一种晶片清洗加热石英缸的制作方法

1.本实用新型涉及晶片清洗技术领域，特别涉及一种晶片清洗加热石英缸。


背景技术：

2.半导体晶片在生产过程中，因其特性需要在加热后的溶液中进行清洗作业，而目前使用的加热方式为将盛有溶液的普通玻璃烧杯在通电加热板上进行加热，或者底部带有加热丝的石英缸进行加热清洗，其加热清洗效率较低。现有技术的主要缺点是：1、玻璃烧杯的容积制约晶片清洗数量；2、在完成加热清洗更换热溶液时，使用烧杯操作存在一定危险性可能会对人员造成伤害；3、单一的底部加热方式溶液温度提升慢，导致清洗环节效率低。


技术实现要素：

3.为了改善上述背景技术中提出的问题，本实用新型提供一种晶片清洗加热石英缸。
4.本实用新型提供的一种晶片清洗加热石英缸，采用如下的技术方案：
5.一种晶片清洗加热石英缸，包括石英缸和与其配合的石英缸盖，所述石英缸为正六面箱体结构，石英缸的四个侧面和底部均布有加热丝一，所述石英缸的底部内侧设置有十字凸起，所述石英缸的底部由十字凸起均分成四个区域，四个区域内均设置有硅片花篮，所述十字凸起为中心断开结构，所述十字凸起的断开处设有废液排液口，所述十字凸起内部布有加热丝二，所述石英缸盖与石英缸活动连接，所述石英缸盖顶部一侧设有排气管。
6.通过采用上述技术方案，石英缸的底部设置了十字凸起，同时十字凸起的内部布有加热丝，使得加热面积增加，同时不会影响内部材料的摆放，提高了加热效率。
7.优选的，所述石英缸的四个侧面的外侧设置有保护层一。
8.优选的，所述石英缸的底部外侧设置有保护层一。
9.优选的，所述加热丝一的外部设有保护层二。
10.优选的，所述加热丝二的外部设有保护层二。
11.优选的，所述石英缸盖的顶部设有把手。
12.优选的，所述石英缸底部的保护层一内设有热电偶，所述热电偶连接有断路器，所述断路器连接有温度显示器。
13.通过采用上述技术方案，可以实时监测溶液温度并在温度显示器上显示，断路器可以保证溶液在设定的温度范围内，提高了清洗过程的安全性。
14.优选的，所述十字凸起垂直于石英缸底面的四个边。
15.综上所述，本实用新型具有如下的有益技术效果：
16.1.本实用新型在石英缸的底部增设了十字凸起，同时十字凸起的内部布有加热丝使得加热面积增加，同时不会影响内部材料的摆放，提高了加热效率。
17.2.本实用新型设置带有排气管的石英缸盖，在一定程度上起到了保温的作用，降低了生产能耗，同时对于溶液蒸汽也可以做到一定程度的收集和处理，从而降低了对操作
人员的危害以及对环境的污染。
附图说明
18.图1是本实用新型的一种晶片清洗加热石英缸的剖面结构示意图；
19.图2是本实用新型石英缸口处的俯视图。
20.其中，1、石英缸；2、石英缸盖；3、加热丝一；4、废液排液口；5、十字凸起；6、加热丝二；7、硅片花篮；8、排气管；9、保护层一；10、保护层二；11、把手；12、热电偶；13、断路器；14、温度显示器。
具体实施方式
21.以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
22.本实用新型实施例公开一种晶片清洗加热石英缸。参照图1，包括石英缸1和与其配合的石英缸盖2，所述石英缸1为正六面箱体结构，石英缸1的四个侧面和底部均布有加热丝一3，所述加热丝一3的外部设有保护层二10，所述石英缸1的四个侧面的外侧和底部的外侧均设置有保护层一9，所述石英缸1的底部内侧设置有十字凸起5，所述十字凸起5内部布有加热丝二6，所述加热丝二6的外部设有保护层二10，所述石英缸盖2与石英缸1活动连接，所述石英缸盖2的顶部设有把手11，所述石英缸盖2顶部一侧设有排气管8，所述石英缸1底部的保护层一9内设有热电偶12，所述热电偶12连接有断路器13，所述断路器13连接有温度显示器14。
23.参照图2，所述石英缸1的底部由十字凸起5均分成四个区域，四个区域内均设置有硅片花篮7，所述十字凸起5为中心断开结构，所述十字凸起5的断开处设有废液排液口4。
24.在实际应用时：石英缸1的四个侧面的外侧和底部的外侧均设置有保护层一9，石英缸1的四个侧面和底部均布有加热丝一3，加热丝一3的外部设有保护层二10，石英缸1的底部内侧设置有十字凸起5，十字凸起5垂直于石英缸1底面的四个边，十字凸起5为中心断开结构，十字凸起5的断开处设有废液排液口4，十字凸起5内部设置有加热丝二6，加热丝二6的外部设有保护层二10，石英缸1的底部由十字凸起5均分成四个区域，四个区域内均设置有硅片花篮7，石英缸1底部的保护层一9内设有热电偶12，热电偶12连接断路器13，断路器13连接温度显示器14，石英缸1与石英缸盖2活动连接，石英缸盖2的顶部设有把手11，石英缸盖2的顶部靠近把手11处设有排气管8。
