一种微凹坑阵列结构加工方法与流程

2018-06-02 05:22:00 来源：中国专利 TAG：阵列结构加工形貌尺度

技术总结
本发明公开了一种微凹坑阵列结构加工方法，本发明方法能够加工获得曲线形貌微凹坑阵列结构。本发明加工方法具体包括如下步骤：步骤1，衬底上涂覆一层基体材料；步骤2，利用离子风穿过带通孔阵列的掩模作用于衬底上的基体材料，形成微凹坑阵列结构；步骤3，固化衬底上的基体材料，成型所需形貌的微凹坑阵列结构。本发明方法能够低成本的实现不同材料、形貌和尺寸参数的凹坑阵列结构加工。

技术研发人员：郑怀;邹精龙;李操;刘洁
受保护的技术使用者：武汉大学
技术研发日：2017.12.20
技术公布日：2018.06.01

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