一种制备平行等宽微结构的方法与流程

技术总结
本发明公开了一种制备平行等宽微结构的方法。所述方法包括：提供双层膜，所述双层膜包括层叠的第一薄膜层和第二薄膜层，所述第一薄膜层和第二薄膜层具有不同的机械特性；将所述双层膜通过从刚性基底上剥离的方式连续弯折，并使弯折角在90°以上，从而在所述第一薄膜层或第二薄膜层上产生有序的微结构。所述微结构包括平行等宽的裂纹、印记或凹槽等。所述微结构的取向沿选定方向高度一致，且间距均匀一致。本发明提供了简洁可控的取向高度一致的平行等宽微结构(裂纹、刻痕阵列、印记或凹槽等)的制备方式，该方式简洁，使得平行等宽微结构的高效制备成为可能；本发明制备的裂纹或者凹槽等微结构的间距均匀一致，并且可人为调控间距的大小。

技术研发人员：孟彦成;李立强
受保护的技术使用者：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
技术研发日：2019.10.22
技术公布日：2020.01.24