一种太阳反射膜斜刻工艺的制作方法

本发明涉及太阳膜技术领域，尤其涉及一种太阳反射膜斜刻工艺。

背景技术：

太阳膜(solarfilm)又叫隔热膜，而在现代太阳膜生产技术中，往往是通过真空喷镀或磁控溅射技术将铝、金、铜、银等金属制成多层至密的高隔热金属膜层，现有技术中太阳膜基本为金属反射膜。一般金属都具有较大的消光系数，当光束由空气入射到金属表面时，进入金属内的光振幅迅速衰减，使得进入金属内部的光能相应减少，而反射光能增加。消光系数越大，光振幅衰减越迅速，进入金属内部的光能越少，反射率越高。人们总是选择光系数较大，光学性质较稳定的那些金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄材料是铝，在可见光区常用铝和银，在红外区常用金、银和铜，此外，铬和铂也常作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。

为了降低原材成本和提高反射膜的反射率，市场上出现了在已成型增亮膜的棱镜结构表面镀上铝层从而用于太阳反射膜的技术，该技术投入使用生产出来的太阳反射膜相对金属反射膜来说成本较低，但对于反射率提高有一定的局限性，无法应对激烈的市场竞争。金属反射膜虽然制备工艺简单，工作的波长范围宽，但缺点是光损大，反射率不可能很高。而通过在已成型增亮膜的棱镜结构表面镀上铝层的技术生产出来的增亮膜产品结构较为单一，辉度雾度等光学指标相对来说也比较固定，提升空间较小，后期组装产品适应范围较小。

技术实现要素：

为克服上述缺点，本发明的目的在于提供一种太阳反射膜斜刻工艺，使后期组装产品多样化，提高增亮膜辉度等光学指标，满足不同的客户需求。

为了达到以上目的，本发明采用的技术方案是：一种太阳反射膜斜刻工艺，包括以下步骤：

s1、将金属膜材料铺设在转动辊表面，所述转动辊两端固定在转动装置中，当转动装置转动时，所述转动辊带动金属膜材料进行转动；

s2、调整雕刻机的位置，所述雕刻机带动雕刻刀向靠近转动辊的方向移动，当移动至转动辊处后，调整雕刻机上雕刻刀位置，使雕刻刀位于转动辊的首端；

s3、调整完雕刻机的位置后，由工作人员对雕刻刀的位置角度进行调整，使雕刻刀的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊的纵向呈角度倾斜；

s4、随后启动转动装置以及雕刻机，使雕刻机上的雕刻刀对转动辊上的金属膜材料进行雕刻，同时沿转动辊的长度方向移动雕刻机，使转动辊上的金属膜材料完全雕刻形成增亮膜产品，且所述雕刻机对金属膜材料进行匀速雕刻。

优选地，所述金属膜材料为铜层。

优选地，所述金属膜材料沿转动辊长度方向所在的直线进行铺设，且将所述转动辊表面完全包覆。

优选地，所述雕刻刀的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊的纵向呈40度－50度或负40度－－50度倾斜。

优选地，所述雕刻刀的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊的纵向呈45度或－45度设置。

优选地，所述雕刻机将金属膜材料雕刻后在所述金属膜材料表面形成若干道棱镜结构。

优选地，所述棱镜结构的高度为7.2μμ，顶角角度为90±2度，所述棱镜结构顶点之间水平距离范围为25-30μμ，且所述棱镜结构截面为等腰三角形。

本发明的有益效果：

本发明通过调整雕刻机上雕刻刀的雕刻角度，进一步提高太阳反射膜的反射率，降低了企业的生产成本，并使整个加工组装件重量减轻，在后期保养更换配件时省时省力，另一方面显著提高了太阳反射膜的发射率，实验证明至少能在原来基础上提高3％的反射率。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例的雕刻刀与转动辊的位置关系示意图；

图2为本发明一较佳实施例的雕刻刀与转动辊的另一位置关系调整示意图；

图中：1、转动辊；2、雕刻刀。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

参见附图1至2所示，本实施例中的一种太阳反射膜斜刻工艺，包括以下步骤：

s1、将金属膜材料铺设在转动辊1表面，所述转动辊1两端固定在转动装置中，当转动装置转动时，所述转动辊1带动金属膜材料进行转动；

s2、调整雕刻机的位置，所述雕刻机带动雕刻刀2向靠近转动辊1的方向移动，当移动至转动辊1处后，调整雕刻机上雕刻刀2位置，使雕刻刀2位于转动辊1的首端；

s3、调整完雕刻机的位置后，由工作人员对雕刻刀2的位置角度进行调整，使雕刻刀2的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊1的纵向呈角度倾斜；

s4、随后启动转动装置以及雕刻机，使雕刻机上的雕刻刀2对转动辊1上的金属膜材料进行雕刻，同时沿转动辊1的长度方向移动雕刻机，使转动辊1上的金属膜材料完全雕刻形成增亮膜产品，且所述雕刻机对金属膜材料进行匀速雕刻。

