阿莫西林杂质定位溶液及其制备方法与流程

1.本技术属于药物分析技术领域，尤其涉及一种阿莫西林杂质定位溶液及其制备方法。


背景技术：

2.阿莫西林(amoxicillin)属于最常用的半合成广谱β
‑
内酰胺类抗生素，通过抑制细菌细胞壁的合成发挥杀菌作用，对大多数致病的g 菌和g
‑
菌(包括球菌和杆菌)均有强大的抑菌和杀菌作用。
3.阿莫西林及其主要降解杂质(imp)：如阿莫西林杂质c(imp c)、阿莫西林杂质d(imp d)、阿莫西林杂质e(imp e)、阿莫西林杂质j(imp j)的化学结构如表1所示。关于阿莫西林杂质的质量控制方法，欧洲药典ep10.0、英国药典bp2021和中国药典chp2020均仅对未知杂质和总杂质进行控制，而美国药典usp43分别针对已知杂质、未知杂质和总杂质制定了限度。
4.表1
5.[0006][0007]
现行标准中，usp43采用相对保留时间方法对各杂质进行定位，此方法容易受未知杂质干扰，出现定位困难的现象，缺乏准确性。若使用杂质对照品定位，因中检院无法提供阿莫西林杂质c、d、e、j对照品，因此存在对照品购买周期长，价格高，限制了方法的普及性。
[0008]
专利cn110964003a和专利cn111018804a分别公开了采用阿莫西林原料制备阿莫西林杂质c和杂质e的方法，但该方法仅能制备单个阿莫西林杂质c和杂质e，由于药典标准中控制的阿莫西林杂质较多，因而不能满足阿莫西林杂质测定过程中杂质定位的需求。因此，相关技术有待改进。


技术实现要素：

[0009]
本技术的目的在于提供一种阿莫西林杂质定位溶液及其制备方法，旨在解决如何对阿莫西林杂质测定过程中低成本、准确地进行杂质定位的技术问题。
[0010]
为实现上述申请目的，本技术采用的技术方案如下：
[0011]
第一方面，本技术提供一种阿莫西林杂质定位溶液的制备方法，包括如下步骤：
[0012]
将第一阿莫西林溶于碱溶液中静置处理，在酸性条件下进行第一加热处理，然后调节成中性后，得到第一降解溶液；
[0013]
将第二阿莫西林溶于中性缓冲液中，进行第二加热处理，得到第二降解溶液；
[0014]
将所述第一降解溶液和所述第二降解溶液混合，得到所述阿莫西林杂质定位溶液。
[0015]
在一个实施例中，所述第一阿莫西林的质量与所述第一降解溶液的体积比为：1.5～2mg：1ml；和/或，
[0016]
所述第二阿莫西林的质量与所述第二降解溶液的体积比为：1.5～2mg：1ml。
[0017]
在一个实施例中，将所述第一降解溶液与所述第二降解溶液的按体积比为1：9混合。
[0018]
在一个实施例中，所述静置处理的时间为15～20min。
[0019]
在一个实施例中，所述第一加热处理的温度为50～60℃，时间为40～50min；和/或，
[0020]
所述第二加热处理的温度为50～60℃，时间为3.5～4.5h。
[0021]
在一个实施例中，所述碱溶液选自氢氧化钠溶液和氢氧化钾溶液中的至少一种；和/或，
[0022]
所述碱溶液的浓度为0.1～0.25mol/l。
[0023]
在一个实施例中，所述在酸性条件下进行第一加热处理，然后调节成中性的步骤包括：加入体积大于所述碱溶液的酸溶液后进行所述第一加热处理，然后用所述碱溶液调节成中性。
[0024]
在一个实施例中，所述酸溶液选自盐酸；和/或，
[0025]
所述酸溶液的浓度为0.1～0.25mol/l。
[0026]
在一个实施例中，所述中性缓冲液选自选自ph＝7.0的磷酸盐缓冲液。
[0027]
本技术提供的阿莫西林杂质定位溶液的制备方法，以阿莫西林为原料，经过上述步骤后，能定向破坏阿莫西林，降解产生阿莫西林杂质c、阿莫西林杂质d、阿莫西林杂质e和阿莫西林杂质j，从而使最终得到的阿莫西林杂质定位溶液含有上述种类的杂质；这样的阿莫西林杂质定位溶液可以很好地解决阿莫西林有关物质检测中杂质的定位问题，而且克服了因对照品难以购买或价格过于昂贵而导致现有方法难以普及的缺陷，因此，该本技术得到的阿莫西林杂质定位溶液可以低成本、准确地进行阿莫西林杂质定位，在阿莫西林杂质测定领域具有很好的应用前景。
