硅单晶制造装置的制作方法

1.本发明涉及硅单晶制造装置。


背景技术：

2.借助切克劳斯基法（cz法）的硅单晶的提拉是通过使晶种植入到坩埚内的硅熔液并用提拉线材将晶种向上方提拉来进行。
3.在硅单晶的提拉中，坩埚内的硅熔液表面的温度是重要的参数之一，通过准确地测量熔液表面的温度，能够精密地控制硅单晶的品质。
4.在文献1（日本特开2014-218402号公报）中，公开了在牵拉腔室（pull chamber）的上部配置辐射温度计和二维温度计、使用这两个温度计测量硅熔液表面的温度的技术。
5.顺便说一下，在辐射温度计中，通常通过目视附属的取景器（finder）进行测量位置的对位，但从配置在牵拉腔室的上部的辐射温度计的取景器到坩埚的测量距离较长，在测量者的目视调整中，有根据观察的人的感觉及观察的角度而测量位置变动、不稳定这一课题。
6.除此以外，当在腔室内没有硅熔液时腔室内处于暗处，到目前为止通常在有硅熔液（发光物）的状态下进行目视调整是常事。但是，在此情况下，有虽然借助目视能看到标记（marking）但不能准确地知道目标位置这一问题。


技术实现要素：

7.本发明的目的在于提供一种在用辐射温度计计测硅熔液表面的温度的硅单晶制造装置中、能够将借助辐射温度计进行测量的测量位置相对于目标位置准确地对准的硅单晶制造装置。
8.本发明的硅单晶制造装置的特征在于，具备：腔室；坩埚，配置在前述腔室内；辐射温度计，具有检测来自测量对象的辐射光的检测元件、将前述辐射光聚光于前述检测元件的透镜、用来目视确认前述测量对象的取景器、以及中心与前述透镜的光轴一致的标记；摄影装置，经由前述取景器将前述标记及前述测量对象摄影；显示装置，显示所摄影的前述标记及前述测量对象；照明装置，将前述测量对象照明以便能够摄影；以及调整装置，在能够调整借助前述辐射温度计进行测量的测量位置的状态下支承前述辐射温度计。
9.在上述硅单晶制造装置中，也可以，前述摄影装置是能够将图像摄影的相机。
10.在上述硅单晶制造装置中，也可以，前述相机具有能够将前述标记和前述测量位置的两者同时摄影的高深度透镜。
11.在上述硅单晶制造装置中，也可以，前述高深度透镜是液体透镜。
12.在上述硅单晶制造装置中，也可以，前述摄影装置具有相机固定夹具，所述相机固定夹具用来将前述相机固定在前述取景器；前述相机固定夹具具有：连接轴，形成为圆筒状，与前述取景器连接；相机保持部，具有能够供前述连接轴插入的插入部，保持前述相机；以及固定部件，在前述连接轴被插入在前述插入部内的状态下将前述相机保持部固定在前
述连接轴。
13.在上述硅单晶制造装置中，也可以，前述连接轴具有：连接部，与前述取景器连接；以及圆筒部，与前述连接部成为一体，呈圆筒状，在外周面的与前述连接部相反侧形成有阳螺纹槽，能够穿过内部确认前述取景器；前述插入部是u字槽，所述u字槽其下方被开放且尽头被做成与前述圆筒部的外径的尺寸相同尺寸的内径的圆弧；前述固定部件与前述连接轴的阳螺纹槽螺合，在将前述圆筒部插入在前述插入部内的状态下将前述相机保持部固定。
14.在上述硅单晶制造装置中，也可以，前述调整装置是支承前述辐射温度计的双轴测角台。
15.在上述硅单晶制造装置中，也可以，具有：底板，支承前述双轴测角台；安装板，配置在前述辐射温度计与前述双轴测角台之间；多个止动螺栓，具有与形成在前述底板的阴螺纹孔螺合的轴部以及与前述安装板的下表面接触的头部；以及螺母，将前述止动螺栓的高度固定。
