基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种基于光化学辅助选择性刻蚀的砷化镓表面纳米加工方法，包括以下步骤：S1、采用机械刻划或压痕设备在洁净的砷化镓表面进行划痕或压痕加工；S2、采用混合刻蚀剂对砷化镓表面进行紫外光化学辅助刻蚀，刻蚀完成后对砷化镓表面进行清洗，获得高质量的砷化镓表面纳米结构。该加工方法能够实现砷化镓表面任意二维结构的加工，无需模板，操作简单，成本低；进一步的，本方法的加工过程在常温常压下进行，不产生污染气体，并且加工后的刻蚀剂易处理；此外，本方法能够快速在砷化镓表面加工出高质量的图案和光学结构，与传统刻蚀相比，加工速度快、质量高。

技术研发人员：余丙军;吴磊;范志涛;彭勇;汪红波;钱林茂
受保护的技术使用者：西南交通大学
技术研发日：2018.11.13
技术公布日：2019.03.01