[0028]
第二方面，本技术提供一种阿莫西林杂质定位溶液，所述阿莫西林杂质定位溶液由本技术所述的制备方法制备得到。
[0029]
本技术提供的阿莫西林杂质定位溶液由本技术特有的制备方法制备得到，因此可以很好地解决阿莫西林有关物质检测中杂质的定位问题，而且克服了因对照品难以购买或价格过于昂贵而导致现有方法难以普及的缺陷，因此，本技术的阿莫西林杂质定位溶液可以低成本、准确地进行阿莫西林杂质定位，在阿莫西林杂质测定领域具有很好的应用前景。
附图说明
[0030]
为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他
的附图。
[0031]
图1是本技术实施例中阿莫西林产生阿莫西林杂质d后的色谱图；
[0032]
图2是本技术实施例中阿莫西林杂质d降解成阿莫西林杂质c的色谱图；
[0033]
图3是本技术实施例中阿莫西林产生的阿莫西林杂质c，阿莫西林杂质d和阿莫西林杂质j后的色谱图；
[0034]
图4是本技术实施例1提供的阿莫西林杂质定位溶液的色谱图；
[0035]
图5是本技术实施例2提供的阿莫西林杂质定位溶液的色谱图；
[0036]
图6是本技术实施例3提供的阿莫西林杂质定位溶液的色谱图。
具体实施方式
[0037]
为了使本技术要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0038]
本技术中，术语“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b的情况。其中a，b可以是单数或者复数。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0039]
本技术中，“至少一个”是指一个或者多个，“多个”是指两个或两个以上。“以下至少一项(个)”或其类似表达，是指的这些项中的任意组合，包括单项(个)或复数项(个)的任意组合。例如，“a,b,或c中的至少一项(个)”，或，“a,b,和c中的至少一项(个)”，均可以表示：a,b,c,a
‑
b(即a和b),a
‑
c,b
‑
c,或a
‑
b
‑
c，其中a,b,c分别可以是单个，也可以是多个。
[0040]
应理解，在本技术的各种实施例中，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，部分或全部步骤可以并行执行或先后执行，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本技术实施例的实施过程构成任何限定。
[0041]
在本技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术。在本技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
[0042]
本技术实施例说明书中所提到的相关成分的重量不仅仅可以指代各组分的具体含量，也可以表示各组分间重量的比例关系，因此，只要是按照本技术实施例说明书相关组分的含量按比例放大或缩小均在本技术实施例说明书公开的范围之内。具体地，本技术实施例说明书中所述的质量可以是μg、mg、g、kg等化工领域公知的质量单位。本技术的室温指25～27℃。
[0043]
术语“第一“、“第二”仅用于描述目的，用来将目的如物质彼此区分开，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。例如，在不脱离本技术实施例范围的情况下，第一xx也可以被称为第二xx，类似地，第二xx也可以被称为第一xx。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
