1.本实用新型属于模具技术领域，更具体地说，是涉及一种模具清洁机构。
背景技术：
2.现有技术中的样片制作领域中，需要使用到样片制作模具。而现有的模具，连接在模具上盖板下方的上模在压片后，表面会粘有一定的颗粒物，会对下一次压片产生污染，现有技术中需要人工清理，效率低下，而且清理干净度无法保障，因此，现有技术存在缺陷。
技术实现要素：
3.本实用新型所要解决的技术问题是：针对现有技术的不足，提供一种结构简单，能够高效、自动、干净清理上模压片后残留的物料，保障下次压片产品不会受到污染，保障压片质量的模具清洁机构。
4.要解决以上所述的技术问题，本实用新型采取的技术方案为：
5.本实用新型为一种模具清洁机构，所述的模具清洁机构包括上模盖，上模盖下表面设置上模，上模盖上套装活动支架，上模气缸一端连接上模盖，上模气缸另一端连接活动支架，活动支架下部设置清洁毛刷。
6.所述的上模气缸与能够控制上模气缸伸缩的控制部件连接。
7.所述的活动支架设置为n字形结构，毛刷架一端与活动支架一侧连接，毛刷架另一端与活动支架另一侧连接。
8.所述的清洁毛刷设置在毛刷架上表面位置。
9.所述的控制部件控制上模气缸伸缩时，上模气缸设置为能够相对于上模盖水平移动的结构。
10.所述的毛刷架与吸尘管连通。
11.所述的上模气缸相对于上模盖水平移动时，清洁毛刷设置为能够接触上模下表面从而对上模下表面实现清洁的结构。
12.采用本实用新型的技术方案，能得到以下的有益效果：
13.本实用新型所述的模具清洁机构，针对连接在上盖板下方的上模在压片后表面会粘有一定得颗粒物的问题，为避免残存的颗粒物对下一次压片可能产生的污染，在上盖板上设置活动支架，活动支架和上盖板通过上模气缸连接，通过控制上模气缸伸缩，带动活动支架水平运动，而活动支架在水平运动过程中，活动支架上的清洁毛刷会作用在上模下表面，对上模表面进行清理，而控制上模气缸往复伸缩，就能够对上模下表面往复清理，从而提高清洁度，确保下次压片质量。本实用新型所述的模具清洁机构，能够高效、自动、干净清理上模压片后残留的物料，保障下次压片产品不会受到污染，保障压片质量。
附图说明
14.下面对本说明书各附图所表达的内容及图中的标记作出简要的说明：
15.图1为本实用新型所述的模具清洁机构的结构示意图；
16.图2为本实用新型所述的模具清洁机构的主视结构示意图；
17.附图中标记分别为：1、上模盖；2、上模；3、活动支架；4、上模气缸；5、清洁毛刷；6、毛刷架；7、吸尘管。
具体实施方式
18.下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明：
19.如附图1、附图2所示，本实用新型为一种模具清洁机构，所述的模具清洁机构包括上模盖1，上模盖1下表面设置上模2，上模盖1上套装活动支架3，上模气缸4一端连接上模盖1，上模气缸4另一端连接活动支架3，活动支架3下部设置清洁毛刷5。上述结构，对结构进行改进。针对连接在上盖板下方的上模在压片后表面会粘有一定得颗粒物的问题，为避免残存的颗粒物对下一次压片可能产生的污染，在上盖板上设置活动支架，活动支架和上盖板通过上模气缸连接，通过控制上模气缸伸缩，带动活动支架水平运动，而活动支架在水平运动过程中，活动支架上的清洁毛刷会作用在上模下表面，对上模表面进行清理，而控制上模气缸往复伸缩，就能够对上模下表面往复清理，从而提高清洁度，确保下次压片质量。本实用新型所述的模具清洁机构，结构简单，成本低，能够高效、自动、干净清理上模压片后残留的物料，保障下次压片产品不会受到污染，保障压片质量。
20.所述的上模气缸4与能够控制上模气缸4伸缩的控制部件连接。上述结构，控制部件实现准确控制，也可以设定上模气缸伸缩的次数。这样，针对不同需要清洁的物料，设定不同次数，满足清洁度的要求。