所述金属膜材料为铜层。

所述金属膜材料沿转动辊1长度方向所在的直线进行铺设，且将所述转动辊1表面完全包覆。

所述雕刻刀2的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊1的纵向呈40度－50度或负40度－－50度倾斜，反射膜的发射率有显著提高，所述雕刻刀2雕刻的深度可通过参数设置进行调节。

所述雕刻刀2的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊1的纵向呈45度或－45度设置。

所述雕刻机将金属膜材料雕刻后在所述金属膜材料表面形成若干道棱镜结构。

所述棱镜结构的高度为7.2μm，顶角角度为90±2度，所述棱镜结构顶点之间水平距离范围为25－30μm，且所述棱镜结构截面为等腰三角形。

以上实施方式只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

技术特征：

1.一种太阳反射膜斜刻工艺，其特征在于：包括以下步骤：

s1、将金属膜材料铺设在转动辊(1)表面，所述转动辊(1)两端固定在转动装置中，当转动装置转动时，所述转动辊(1)带动金属膜材料进行转动；

s2、调整雕刻机的位置，所述雕刻机带动雕刻刀(2)向靠近转动辊(1)的方向移动，当移动至转动辊(1)处后，调整雕刻机上雕刻刀(2)位置，使雕刻刀(2)位于转动辊(1)的首端；

s3、调整完雕刻机的位置后，由工作人员对雕刻刀(2)的位置角度进行调整，使雕刻刀(2)的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊(1)的纵向呈角度倾斜；

s4、随后启动转动装置以及雕刻机，使雕刻机上的雕刻刀(2)对转动辊(1)上的金属膜材料进行雕刻，同时沿转动辊(1)的长度方向移动雕刻机，使转动辊(1)上的金属膜材料完全雕刻形成增亮膜产品，且所述雕刻机对金属膜材料进行匀速雕刻。

2.根据权利要求1所述的一种太阳反射膜斜刻工艺，其特征在于：所述金属膜材料为铜层。

3.根据权利要求1所述的一种太阳反射膜斜刻工艺，其特征在于：所述金属膜材料沿转动辊(1)长度方向所在的直线进行铺设，且将所述转动辊(1)表面完全包覆。

4.根据权利要求1所述的一种太阳反射膜斜刻工艺，其特征在于：所述雕刻刀(2)的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊(1)的纵向呈40度－50度或负40度－－50度倾斜。

5.根据权利要求4所述的一种太阳反射膜斜刻工艺，其特征在于：所述雕刻刀(2)的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊(1)的纵向呈45度或－45度设置。

6.根据权利要求1所述的一种太阳反射膜斜刻工艺，其特征在于：所述雕刻机将金属膜材料雕刻后在所述金属膜材料表面形成若干道棱镜结构。

7.根据权利要求6所述的一种太阳反射膜斜刻工艺，其特征在于：所述棱镜结构的高度为7.2μm，顶角角度为90±2度，所述棱镜结构顶点之间水平距离范围为25－30μm，且所述棱镜结构截面为等腰三角形。

技术总结
本发明公开了一种太阳反射膜斜刻工艺，包括以下步骤：将金属膜材料铺设在转动辊表面，所述转动辊两端固定在转动装置中；调整雕刻机的位置，所述雕刻机带动雕刻刀向靠近转动辊的方向移动，当移动至转动辊处后，调整雕刻机上雕刻刀位置，使雕刻刀位于转动辊的首段；调整完雕刻机的位置后，由工作人员对雕刻刀的位置角度进行调整，使雕刻刀的雕刻端长度方向所在的直线与转动辊的纵向呈角度倾斜；随后启动转动装置以及雕刻机，使雕刻机上的雕刻刀对转动辊上的金属膜材料进行雕刻。本发明使后期组装产品多样化，提高增亮膜辉度等光学指标，满足不同的客户需求。

技术研发人员：蔡鑫;刘书章;伍铭;林骞
受保护的技术使用者：浙江锦辉光电材料有限公司
技术研发日：2021.02.19
技术公布日：2021.06.15