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在基体的表面形成多种面形结构的方法与流程

2021-10-26 12:53:19 来源:中国专利 TAG:基体 半导体 表面 多种 结构

技术特征:

技术总结
本申请提供一种在基体的表面形成多种面形结构的方法,该方法包括:在基体的表面形成至少两种掩模图形,不同种的掩模图形具有不同的掩模材料和/或表面形状,其中,不同的掩模材料与所述基体之间具有不同的刻蚀选择比;刻蚀所述至少两种掩模图形和所述基体的表面,以将所述至少两种掩模图形按照相应的刻蚀选择比转移到所述基体的表面,以在所述基体的表面形成由所述基体的材料形成的至少两种面形结构。根据本实施例,可以通过一次刻蚀在基体的表面形成不同的表面形状。

技术研发人员:顾佳烨;游家杰;邱鹏
受保护的技术使用者:上海新微技术研发中心有限公司
技术研发日:2016.11.18
技术公布日:2018.05.25
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