技术特征：
技术总结
本发明公开了一种微纳尺度的图形绘制方法，包括：通过磁控溅射仪在纳米尺度的针尖上溅射贵金属包覆层；通过磁控溅射仪在硅片上溅射贵金属薄膜作为基底，或者以单层石墨烯作为基底；在所述基底上吸附光敏分子，然后置于载物台上；固定所述针尖，调节激光器的入射激光，使所述入射激光照射在所述针尖尖端，利用针尖产生的局域表面等离激元，作用于光敏分子生成反应物，通过载物台调节光敏分子的位置，从而较好地控制光敏分子的反应物形成微纳尺度的图形的形状和过程。
技术研发人员：张利胜;李新娟;刘彦齐;王培杰;方炎;李志鹏
受保护的技术使用者：首都师范大学
技术研发日：2017.10.23
技术公布日：2018.02.27
再多了解一些
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