技术特征：
1.一种抛光机打磨下料平台，其特征在于，包括治具平台以及下料支架，所述治具平台包括第一支撑部和第二支撑部，所述第一支撑部上设置有多个第一支撑槽，所述第二支撑部上设置有与所述第一支撑槽对应的第二支撑槽，所述第一支撑槽的底面和所述第二支撑槽的底面在同一平面上；所述下料支架可活动的设置在所述第一支撑部和所述第二支撑部之间的下料空间内，所述下料支架的上表面设置有与所述第一支撑槽以及所述第二支撑槽对应的放置槽。2.如权利要求1所述的一种抛光机打磨下料平台，其特征在于，所述第一支撑部的外侧面和所述第二支撑部的外侧面均设置有固定件，并通过所述固定件安装在抛光机上。3.如权利要求2所述的一种抛光机打磨下料平台，其特征在于，所述下料支架的下方连接有第一连接件，所述第一连接件的两端分别连接有气缸，两个所述气缸同步运动带动所述下料支架在竖直方向运动。4.如权利要求3所述的一种抛光机打磨下料平台，其特征在于，两个所述气缸通过第二连接件连接驱动件，所述驱动件通过所述气缸以及所述第一连接件带动所述下料支架相对所述下料空间在水平方向移动。5.如权利要求4所述的一种抛光机打磨下料平台，其特征在于，所述第一支撑槽内和所述第二支撑槽内均设置有定位件，分别对工件的两端进行固定。6.如权利要求5所述的一种抛光机打磨下料平台，其特征在于，所述定位件为嵌设在所述第一支撑槽的底面上和所述第二支撑槽底面上的磁吸件。7.如权利要求5或6所述的一种抛光机打磨下料平台，其特征在于，所述第一支撑槽内和所述第二支撑槽内均设置有定位柱，所述定位柱通过工件上的通孔进行定位。
技术总结
本实用新型公开了一种抛光机打磨下料平台，包括治具平台以及下料支架，所述治具平台包括第一支撑部和第二支撑部，所述第一支撑部上设置有多个第一支撑槽，所述第二支撑部上设置有第二支撑槽，所述下料支架可活动的设置在所述第一支撑部和所述第二支撑部之间的下料空间内，并设置有与所述第一支撑槽以及所述第二支撑槽对应的放置槽，当上料时，所述下料支架通过放置槽带动多个工件移动到相应位置，然后向下移动，直到所述第一支撑部和所述第二支撑部对工件的两端进行支撑；当下料时，所述下料支架在所述下料空间内向上移动，直到带动所述工件脱离所述第一支撑槽和所述第二支撑槽，然后所述下料支架带动多个所述工件离开所述下料空间。下料空间。下料空间。
技术研发人员：奚红梅
受保护的技术使用者：惠州市顺和鑫电子科技有限公司
技术研发日：2021.05.31
技术公布日：2022/1/11
再多了解一些
本文用于企业家、创业者技术爱好者查询，结果仅供参考。