16.在上述硅单晶制造装置中，也可以，具有将由前述辐射温度计测量的辐射光的光路相对于入射方向向正交方向反射的反射部。
17.在上述硅单晶制造装置中，也可以，前述反射部具有由铝蒸镀反射镜形成的反射镜主体。
18.在上述硅单晶制造装置中，也可以，具备：坩埚轴，能够拆装地安装前述坩埚，使前述坩埚旋转及升降驱动；以及坐标板，能够拆装地安装在前述坩埚轴，被前述摄影装置摄影。
19.根据本发明，在用辐射温度计计测硅熔液表面的温度的硅单晶制造装置中，能够将借助辐射温度计进行测量的测量位置相对于目标位置准确地对准。
附图说明
20.图1是表示有关本发明的硅单晶制造装置的一实施方式的概略结构的纵剖视图。
21.图2是表示有关本发明的固定在牵拉腔室盖体的辐射温度计单元的一实施方式的立体图。
22.图3是将有关本发明的调整装置的一实施方式的一部分分解的立体图。
23.图4是说明有关本发明的辐射温度计及反射部的一实施方式的构造的将一部分剖视的侧视图。
24.图5是有关本发明的摄影装置的一实施方式的分解立体图。
25.图6是有关本发明的相机保持部的一实施方式的立体图。
26.图7a是有关本发明的坐标板的一实施方式的俯视图及侧视图。
27.图7b是有关本发明的坐标板的一实施方式的俯视图及侧视图。
28.图8是说明圆板固定工序中的坐标板的固定状态的概略图。
29.图9是表示显示在显示装置的摄影图像的一例的图。
具体实施方式
30.以下，参照附图对用来实施本发明的方式进行说明。
31.图1是表示有关本发明的硅单晶制造装置的一实施方式的概略结构的纵剖视图。
硅单晶制造装置1使用cz法制造硅单晶sm。
32.如图1所示，硅单晶制造装置1具备腔室50、坩埚51、加热器52、提拉部53、热遮蔽体54、绝热件55、坩埚轴56、以及辐射温度计单元2。
33.腔室50具备进行结晶的提拉的主腔室57、以及与主腔室57的上部连接且收容被提拉出的结晶的牵拉腔室58。在牵拉腔室58，设置有将氩（ar）气等非活性气体向主腔室57内导入的气体导入口59。在主腔室57的下部，设置有借助真空泵的驱动将主腔室57内的气体排出的气体排气口（未图示）。
34.牵拉腔室58具有圆筒形状的牵拉腔室主体58a、以及将牵拉腔室主体58a的上端封堵的牵拉腔室盖体58b。在牵拉腔室盖体58b设置有测量用窗58c。测量用窗58c可以由使来自硅熔液m的辐射光及可见光透过的材料、例如石英形成。
35.在主腔室57，设置有用来观察主腔室57内的观察窗57a。在观察窗57a的附近且主腔室57的外侧，设置有将测量对象照明以便能够摄影的照明装置63。照明装置63被设置方向以将坩埚51、后述的坐标板35（参照图8）照射。作为照明装置63，优选的是led灯。根据发明人们的实验，led灯的光量通过设为70 流明（lumen）以上200流明以下就足够，通过设为这样的光量，与例如做成1000流明的照明装置相比能够降低成本。
36.辐射温度计单元2被固定在牵拉腔室盖体58b，经由测量用窗58c测量硅熔液表面的测量位置的温度。另外，从辐射温度计单元2到硅熔液表面的距离为约6m。
37.在牵拉腔室58的上部，设置有维护台面（maintenance deck）60。作业者能够在维护台面60上进行关于辐射温度计单元2的作业（调整、测量等）。
38.坩埚51配置在主腔室57内，贮存硅熔液m。
39.加热器52在坩埚51的外侧隔开规定间隔配置，将坩埚51内的硅熔液m加热。提拉部53具备在一端安装有晶种sc的线缆61、以及使线缆61升降及旋转的提拉驱动部62。
