技术特征：
技术总结
本发明涉及微纳器件制备的技术领域，更具体地，涉及一种双层纳米孔的制造方法，包括以下步骤：S10.提供三层纳米薄膜样品，三层纳米薄膜结构包括自上而下设置的第一纳米薄膜、第二纳米薄膜以及第三纳米薄膜；S20.对三层纳米薄膜结构采用离子束刻蚀出三层纳米通孔；S30.对经S20刻蚀的三层纳米薄膜结构对中间层进行各向同性刻蚀；S40.对经S30处理的三层纳米薄膜结构进行加热，第一纳米薄膜和第三纳米薄膜同时缩孔，直至获得所需孔径的双层纳米孔。本发明在离子束刻蚀纳米孔后高温加热实现缩孔，能够制造与DNA等单分子直径相当直径的纳米孔，克服了大部分聚焦离子束无法直接制造直径20nm以下的纳米孔的难题。
技术研发人员：袁志山;雷鑫;王成勇
受保护的技术使用者：广东工业大学
技术研发日：2019.05.15
技术公布日：2019.09.24
再多了解一些
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