25.工作原理：石英缸1的四个侧面的外侧和底部的外侧均设置有保护层一9，石英缸1的底部内侧设置有十字凸起5，十字凸起5垂直于石英缸1底面的四个边，石英缸1的底部由十字凸起5均分成四个区域，四个区域内均设置有硅片花篮7，待清洗的晶片装在硅片花篮7中，十字凸起5为中心断开结构，十字凸起5的断开处设有废液排液口4，石英缸1的四个侧面和底部均布有加热丝一3，加热丝一3的外部设有保护层一9，十字凸起5内部设置有加热丝二6，加热丝二6的外部设有保护层二10，使得加热面积增加，同时不会影响硅片花篮7的摆放，提高了加热效率。石英缸1底部的保护层一9内设有热电偶12，热电偶12连接断路器13，断路器13连接温度显示器14，可以实时监控溶液温度，并在温度显示器14上显示，根据设定的温度，断路器13可以控制加热丝一3和加热丝二6的电路通断，从而保证溶液在设定的温度范围内，从而提高清洗的效率。清洗完成后废液排液口4将溶液排出，提高清洗过程中的
安全性。石英缸1与石英缸盖2活动连接，石英缸盖2的顶部设有把手11，石英缸盖2的顶部靠近把手11处设有排气管8，在一定程度上起到了保温的作用，降低了生产耗能，同时可以对溶液蒸汽进行一定程度的收集和处理，降低对操作人员的危害以及对环境的污染。
26.以上均为本实用新型的较佳实施例，并非依此限制本实用新型的保护范围，故：凡依本实用新型的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：包括石英缸(1)和与其配合的石英缸盖(2)；所述石英缸(1)为正六面箱体结构，石英缸(1)的四个侧面和底部均布有加热丝一(3)，所述石英缸(1)的底部内侧设置有十字凸起(5)，所述石英缸(1)的底部由十字凸起(5)均分成四个区域，四个区域内均设置有硅片花篮(7)，所述十字凸起(5)为中心断开结构，所述十字凸起(5)的断开处设有废液排液口(4)，所述十字凸起(5)内部布有加热丝二(6)，所述石英缸盖(2)与石英缸(1)活动连接，所述石英缸盖(2)顶部一侧设有排气管(8)。2.根据权利要求1所述的一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：所述石英缸(1)的四个侧面的外侧设置有保护层一(9)。3.根据权利要求1或2所述的一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：所述石英缸(1)的底部外侧设置有保护层一(9)。4.根据权利要求1所述的一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：所述加热丝一(3)的外部设有保护层二(10)。5.根据权利要求1所述的一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：所述加热丝二(6)的外部设有保护层二(10)。6.根据权利要求1所述的一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：所述石英缸盖(2)的顶部设有把手(11)。7.根据权利要求1或2所述的一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：所述石英缸(1)底部的保护层一(9)内设有热电偶(12)，所述热电偶(12)连接有断路器(13)，所述断路器(13)连接有温度显示器(14)。8.根据权利要求1所述的一种晶片清洗加热石英缸，其特征在于：所述十字凸起(5)垂直于石英缸(1)底面的四个边。

技术总结
本实用新型涉及一种晶片清洗加热石英缸，包括石英缸和与其配合的石英缸盖，所述石英缸为正六面箱体结构，石英缸的四个侧面和底部均布有加热丝一，所述石英缸的底部内侧设置有十字凸起，所述石英缸的底部由十字凸起均分成四个区域，四个区域内均设置有硅片花篮，所述十字凸起为中心断开结构，所述十字凸起的断开处设有废液排液口，所述十字凸起内部布有加热丝二，所述石英缸盖与石英缸活动连接，所述石英缸盖顶部一侧设有排气管。本实用新型在石英缸的底部增设内部布有加热丝的十字凸起，加热面积增加，提高了加热效率；设置带有排气管的石英缸盖，在一定程度上起到了保温的作用，降低了生产能耗。了生产能耗。了生产能耗。


技术研发人员：郭城 吕明 李充 郭英云 高悦
受保护的技术使用者：山东科芯电子有限公司
技术研发日：2021.01.14
技术公布日：2021/10/15