40.热遮蔽体54以将被提拉的硅单晶sm包围的方式设置，将从加热器52向硅单晶sm的辐射热遮断。坩埚轴56是将坩埚51从下方支承的支承轴，与使坩埚51以规定的速度旋转及升降的驱动装置（未图示）连接。另外，坩埚51相对于坩埚轴56能够拆装地安装，在坩埚轴56能够代替坩埚51而能够拆装地安装后述的坐标板35。
41.接着，对辐射温度计单元2进行说明。
42.辐射温度计单元2是具备在硅单晶sm的制造时测量坩埚51内的硅熔液表面的温度的辐射温度计3的单元。
43.图2是固定在牵拉腔室盖体58b的辐射温度计单元2的立体图。
44.如图2所示，辐射温度计单元2具备非接触地计测硅熔液表面的温度的辐射温度计3、调整借助辐射温度计3进行测量的测量位置的调整装置4、将借助辐射温度计3进行测量的测量位置摄影的摄影装置5、显示装置13（参照图1）、以及反射部6。
45.反射部6将由辐射温度计3测量的辐射光（红外线）的光路p相对于入射方向向正交方向反射。来自硅熔液m的辐射光的光路p被反射部6向正交方向反射而入射到透镜15，被辐射温度计3测量。
46.辐射温度计3的取景器17通常在借助目视的温度测量时使用，但在本发明的辐射温度计单元2中，在取景器17安装有摄影装置5。由此，摄影装置5能够经由辐射温度计3及反射部6将测量位置摄影。
47.辐射温度计3经由调整装置4固定在牵拉腔室盖体58b。在本实施方式的辐射温度计单元2中，辐射温度计3以透镜15的光轴a成为大致水平的方式配置。
48.图3是将调整装置4的一部分分解的立体图。调整装置4被固定在牵拉腔室盖体58b，是支承辐射温度计3并调整借助辐射温度计3进行测量的测量位置的装置。
49.调整装置4具备固定在牵拉腔室盖体58b的底板（base plate）7、固定在底板7上的双轴测角台8、以及固定在双轴测角台8上且支承辐射温度计3的安装板（mount plate）9。
50.底板7是被用例如螺栓b1（参照图2）等紧固部件固定在牵拉腔室盖体58b的板状部件。底板7可以由具有足够支承辐射温度计3及双轴测角台8的强度的板形成。底板7以其上表面成为水平的方式固定在牵拉腔室盖体58b。在底板7的上表面，例如用螺栓（未图示）固定着双轴测角台8。
51.在底板7，能够安装多个止动螺栓10。止动螺栓10是具有与底板7的阴螺纹孔螺合的轴部10a和设置有树脂制的垫片（pad）的头部10b的螺栓。调整止动螺栓10，以使头部10b的垫片与安装板9的下表面接触。
52.双轴测角台8是在被调整装置4支承的辐射温度计3的姿势调整中使用的装置。通过用双轴测角台8调整辐射温度计3的姿势，来调整辐射温度计3的透镜15的光轴a的角度，调整借助辐射温度计3进行测量的测量位置。
53.双轴测角台8是将两个单轴测角台（倾斜台）以各自的旋转中心相互正交的方式组合的结构，具备配置在底板7上的第一测角台11、以及与第一测角台11的上方连接的第二测角台12。
54.第一测角台11具有第一固定台11a、与第一固定台11a的上方连接的第一可动台11b、以及第一手柄11c。第一固定台11a的上表面是以与y轴（参照图3）平行的轴线为中心的圆筒状的曲面，第一可动台11b的下表面是沿着第一固定台11a的上表面的曲面。通过使第一手柄11c转动，第一可动台11b绕与y轴平行的轴转动。
