一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法与流程

技术总结
本发明提供一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法，包括：纳米线条结构模板的制作：在石英玻璃基片一的一侧表面涂覆光刻胶一；然后进行全息曝光，曝光结束后显影，直至在光刻胶一出现纳米线条结构；将显影后的光刻胶一在保护气下进行离子束刻蚀，刻蚀结束后去除光刻胶得到纳米线条结构模板；纳米压印转移模板上的纳米线条结构：在石英玻璃基片二上涂覆光刻胶二；将纳米线条结构模板涂覆脱模剂后压入光刻胶二，进行紫外曝光，直至该模板上的纳米线条结构转移到光刻胶二上；转移完成后，将光刻胶二进行改性固化，脱除纳米线条结构模板；将纳米线条结构基片上纳米线条结构区域分成若干部分，按照顺序以渐变角度一一进行二氧化硅薄膜沉积。

技术研发人员：金建;邸思;袁海
受保护的技术使用者：深圳先进技术研究院;广州中国科学院先进技术研究所
技术研发日：2019.12.05
技术公布日：2020.03.24