一种电流稳定性高的V形导电座的制作方法

一种电流稳定性高的v形导电座
技术领域
1.本发明属于电镀用导电座领域，尤其涉及一种电流稳定性高的v形导电座。


背景技术：

2.表面处理是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。表面处理有两种解释，一种为广义的表面处理，即包括前处理、电镀、涂装、化学氧化、热喷涂等众多物理化学方法在内的工艺方法；另一种为狭义的表面处理，即只包括喷砂、抛光等在内的前处理部分。
3.电镀工艺中，导电座和导电杆是导电装置的重要组成部分，导电座和导电杆的配合紧密程度影响导电装置的导电性以及电流稳定性。但是导电座和导电杆在长时间使用后，导电杆的表面容易氧化生锈，导致导电装置导电性不佳、电流不稳定，影响电镀质量。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于：提供一种电流稳定性高的v形导电座，利用导电座有效的去除导电杆上氧化生锈的部分，导电片充分贴合导电杆，导电装置的导电性好、电流稳定，充分保证电镀质量。
5.为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：一种电流稳定性高的v形导电座，包括：基座、导电座和支撑座，基座设置在电镀池内，导电座位置对应设置在导电杆下方，导电座滑动连接在基座上，导电座包括底座、支撑柱和导电片，底座一相对侧设置有对称布置的支撑柱，两个支撑柱之间设置有导电片，导电片连接电源线，两个支撑座对称布置在导电座两侧，支撑座的位置对应支撑柱，支撑柱弹性连接在支撑座上。
6.作为上述技术方案的进一步描述：
7.导电片包括两个对称布置的导电片单元，导电片单元弹性连接在支撑板上，支撑板固定安装在底座。
8.作为上述技术方案的进一步描述：
9.支撑柱的厚度等于导电杆的厚度。
10.作为上述技术方案的进一步描述：
11.导电片的厚度大于导电杆的厚度。
12.作为上述技术方案的进一步描述：
13.两个支撑柱的距离等于导电杆的宽度。
14.作为上述技术方案的进一步描述：
15.基座一侧设置有驱动装置，驱动装置的驱动杆固定安装在基座上。
16.作为上述技术方案的进一步描述：
17.基座上设置有滑槽，底座滑动连接在滑槽内。
18.作为上述技术方案的进一步描述：
19.滑槽的截面呈上宽下窄的梯形结构。
20.综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：
21.1、本发明中，使用时导电杆下行，与导电座上的导电片配合实现通电。导电座不是位于导电杆的正下方，导电杆下行时，导电杆上的斜面与支撑柱的顶部接触，推动导电座在基座上滑动，直至导电杆对准导电片，在这个过程中支撑柱通过与导电杆表面的接触去除导电杆上的氧化生锈层，保证导电座和导电杆的导电效果。
22.2、本发明中，导电片由两个对称布置的导电片单元组成，两个导电片单元形成v形结构，并且导电片单元两侧弹性连接在支撑板上，并且通过支撑柱进行限位，保证导电杆和导电片接触紧密、不易脱离，从而确保电流稳定，保证电镀质量。
附图说明
23.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
24.图1为一种电流稳定性高的v形导电座的结构示意图。
25.图2为一种电流稳定性高的v形导电座的俯视角度结构示意图。
26.图3为一种电流稳定性高的v形导电座的状态变化示意图一。
27.图4为一种电流稳定性高的v形导电座的状态变化示意图二。
28.图5为一种电流稳定性高的v形导电座的状态变化示意图三。
29.图例说明：
30.1、基座；11、滑槽；2、导电座；21、底座；22、支撑柱；23、导电片；231、导电片单元；24、支撑板；3、支撑座；4、导电杆；5、驱动装置；51、驱动杆。
具体实施方式
31.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
32.请参阅图1
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5，本发明提供一种技术方案：一种电流稳定性高的v形导电座，包括：基座1、导电座2和支撑座3，基座1设置在电镀池内，导电座2位置对应设置在导电杆4下方，导电座2滑动连接在基座1上，导电座2包括底座21、支撑柱22和导电片23，底座21一相对侧设置有对称布置的支撑柱22，两个支撑柱22之间设置有导电片23，导电片23连接电源线，两个支撑座3对称布置在导电座2两侧，支撑座3的位置对应支撑柱22，支撑柱22弹性连接在支撑座3 上。
33.导电片23包括两个对称布置的导电片单元231，导电片单元231弹性连接在支撑板24上，支撑板24固定安装在底座21，保证导电杆和导电片接触紧密、不易脱离，从而确保电流稳定，保证电镀质量。
34.支撑柱22的厚度等于导电杆4的厚度，保证对导电杆4上氧化生锈层的清洁效果。
35.导电片23的厚度大于导电杆4的厚度，确保导电杆4和导电片23的接触效果，即使位置有轻微的偏移，导电杆4和导电片23的接触面积也能得到保证。
36.两个支撑柱22的距离等于导电杆4的宽度，限制导电杆4对准导电片23，保证导电效果。
37.基座1一侧设置有驱动装置5，驱动装置5的驱动杆51固定安装在基座1 上，驱动装置5驱动基座1移动，使得导电座2在导电杆4两侧之间移动，对导电杆4两侧的氧化生锈层的都能有效清洁。
38.基座1上设置有滑槽11，底座21滑动连接在滑槽11内，保证底座21滑动平顺。
39.滑槽11的截面呈上宽下窄的梯形结构，减少与基座1的接触面积，便于底座21滑动。
40.工作原理：使用时导电杆下行，与导电座上的导电片配合实现通电。导电座不是位于导电杆的正下方，导电杆下行时，导电杆上的斜面与支撑柱的顶部接触，推动导电座在基座上滑动，直至导电杆对准导电片，在这个过程中支撑柱通过与导电杆表面的接触去除导电杆上的氧化生锈层，保证导电座和导电杆的导电效果。导电片由两个对称布置的导电片单元组成，两个导电片单元形成v形结构，并且导电片单元两侧弹性连接在支撑板上，并且通过支撑柱进行限位，保证导电杆和导电片接触紧密、不易脱离，从而确保电流稳定，保证电镀质量。
41.以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。


