰”设计，频率针对性较强，有效地解决了现有技术中存在无法很好地降低声源位置的100Hz和200Hz低频有调声的技术问题。200Hz低频有调声的技术问题。200Hz低频有调声的技术问题。
技术研发人员：王毅 潘海毅 林其雄 许杰 王立峰 洪炜平 蔡蒂 邹伟煜 陈宇健 李阔 吴国玥 梁为 林伟斌 黄威
受保护的技术使用者：广东电网有限责任公司广州供电局
技术研发日：2021.04.01
技术公布日：2021/6/7
再多了解一些
本文用于企业家、创业者技术爱好者查询，结果仅供参考。
