一种去除气泡和多余蜡膜的陶瓷载盘的制作方法

1.本发明涉及陶瓷技术领域，更具体地说是一种去除气泡和多余蜡膜的陶瓷载盘。


背景技术：

2.传统陶瓷载盘是圆形的陶瓷圆盘，有极高的平面精度，该陶瓷圆盘放在专用的晶片贴蜡设备上加热并涂上蜡后，蜡融化形成蜡膜，此时将晶片贴在蜡膜上并加压晶片，同时冷却陶瓷盘，陶瓷盘降温后，蜡由液体变为固体，此时，晶片就被蜡贴付在了陶瓷载盘上，陶瓷载盘可通过自身真空吸盘座来将晶片进行吸附处理；
3.综上所述本发明人发现，现有的陶瓷真空吸盘座主要存在以下缺陷：晶片放置在陶瓷盘上加工时，陶瓷盘和晶片之间的蜡膜厚薄不均，陶瓷盘和晶片之间易残留多余的气泡不易排出，影响晶片的加工精度；同时陶瓷真空吸盘座在进行持续旋转真空处理晶片，由于陶瓷真空吸盘座持续旋转过程中会产生相应的作用力，并且基于晶片表端为光滑状态，以至于晶片则容易被旋转产生的作用力进行甩出，从而形成掉落的现象，并且旋转过程中无法对晶片进行集中保护，容易造成位置错乱等情况。