[0044]
本技术实施例第一方面提供一种阿莫西林杂质定位溶液的制备方法，包括如下步骤：
[0045]
s01：将第一阿莫西林溶于碱溶液中静置处理，在酸性条件下进行第一加热处理，然后调节成中性后，得到第一降解溶液；
[0046]
s02：将第二阿莫西林溶于中性缓冲液中，进行第二加热处理，得到第二降解溶液；
[0047]
s03：将第一降解溶液和第二降解溶液混合，得到阿莫西林杂质定位溶液。
[0048]
为了弥补已有检测标准中方法专属性问题，本技术实施例提供的阿莫西林杂质定位溶液的制备方法，该制备方法以阿莫西林为原料，经过上述一系列步骤后，能定向破坏阿莫西林，降解产生阿莫西林杂质c、阿莫西林杂质d、阿莫西林杂质e和阿莫西林杂质j，从而使最终得到的阿莫西林杂质定位溶液含有上述种类的杂质；这样的阿莫西林杂质定位溶液可以很好地解决阿莫西林有关物质检测中杂质的定位问题，而且克服了因目前对照品难以购买或价格过于昂贵而导致方法难以普及的缺陷，因此，该本技术实施例得到的阿莫西林杂质定位溶液可以低成本、准确地进行阿莫西林杂质定位，在阿莫西林杂质测定领域具有很好的应用前景。
[0049]
具体地，上述步骤s01中，将第一阿莫西林溶于碱溶液中静置处理，此时在碱性条件下，阿莫西林β
‑
内酰胺环水解首先产生阿莫西林杂质d，典型色谱图如图1所示。阿莫西林降解生成阿莫西林杂质d的途径为：
[0050][0051]
上述步骤中，碱溶液选自氢氧化钠溶液和氢氧化钾溶液中的至少一种；该碱溶液的浓度为0.1～0.25mol/l，该浓度条件下的碱溶液，使阿莫西林可以更好地水解生成阿莫西林杂质d。进一步地，第一阿莫西林溶于碱溶液中静置处理的时间为15～20min，该时间范围内，可以保证阿莫西林水解充分。
[0052]
静置处理结束后，在酸性条件下进行第一加热处理。该步骤中，酸性条件使阿莫西林杂质d脱羧产生阿莫西林杂质e，由于脱酸反应在酸性加热的条件下较容易发生，因此将静置处理后的溶液调成酸性并加热，使其中的阿莫西林杂质d继续降解成阿莫西林杂质e。同时，在加热的条件下，阿莫西林杂质d2也会发生异构化，生成阿莫西林杂质d1，此时对应地，也会产生阿莫西林杂质e1和阿莫西林杂质e2，典型色谱图如图2所示。阿莫西林杂质d生成阿莫西林杂质e的途径为：
[0053][0054]
上述过程中，在酸性条件下进行第一加热处理，然后调节成中性的步骤包括：加入体积大于碱溶液的酸溶液后进行第一加热处理，然后用碱溶液调节成中性。即加入过量的酸溶液中和前面加入的碱溶液，并使体系呈酸性，从而可以进行上述反应。其中，酸溶液选自盐酸；酸溶液的浓度为0.1～0.25mol/l。该浓度条件下的酸溶液，使阿莫西林杂质d可以更好地生成阿莫西林杂质e。进一步地，第一加热处理的温度为50～60℃，时间为40～50min；该加热条件下，可以使阿莫西林杂质d2更好地异构化生成阿莫西林杂质d1。
[0055]
上述步骤s02中，第二阿莫西林溶于中性缓冲液中，进行第二加热处理，在温和的中性缓冲液中进行加热，阿莫西林主要降解杂质为阿莫西林杂质c和阿莫西林杂质d，同时
阿莫西林降解过程中缓冲液会偏弱酸性或弱碱性，这样，阿莫西林和阿莫西林杂质d容易发生聚合产生阿莫西林杂质j(二聚体)，典型色谱图如图3所示。阿莫西林降解生成阿莫西林杂质c的途径为：
[0056][0057]
上述过程中，阿莫西林四元环酰胺键在相邻的氨基的协同作用下形成更稳定的六元环哌嗪二酮杂质阿莫西林杂质c。进一步地，第二加热处理的温度为50～60℃，时间为3.5～4.5h。该加热条件下，可以更好地生成上述杂质。
[0058]
中性缓冲液是指ph在7.0附近(如6.8～7.2)缓冲液，本技术中，该步骤中的中性缓冲液选自ph＝7.0的磷酸盐缓冲液。
[0059]
