一种掩膜版及其制作方法与流程

技术特征：
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：掩膜框架，所述掩膜框架包括多个顺次连接的边框，多个所述边框共同围合形成开窗；第一掩膜条，其两端分别与多个所述边框中的两个相对的边框固定；第二掩膜条，其一端与多个所述边框中的一个固定，另一端与所述第一掩膜条固定，且第二掩膜条延伸的方向与第一掩膜条延伸的方向垂直；以及修正掩膜条，至少包括第一修正条，所述第一修正条层叠于所述第一掩膜条上，且所述第一修正条的宽度大于所述第一掩膜条的宽度，所述第一掩膜条在所述第一修正条上的投影位于所述第一修正条内，所述第一修正条及所述第二掩膜条共同将所述开窗分为多个不同尺寸的蒸镀开口。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一修正条的厚度不大于所述第一掩膜条的厚度。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述修正掩膜条还包括第二修正条，所述第二修正条层叠于所述第二掩膜条之上且与第二掩膜条固定，所述第二修正条的宽度大于所述第二掩膜条的宽度，所述第二掩膜条在所述第二修正条上的投影位于所述第二修正条内。4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第二修正条的厚度不大于所述第二掩膜条的厚度。5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜条及第二掩膜条上分别设置有排液孔。6.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：提供掩膜框架，所述掩膜框架包括多个顺次连接的边框，多个所述边框围合形成开窗；提供第一掩膜条，将其张拉到预设位置与多个所述边框中的相对的两个边框固定；提供金属掩膜条，将所述金属掩膜条张拉到预设位置使其两端分别与多个边框中的剩余两个边框中的其中一个边框及第一掩膜条固定后并切除多余部分使其靠近所述第一掩膜条的一端位于第一掩膜条上以形成第二掩膜条；以及提供修正掩膜条，所述修正掩膜条至少包括第一修正条，将所述第一修正条张拉至覆盖所述第一掩膜条且使其两端与所述掩膜框架固定，且所述第一修正条的宽度大于所述第一掩膜条的宽度，所述第一掩膜条在所述第一修正条上的投影位于所述第一修正条内，所述第一修正条及所述第二掩膜条共同将所述开窗分为多个不同尺寸的蒸镀开口。7.根据权利要求6所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，所述第一修正条的厚度不大于所述第一掩膜条的厚度。8.根据权利要求7所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，提供的修正掩膜条还包括第二修正条，在张拉固定所述第一修正条之前还包括将第二修正条张拉至与第二掩膜条固定，所述第二修正条的宽度大于所述第二掩膜条的宽度，所述第二掩膜条在所述第二修正条上的投影位于所述第二修正条内。9.根据权利要求8所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，所述第二修正条的厚度不大于所述金属掩膜条的厚度。10.根据权利要求6所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，所述第一掩膜条及第二掩膜条分别设置有排液孔。

技术总结
本申请提供一种掩膜版及其制作方法，包括：掩膜框架，所述掩膜框架包括多个顺次连接的边框，多个所述边框围合形成开窗；第一掩膜条，其两端分别与多个所述边框中的两个相对的边框固定；第二掩膜条，其一端与多个所述边框中的一个固定，另一端与所述第一掩膜条固定，且第二掩膜条延伸的方向与第一掩膜条延伸的方向垂直；以及修正掩膜条，至少包括第一修正条，所述第一修正条层叠于所述第一掩膜条上，且所述第一修正条的宽度大于所述第一掩膜条的宽度，所述第一掩膜条在所述第一修正条上的投影位于所述第一修正条内，所述第一修正条及所述第二掩膜条共同将所述开窗分为多个不同尺寸的蒸镀开口。尺寸的蒸镀开口。尺寸的蒸镀开口。


技术研发人员：ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者：广州华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2022.02.10
技术公布日：2022/5/31