技术实现要素：

4.本发明实现技术目的所采用的技术方案是：一种去除气泡和多余蜡膜的陶瓷载盘，其结构包括：真空吸盘座、陶瓷载盘、晶片，其特征在于：所述真空吸盘座上端与陶瓷载盘下端相贴合，所述晶片落入于陶瓷载盘的端面并且与真空吸盘座进行活动配合。
5.所述真空吸盘座上端设有转轴、腔体、汲气孔、限位装置，所述转轴内侧与腔体为一体化结构，所述汲气孔嵌入于腔体当中，所述汲气孔下端与真空吸盘座内的抽气端相连接，所述限位装置分布于汲气孔的外侧，所述汲气孔在腔体内一共设有三组，并且限位装置的数量与其保持一致，所述陶瓷载盘上设有与腔体内汲气孔上端相通的小孔。
6.作为本发明的进一步改进，所述限位装置设有限位体、安装槽、中心端、托板、外层，所述限位体固定于安装槽侧端上方，所述中心端嵌入于安装槽中心部位，所述托板与中心端进行固定连接，所述外层内侧与托板进行固定连接，所述限位体为斜状实心状态，安装槽中心的中心端具有相应的磁吸功能，托板在中心端外侧一共设有四根且为梯形形状。
7.作为本发明的进一步改进，所述外层设有衔接端、实心体、容腔、内壁，所述衔接端上端与实心体进行固定连接，所述容腔嵌入于实心体当中，所述内壁与容腔相通，所述容腔的深度大于晶片的整体厚度，并且内部为抛光状态，内壁为实心状态。
8.作为本发明的进一步改进，所述衔接端设有穿插体、杠杆、锁定块、定位块，所述穿插体两侧与杠杆进行固定连接，所述锁定块与杠杆侧端进行卡合连接，所述定位块安装于穿插体的上下方，所述穿插体位于整体的中点位置，并且两侧均设有一根杠杆形成对称状态，同时锁定块的数量与杠杆为一致。
9.作为本发明的进一步改进，所述穿插体设有凸杆、定位座、实心端、连接槽、底板，所述凸杆下端与定位座进行固定连接，所述实心端上层与定位座下层相贴合，所述连接槽
嵌入于实心端两侧，所述底板固定于连接槽下端，所述凸杆为实心状态，并且其顶端形状为梯形形状，实心端两侧的连接槽内含有相应的卡扣。
10.作为本发明的进一步改进，所述转轴设有外壳、滑轨、连接轴、转动轮，所述外壳内侧与滑轨为一体，所述连接轴定位于滑轨中心，所述转动轮嵌入于连接轴当中并进行活动连接，所述滑轨为圆环状态，并且连接轴具有一定的柔韧性，转动轮在滑轨中一共设有六颗。
11.作为本发明的进一步改进，所述转动轮设有通格、定位块、限位空间、主轴、平衡杆，所述通格嵌入于定位块两侧，所述限位空间固定于定位块内侧，所述主轴嵌入于限位空间中心位置，所述平衡杆固定于主轴上下端，所述主轴中心含有定位片，平衡杆在主轴上下各设有一根，并且限位空间的整体直径只可包含主轴与平衡杆的体积。
12.与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
13.1.本发明由通过真空吸盘座进一步改进后，真空吸盘座和汲气孔以及陶瓷载盘上的小孔相互配合可去除多余气泡和多余蜡膜的陶瓷载盘利于晶片和陶瓷载盘之间多余蜡的排出，能提升晶片的抛光精度，同时有利于晶片和陶瓷载盘之间气泡的排除，能提升晶片的抛光精度，并且通过自身表端的限位装置将汲气孔定位在内部，进而限位装置的中心端可将晶片进行再次吸附加强中心定位性，同时如外层的立体图所示，晶片将存于容腔之中，以至于其形状与晶片为一致，从而能够有效的解决了真空吸盘座在旋转过程中产生将晶片甩出的问题，并且加强晶片的原点定位性，使其提升相应的加工效果。
14.2.本发明由转轴进一步改进后，通过滑轨内部的连接轴可将六个转动轮进行相连接，从而达到转动轮能够一同运动，保持相应的平衡效果，并且使其之间的间距保持不变，同时转动轮中的平衡杆能够维持其的转动平衡性，提升转动轮的转动效果，以至于能有效的提升转轴整体的活动性能以及加强转轴自身的平衡效果，以至于达到晶片在加工过程中能够得到更好的保护效果。
附图说明
15.图1属于一种去除气泡和多余蜡膜的陶瓷载盘的结构示意图。
16.图2属于一种真空吸盘座俯视整体的结构示意图。
17.图3属于一种限位装置正视整体的结构示意图。
18.图4属于一种外层立体整体的结构示意图。
19.图5属于一种衔接端俯视的结构示意图。
20.图6属于一种穿插体侧视整体的结构示意图。
21.图7属于一种转轴改进后剖视的结构示意图。
22.图8属于一种转动轮剖视的结构示意图。
23.图中：真空吸盘座-1、陶瓷载盘-2、晶片-3、转轴-11、腔体-12、汲气孔-13、限位装置-14、限位体-141、安装槽
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142、中心端-143、托板-144、外层-145、衔接端-a1、实心体-a2、容腔-a3、内壁-a4、穿插体-a11、杠杆-a12、锁定块-a13、定位块-a14、凸杆-b1、定位座-b2、实心端-b3、连接槽-b4、底板-b5、外壳-111、滑轨-112、连接轴-113、转动轮-114、通格-b1、定位块-b2、限位空间-b3、主轴-b4、平衡杆-b5。
具体实施方式
24.以下结合附图对本发明做进一步描述：
25.实施例1：
26.图1至图6所示：
27.本发明提供一种去除气泡和多余蜡膜的陶瓷载盘，
28.其结构包括，真空吸盘座1、陶瓷载盘2、晶片3，其特征在于：所述真空吸盘座1上端与陶瓷载盘2下端相贴合，所述晶片3落入于陶瓷载盘2的端面并且与真空吸盘座1进行活动配合。
29.所述真空吸盘座1上端设有转轴11、腔体12、汲气孔 13、限位装置14，所述转轴11内侧与腔体12为一体化结构，所述汲气孔13嵌入于腔体12当中，所述汲气孔13下端与真空吸盘座1内的抽气端相连接，所述限位装置14分布于汲气孔13的外侧，所述陶瓷载盘2上设有与腔体12内汲气孔13上端相通的小孔，所述汲气孔13在腔体12内一共设有三组，并且限位装置14的数量与其保持一致，所述汲气孔13所设有的数量可一次性将三片晶片一同进行汲气，进而限位装置14则可将其进行逐一限定。