21.所述的活动支架3设置为n字形结构，毛刷架6一端与活动支架3一侧连接，毛刷架6另一端与活动支架3另一侧连接。上述结构，毛刷架可以方便安装和拆卸更换，满足不同模具对不同清洁毛刷的需求。这样，活动支架通用性高，使得不同模具都可以使用，降低成本。
22.所述的清洁毛刷5设置在毛刷架6上表面位置。所述的控制部件控制上模气缸4伸缩时，上模气缸4设置为能够相对于上模盖1水平移动的结构。上述结构，清洁毛刷在活动支架往复运动过程完成清洁。
23.所述的毛刷架6与吸尘管7连通。上述结构，在清洁毛刷清洁颗粒物的过程中，吸尘管内的吸力对颗粒物进行吸附，将颗粒物吸走，避免颗粒物落在地上或模具的其他地方，保障作业设备现场清洁。
24.所述的上模气缸4相对于上模盖1水平移动时，清洁毛刷5设置为能够接触上模2下表面从而对上模2下表面实现清洁的结构。
25.本实用新型所述的模具清洁机构，针对连接在上盖板下方的上模在压片后表面会粘有一定得颗粒物的问题，为避免残存的颗粒物对下一次压片可能产生的污染，在上盖板上设置活动支架，活动支架和上盖板通过上模气缸连接，通过控制上模气缸伸缩，带动活动支架水平运动，而活动支架在水平运动过程中，活动支架上的清洁毛刷会作用在上模下表面，对上模表面进行清理，而控制上模气缸往复伸缩，就能够对上模下表面往复清理，从而提高清洁度，确保下次压片质量。本实用新型所述的模具清洁机构，能够高效、自动、干净清
理上模压片后残留的物料，保障下次压片产品不会受到污染，保障压片质量。
26.上面结合附图对本实用新型进行了示例性的描述，显然本实用新型具体的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其他场合的，均在本实用新型的保护范围内。
技术特征：
1.一种模具清洁机构，其特征在于：所述的模具清洁机构包括上模盖(1)，上模盖(1)下表面设置上模(2)，上模盖(1)上套装活动支架(3)，上模气缸(4)一端连接上模盖(1)，上模气缸(4)另一端连接活动支架(3)，活动支架(3)下部设置清洁毛刷(5)。2.根据权利要求1所述的模具清洁机构，其特征在于：所述的上模气缸(4)与能够控制上模气缸(4)伸缩的控制部件连接。3.根据权利要求1或2所述的模具清洁机构，其特征在于：所述的活动支架(3)设置为n字形结构，毛刷架(6)一端与活动支架(3)一侧连接，毛刷架(6)另一端与活动支架(3)另一侧连接。4.根据权利要求3所述的模具清洁机构，其特征在于：所述的清洁毛刷(5)设置在毛刷架(6)上表面位置。5.根据权利要求2所述的模具清洁机构，其特征在于：所述的控制部件控制上模气缸(4)伸缩时，上模气缸(4)设置为能够相对于上模盖(1)水平移动的结构。6.根据权利要求3所述的模具清洁机构，其特征在于：所述的毛刷架(6)与吸尘管(7)连通。7.根据权利要求1所述的模具清洁机构，其特征在于：所述的上模气缸(4)相对于上模盖(1)水平移动时，清洁毛刷(5)设置为能够接触上模(2)下表面从而对上模(2)下表面实现清洁的结构。
技术总结
本实用新型提供一种应用于模具技术领域的模具清洁机构，所述的模具清洁机构的上模盖(1)下表面设置上模(2)，上模盖(1)上套装活动支架(3)，上模气缸(4)一端连接上模盖(1)，上模气缸(4)另一端连接活动支架(3)，活动支架(3)下部设置清洁毛刷(5)，本实用新型所述的模具清洁机构，能够高效、自动、干净清理上模压片后残留的物料，保障下次压片产品不会受到污染，保障压片质量。保障压片质量。保障压片质量。
技术研发人员：徐腾 彭湃 王恒兵 崔明利 段润龙 钱继光 陈开志 曾子恒 包家玲
受保护的技术使用者：上海智质科技有限公司
技术研发日：2021.02.05
技术公布日：2021/10/15
再多了解一些
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