上述步骤s03中，将步骤s01得到的第一降解溶液和步骤s02得到的第二降解溶液混合，从而得到阿莫西林杂质定位溶液。
[0060]
进一步地，步骤s01得到第一降解溶液的过程中，使用的第一阿莫西林的质量与最终得到的第一降解溶液的体积比为：1.5～2mg：1ml。各国药典收载的阿莫西林有关物质测试项，供试品溶液阿莫西林浓度约为1.5mg/ml～2.0mg/ml。经实验发现，阿莫西林浓度低于或者高于该比例，对于定位溶液的定位效果存在负面影响。阿莫西林浓度太低，降解出的杂质含量少；阿莫西林浓度太高，降解出的杂质含量高，杂质色谱峰间分离度下降，而在上述质量体积比下得到的第一降解溶液，不仅可以检测到杂质色谱峰、而且具有较佳的杂质色谱峰间分离度，进一步地，第一阿莫西林的质量与第一降解溶液的优选比例为1.5mg:1ml；其中，第一降解溶液的最终体积可以通过加入水进行稀释调节得到。步骤s02得到第二降解溶液的过程中，第二阿莫西林的质量与最终得到的第二降解溶液的体积比为：1.5～2mg：1ml。同样地，阿莫西林浓度低于或者高于该比例，对于定位溶液的定位效果存在负面影响。阿莫西林浓度太低，降解出的杂质含量少；阿莫西林浓度太高，降解出的杂质含量高，杂质色谱峰间分离度下降，而在上述质量体积比下得到的第二降解溶液，不仅可以检测到杂质色谱峰、而且具有较佳的杂质色谱峰间分离度，进一步地，第二阿莫西林的质量与第二降解溶液的优选比例为1.5mg:1ml；其中，第二降解溶液的最终体积可以通过加入水进行稀释调节得到。更进一步地，将第一降解溶液与第二降解溶液的按体积比为1：9混合。经实验发现，第一降解溶液与第二降解溶液混合比例高于或者低于该比例，会导致各杂质色谱响应相差较远，对于定位溶液的定位效果存在负面影响，而上述体积比混合后，各杂质定位效果最佳。
[0061]
在一个具体实施例中，本技术的阿莫西林杂质定位溶液的制备方法的步骤如下：
[0062]
s1、取阿莫西林对照品适量，加入碱溶液，室温放置15～20分钟；再加入过量酸溶液，50℃～60℃加热45分钟，加入碱中和，加入水稀释，作为第一降解溶液1。
[0063]
s2、取阿莫西林对照品适量，加入ph7.0缓冲液，50℃～60℃水浴中加热4小时，加入水稀释，作为第二降解溶液。
[0064]
s3、取第一降解溶液与第二降解溶液混合，作为阿莫西林杂质定位溶液。
[0065]
本技术实施例第二方面提供一种阿莫西林杂质定位溶液，该阿莫西林杂质定位溶液由本技术上述阿莫西林杂质定位溶液的制备方法制备得到。
[0066]
本技术实施例提供的阿莫西林杂质定位溶液由本技术特有的制备方法制备得到，因此可以很好地解决阿莫西林有关物质检测中杂质的定位问题，而且克服了因对照品难以购买或价格过于昂贵而导致现有方法难以普及的缺陷，因此，本技术的阿莫西林杂质定位溶液可以低成本、准确地进行阿莫西林杂质定位，在阿莫西林杂质测定领域具有很好的应用前景。
[0067]
本技术实施例中，参考usp43阿莫西林胶囊有关物质检测方法，精密量取本技术的阿莫西林杂质定位溶液20μl，注入液相色谱仪，记录色谱图，其出峰顺序依次为阿莫西林杂质d1、阿莫西林杂质d2、阿莫西林、阿莫西林杂质e1、阿莫西林杂质e2、阿莫西林杂质c、阿莫西林杂质j。本技术的方法操作简单，针对性强，成本低，易于普及推广，在测定阿莫西林中杂质方面具有很好的应用价值。
[0068]
另外，本技术实施例的制备方法以及该制备方法得到的阿莫西林杂质定位溶液在测定阿莫西林原料或制剂中杂质(杂质c、d、e、j)的应用，也在本技术的保护范围之内。
[0069]
下面结合具体实施例进行说明。
[0070]
实施例1
[0071]
一种阿莫西林杂质定位溶液的制备方法，包括以下步骤。
[0072]
s1.取阿莫西林对照品适量(约相当于阿莫西林，按c
16
h
19