技术特征：
1.一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，包括：基座(1)、导电座(2)和支撑座(3)，所述基座(1)设置在电镀池内，所述导电座(2)位置对应设置在导电杆(4)下方，所述导电座(2)滑动连接在所述基座(1)上，所述导电座(2)包括底座(21)、支撑柱(22)和导电片(23)，所述底座(21)一相对侧设置有对称布置的所述支撑柱(22)，两个所述支撑柱(22)之间设置有所述导电片(23)，所述导电片(23)连接电源线，两个所述支撑座(3)对称布置在所述导电座(2)两侧，所述支撑座(3)的位置对应所述支撑柱(22)，所述支撑柱(22)弹性连接在所述支撑座(3)上。2.根据权利要求1所述的一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，所述导电片(23)包括两个对称布置的导电片单元(231)，所述导电片单元(231)弹性连接在支撑板(24)上，所述支撑板(24)固定安装在所述底座(21)。3.根据权利要求1所述的一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，所述支撑柱(22)的厚度等于所述导电杆(4)的厚度。4.根据权利要求1或3所述的一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，所述导电片(23)的厚度大于所述导电杆(4)的厚度。5.根据权利要求4所述的一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，两个所述支撑柱(22)的距离等于所述导电杆(4)的宽度。6.根据权利要求1所述的一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，所述基座(1)一侧设置有驱动装置(5)，所述驱动装置(5)的驱动杆(51)固定安装在所述基座(1)上。7.根据权利要求1所述的一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，所述基座(1)上设置有滑槽(11)，所述底座(21)滑动连接在所述滑槽(11)内。8.根据权利要求7所述的一种电流稳定性高的v形导电座，其特征在于，所述滑槽(11)的截面呈上宽下窄的梯形结构。

技术总结
本发明公开了一种电流稳定性高的V形导电座，包括：基座、导电座和支撑座，基座设置在电镀池内，导电座位置对应设置在导电杆下方，导电座滑动连接在基座上，导电座包括底座、支撑柱和导电片，底座一相对侧设置有对称布置的支撑柱，两个支撑柱之间设置有导电片，导电片连接电源线，两个支撑座对称布置在导电座两侧，支撑座的位置对应支撑柱，支撑柱弹性连接在支撑座上。本发明相较于现有技术，利用导电座有效的去除导电杆上氧化生锈的部分，导电片充分贴合导电杆，导电装置的导电性好、电流稳定，充分保证电镀质量。分保证电镀质量。分保证电镀质量。


技术研发人员：庞美兴
受保护的技术使用者：苏州普雷特电子科技有限公司
技术研发日：2021.05.27
技术公布日：2021/10/18