30.其中，所述限位装置14设有限位体141、安装槽142、中心端143、托板144、外层145，所述限位体141固定于安装槽142侧端上方，所述中心端143嵌入于安装槽142中心部位，所述托板144与中心端143进行固定连接，所述外层 145内侧与托板144进行固定连接，所述限位体141为斜状实心状态，安装槽142中心的中心端143具有相应的磁吸功能，托板144在中心端143外侧一共设有四根且为梯形形状，所述限位体141通过自身的形状可将安装槽142的形状进行改变，使其与晶片形状保持一致，同时中心端143的磁吸功能则可加强晶片的中心定位效果。
31.其中，所述外层145设有衔接端a1、实心体a2、容腔 a3、内壁a4，所述衔接端a1上端与实心体a2进行固定连接，所述容腔a3嵌入于实心体a2当中，所述内壁a4与容腔a3 相通，所述容腔a3的深度大于晶片的整体厚度，并且内部为抛光状态，内壁a4为实心状态，所述容腔a3通过自身的深度即可将晶片进行限位在自身当中，解决了晶片受力后被甩出的情况，并且内部的抛光状态则可防止限位过程中产生对晶片的刮擦现象。
32.其中，所述衔接端a1设有穿插体a11、杠杆a12、锁定块a13、定位块a14，所述穿插体a11两侧与杠杆a12进行固定连接，所述锁定块a13与杠杆a12侧端进行卡合连接，所述定位块a14安装于穿插体a11的上下方，所述穿插体a11 位于整体的中心位置，并且两侧均设有一根杠杆a12形成对称状态，同时锁定块a13的数量与杠杆a12为一致，所述穿插体a11根据自身的位置可将整体部件进行定位在特定原点，并且两侧杠杆a12则可加固其的稳固性，同时锁定块a13可将杠杆a12进行锁紧。
33.其中，所述穿插体a11设有凸杆b1、定位座b2、实心端b3、连接槽b4、底板b5，所述凸杆b1下端与定位座b2 进行固定连接，所述实心端b3上层与定位座b2下层相贴合，所述连接槽b4嵌入于实心端b3两侧，所述底板b5固定于连接槽b4下端，所述凸杆b1为实心状态，并且其顶端形状为梯形形状，实心端b3两侧的连接槽b4内含有相应的卡扣，所述凸杆b1通过自身的实心状态可贯穿部件的凹槽，形成卡合状态，并且顶端梯形形状可方便穿插，防止间隙过小而形成不易穿插的情况，同时实心端b3两侧连接槽b4内部的卡扣可与各部件进行相互连接的状态。
34.本实施例的具体功能与操作流程：
35.本发明中，陶瓷载盘2的晶片3吸附区域上设有的密集小孔，陶瓷载盘放置在可加热的真空吸盘座1上，当蜡融化后，晶片3放置于陶瓷载盘2上的吸附区域，启动真空时，晶片3和陶瓷载盘2之间多余的的蜡和气泡则会通过陶瓷载盘2上的小孔进入到汲气孔13内部，最后只剩下一层厚度均匀的薄蜡膜在晶片3和陶瓷载盘2之间，有效提高了晶片 3的加工精度，并且在汲气当中真空吸盘座1可根据内部的转轴11进行旋转，从而转轴11旋转会产生相应的作用力，并且基于晶片3表端为光滑状态，以至于晶片3则容易被相对的作用力甩出，从而根据真空吸盘座1的改进效果下，从而在腔体12所新增的限位装置14可将众多汲气孔13进行定位在自身内部当中，至使限位装置通过中心端143能够加强晶片的中心定位性，并且托板144可将其底部进行承托，并且根据外层145的容腔a3与限位体141、内壁a4的相互配合下能够使容腔a3的形状与晶片3保持一致，从而将晶片3进行限制在容腔a3当中，以至于能够达到将晶片3进行固定，使其防止了真空吸盘座1旋转过程中将晶片3甩出，同时容腔a3下的衔接端a1可通过自身穿插体a11将整体部件进行定位，并且两侧的杠杆a12可利用锁定块a13来加固穿插体a11的原点定位性，从而达到稳固效果，并且穿插体 a11根据自身的凸杆b1可贯穿设备相应的凹槽，同时凸杆 b1下端的定位座b2可使其保持竖直状态，并且实心端b3两侧的连接槽b4可与杠杆a12形成相互连接的效果，综上所述通过各个部件的相互配合下能够有效的解决真空吸盘座在旋转过程中产生将晶片3甩出的问题，并且加强晶片3 的原点定位性，使其提升相应的加工效果，同时加固限位装置14的固定性，使其能够保持长时间的工作，断绝了松动脱落的情况。
36.实施例2：
37.图7至图8所示：
38.本发明提供一种去除气泡和多余蜡膜的陶瓷载盘，
39.其结构包括，所述转轴11设有外壳111、滑轨112、连接轴113、转动轮114，所述外壳111内侧与滑轨112为一体，所述连接轴113定位于滑轨112中心，所述转动轮114 嵌入于连接轴113当中并进行活动连接，所述滑轨112为圆环状态，并且连接轴113具有一定的柔韧性，转动轮114在滑轨112中一共设有六颗，所述滑轨112通过自身的形状可为转动轮114提供相应的活动空间，并且连接轴113根据自身的性能可防止持续活动产生的僵硬断裂的情况，并且能够保证六颗转动轮114的间距持续保持一致。
40.其中，所述转动轮114设有通格b1、定位块b2、限位空间b3、主轴b4、平衡杆b5，所述通格b1嵌入于定位块 b2两侧，所述限位空间b3固定于定位块b2内侧，所述主轴 b4嵌入于限位空间b3中心位置，所述平衡杆b5固定于主轴 b4上下端，所述主轴b4中心含有定位片，平衡杆b5在主轴 b4上下各设有一根，并且限位空间b3的整体直径只可包含主轴b4与平衡杆b5的体积，所述主轴b4中的定位片可使其它部件进行定位在特定原点当中，防止主轴b4持续旋转而产生的松动情况。
41.本实施例的具体功能与操作流程：
42.本发明中，通过实施例1的基础作用下，所使转轴11 所改进后，可利用外壳111中的滑轨112来为转动轮114提供相应的动力空间，并且连接轴113可将六个转动轮114进行连接，从而能够使六个转动轮114的间距持续保持一致，断绝转动轮114持续运动而产生的堆积或间距产生变化的情况，最终导致卡死的问题产生，并且转动轮114主轴b4的平衡杆b5能
够使其保持整体的旋转平衡性，提升其的转动效果，综上所述通过各个部件的相互配合下能够有效的提升转轴11整体的活动性能以及加强转轴11自身的平衡效果，以至于达到晶片3在加工过程中能够得到更好的保护效果。
43.利用本发明所述技术方案，或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下，设计出类似的技术方案，而达到上述技术效果的，均是落入本发明的保护范围。