吸光隔热膜、吸光隔热构件、物品及其制备方法与流程

技术特征：
1.吸光隔热膜，包括：包括微细凹凸的金属层，其中所述微细凹凸的平均高度为100nm以上且1000nm以下。2.根据权利要求1所述的吸光隔热膜，还包括：与所述微细凹凸紧密接触的金属氧化物的微细凹凸形状。3.根据权利要求2所述的吸光隔热膜，其中，所述金属氧化物的微细凹凸形状含有：含有氧化铝作为主要成分的板状晶体。4.根据权利要求1
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3中任一项所述的吸光隔热膜，其中，所述吸光隔热膜具有如下表面，其平均表面粗糙度ra'为1nm以上且50nm以下且比表面积sr为1.0以上且3.0以下。5.根据权利要求1
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4中任一项所述的吸光隔热膜，其中，所述金属层的材料包括选自镍、铬和锌中的一种。6.吸光隔热构件，包括：根据权利要求1
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5中任一项所述的吸光隔热膜；和基材。7.根据权利要求6所述的吸光隔热构件，其中，用粘合层将所述吸光隔热膜和所述基材接合在一起。8.物品，包括：在其最外表面上的根据权利要求1
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5中任一项所述的吸光隔热膜。9.吸光隔热膜的制备方法，包括：形成金属氧化物的微细凹凸形状的第一步骤；和在所述金属氧化物的微细凹凸形状上形成金属层的第二步骤。10.根据权利要求9所述的吸光隔热膜的制备方法，其中，所述第一步骤包括将含铝膜在温水中进行浸渍处理。11.根据权利要求9或10所述的吸光隔热膜的制备方法，其还包括：将所述金属氧化物的微细凹凸形状去除的步骤。12.吸光隔热构件的制备方法，包括：形成金属氧化物的微细凹凸形状的第一步骤；在所述金属氧化物的微细凹凸形状上形成金属层的第二步骤；和将基材与所述金属层的与所述金属氧化物的微细凹凸形状相反的表面进行接合的第三步骤。13.根据权利要求12所述的吸光隔热构件的制备方法，其中，所述第三步骤还包括使用粘合层将所述金属层与所述基材接合的步骤。14.根据权利要求12或13所述的吸光隔热构件的制备方法，还包括：将所述金属氧化物的微细凹凸形状去除的步骤。15.根据权利要求8所述的物品，其中，所述吸光隔热膜的与所述物品接触的表面相反的表面上的检测温度比所述物品的不具备所述吸光隔热膜的部分上的检测温度低3℃以上。16.根据权利要求15所述的物品，其中，所述物品为发热元件。17.根据权利要求1
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5中任一项所述的吸光隔热膜的用途，其中，通过在物品的最外表面上设置所述吸光隔热膜，所述吸光隔热膜的与所述物品接触的表面相反的表面的检测温
度比所述物品的表面上的检测温度低3℃以上。18.根据权利要求17所述的用途，其中，所述物品为发热元件。

技术总结
本发明提供吸光隔热膜，其实现了吸收可见光和近红外线而发射较少远红外线的通常不相容的特性。本发明提供吸光隔热膜，其包括：包括微细凹凸的金属层，其中微细凹凸的平均高度为100nm以上且1000nm以下。100nm以上且1000nm以下。100nm以上且1000nm以下。


技术研发人员：小谷佳范 斋藤宏
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：2020.03.27
技术公布日：2021/11/8