复合阳极键合装置的制作方法

技术特征：

1.一种复合阳极键合装置，用于纳米间隙原位活化的复合阳极键合，其特征在于，包括介质阻挡放电电源、键合电源、电极、以及电源切换控制机构，所述介质阻挡放电电源与键合电源分别通过所述电源切换控制机构与所述电极相连。

2.根据权利要求1所述的复合阳极键合装置，其特征在于，所述电极由上电极与下电极构成，所述上电极通过所述电源切换控制机构与所述介质阻挡放电电源或键合电源的阴极相连，所述下电极通过所述电源切换控制机构与所述介质阻挡放电电源或键合电源的阳极相连。

3.根据权利要求1所述的复合阳极键合装置，其特征在于，所述介质阻挡放电电源上设有介质阻挡放电参数控制系统，用以控制所述介质阻挡放电电压、介质阻挡放电时间、介质阻挡放电频率。

4.根据权利要求1所述的复合阳极键合装置，其特征在于，所述键合电源上设有键合参数控制系统，用以控制所述键合电压、键合时间。

5.根据权利要求1所述的复合阳极键合装置，其特征在于，所述复合阳极键合装置还包括键合温度与键合压力控制系统，所述键合温度与键合压力控制系统设置在工作台上，由键合温度控制器与键合压力控制器构成，用以控制所述键合压力与键合温度。

6.根据权利要求3所述的复合阳极键合装置，其特征在于，所述介质阻挡放电电压的范围为AC100-2000V；所述介质阻挡放电频率的范围为5-100KHz；所述介质阻挡放电时间的范围为0.1-500s。

7.根据权利要求4所述的复合阳极键合装置，其特征在于，所述键合电压的范围为DC900-1200V；所述键合时间的范围为50-2000s。

8.根据权利要求5所述的复合阳极键合装置，其特征在于，所述键合温度范围为150-350℃；所述键合压力的范围为0.1-50g/mm²。