n3o5s计20mg)，精密称定，置10ml量瓶中，加0.1mol/l氢氧化钠溶液2.0ml，摇匀，室温放置15分钟；再加0.1mol/l盐酸溶液3.0ml，在50℃水浴中加热45分钟，放冷至室温，加0.1mol/l氢氧化钠溶液1.0ml，用水稀释至刻度，摇匀，作为第一降解溶液。
[0073]
s2.取阿莫西林对照品适量(约相当于阿莫西林，按c
16
h
19
n3o5s计40mg)，精密称定，置20ml量瓶中，加ph＝7.0磷酸盐缓冲液(取磷酸二氢钾0.68g，加0.1mol/l氢氧化钠溶液29.1ml，用水稀释至100ml，即得)10ml，在50℃水浴加热4小时，放冷至室温，加水约6ml，超声使溶解，用水稀释至刻度，摇匀，作为第二降解溶液。
[0074]
s3.取上述第一降解溶液与第二降解溶液按照体积比1︰9的比例混合，作为阿莫西林杂质定位溶液。
[0075]
参考usp43阿莫西林胶囊有关物质检测方法，精密量取上述得到的阿莫西林杂质定位溶液20μl，注入液相色谱仪，记录色谱图，其出峰顺序依次为杂质d1、杂质d2、阿莫西林、杂质e1、杂质e2、杂质c、杂质j，色谱图如图4所示。
[0076]
实施例2
[0077]
一种阿莫西林杂质定位溶液的制备方法，包括以下步骤。
[0078]
s1.取阿莫西林对照品适量(约相当于阿莫西林，按c
16
h
19
n3o5s计20mg)，精密称定，置10ml量瓶中，加0.25mol/l氢氧化钠溶液1.0ml，摇匀，室温放置20分钟；再加0.1mol/l盐酸溶液3.0ml，在50℃水浴中加热45分钟，放冷至室温，加0.25mol/l氢氧化钠溶液1.0ml，用水稀释至刻度，摇匀，作为第一降解溶液。
[0079]
s2.取阿莫西林对照品适量(约相当于阿莫西林，按c
16
h
19
n3o5s计40mg)，精密称定，置20ml量瓶中，加ph＝7.0磷酸盐缓冲液(取磷酸二氢钾0.68g，加0.1mol/l氢氧化钠溶液29.1ml，用水稀释至100ml，即得)10ml，在50℃水浴加热4小时，放冷至室温，加水约6ml，超
声使溶解，用水稀释至刻度，摇匀，作为第二降解溶液。
[0080]
s3.取上述第一降解溶液与第二降解溶液按照体积比1︰9的比例混合，作为阿莫西林杂质定位溶液。
[0081]
参考usp43阿莫西林胶囊有关物质检测方法，精密量取上述得到的阿莫西林杂质定位溶液20μl，注入液相色谱仪，记录色谱图，其出峰顺序依次为杂质d1、杂质d2、阿莫西林、杂质e1、杂质e2、杂质c、杂质j，色谱图如图5所示。
[0082]
实施例3
[0083]
一种阿莫西林杂质定位溶液的制备方法，包括以下步骤。
[0084]
s1.取阿莫西林对照品适量(约相当于阿莫西林，按c
16
h
19
n3o5s计20mg)，精密称定，置10ml量瓶中，加0.1mol/l氢氧化钠溶液1.0ml，摇匀，室温放置15分钟；再加0.1mol/l盐酸溶液3.0ml，在60℃烘箱中加热50分钟，放冷至室温，加0.1mol/l氢氧化钠溶液1.0ml，用水稀释至刻度，摇匀，作为第一降解溶液。
[0085]
s2.取阿莫西林对照品适量(约相当于阿莫西林，按c
16
h
19
n3o5s计40mg)，精密称定，置20ml量瓶中，加ph6.0磷酸盐缓冲液10ml，在60℃烘箱加热4小时，放冷至室温，加水约6ml，超声使溶解，用水稀释至刻度，摇匀，作为第二降解溶液。
[0086]
s3.取上述第一降解溶液与第二降解溶液按照体积比1︰9的比例混合，作为阿莫西林杂质定位溶液。
[0087]
参考usp43阿莫西林胶囊有关物质检测方法，精密量取上述得到的阿莫西林杂质定位溶液20μl，注入液相色谱仪，记录色谱图，其出峰顺序依次为杂质d1、杂质d2、阿莫西林、杂质e1、杂质e2、杂质c、杂质j，色谱图如图6所示。
[0088]
以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。