55.第二测角台12具有第二固定台12a、与第二固定台12a的上方连接的第二可动台12b、以及第二手柄12c。第二固定台12a的上表面是以呈与x轴（参照图3）平行的轴线为中心的圆筒状的曲面，第二可动台12b的下表面是沿着第二固定台12a的上表面的曲面。通过使第二手柄12c转动，第二可动台12b绕与x轴平行的轴转动。
56.这里，x轴是经过腔室50的中心且水平地延伸的轴线，y轴是与x轴正交并在水平方向上延伸的轴线。
57.安装板9被用例如螺栓b2等紧固部件固定在第二测角台12的上表面，是配置在辐射温度计3与双轴测角台8之间的板状部件。安装板9可以由具有足够支承辐射温度计3的强度的板形成。在安装板9，形成有在将辐射温度计3向安装板9上固定时使用的多个辐射温度计固定孔9a。
58.接着，对辐射温度计3的结构进行说明。图4是说明辐射温度计3及反射部6的构造的将一部分剖视的侧视图。
59.如图4所示，辐射温度计3具备大致圆筒形状的壳体14、配置在壳体14内的透镜15、配置在壳体14内的检测元件16、以及取景器17。
60.透镜15以其光轴a与壳体14的中心轴一致的方式配置。即，通过以壳体14的中心轴成为水平的方式设置辐射温度计3，能够使透镜15的光轴a成为水平。
61.辐射温度计3是将经由形成在壳体14的开口部14a被取入的测量对象的辐射光经由透镜15及束分离器（beam splitter）18聚光于检测元件16的方式的辐射温度计。束分离器18是用来将辐射光与可见光分离的部件，例如可以使用半透明反射镜（half mirror）。
62.检测元件16是对辐射光感应、产生与辐射光的能量对应的电信号的元件。
63.辐射温度计3具有其中心与透镜15的光轴a一致的标记（例如黑圈）。标记以其中心成为测量中心的方式记录。该标记通常只要直接形成在透镜15即可，但也可以形成在透镜15以外。此外，辐射温度计3的距离系数根据测量距离（如果是本实施方式则例如为6000mm）和测量对象物的大小来选择。
64.接着，对反射部6进行说明。反射部6是用来将辐射光的光路p直角地弯曲的机构。
65.如图4所示，反射部6具有固定在辐射温度计3的壳体14的反射镜壳体30、固定在反射镜壳体30内的反射镜主体31、以及与反射镜壳体30的下方连接并将反射镜壳体30与测量用窗58c之间屏蔽的屏蔽管32。另外，在屏蔽管32与测量用窗58c之间设定有稍稍的间隙，以使得当借助双轴测角台8使辐射温度计3倾斜时屏蔽管32不会与测量用窗58c碰撞。
66.反射镜壳体30是收容反射镜主体31以使反射镜主体31相对于透镜15的光轴a成为适当的角度的壳体。反射镜壳体30具有将外部的光遮断的功能。
67.反射镜主体31由能够将辐射光（红外线）及可见光反射的材料形成。反射镜主体31例如可以由铝蒸镀反射镜形成。反射镜主体31并不限于铝蒸镀反射镜，例如也可以采用金蒸镀反射镜。虽然金蒸镀镀层的反射镜在红外波长、近红外波长在最优条件下拥有高反射率，但硅被称作在600℃左右为0.6μm（600nm）左右的波长，进而在高温成为短波长。在该区域中，在铝蒸镀反射镜和金蒸镀反射镜的反射率间没有大的差别。因此，能够使用比金蒸镀反射镜便宜的铝蒸镀反射镜。
68.屏蔽管32是与反射镜壳体30的下方连接的圆筒状的部件。屏蔽管32具有在反射镜壳体30与测量用窗58c之间将外部的光遮断的功能。
69.接着，对摄影装置5进行说明。图5是摄影装置5的分解立体图。另外，在以下的说明中，将沿着辐射温度计3的透镜15（参照图4）的光轴a的方向称作轴线方向da。此外，在摄影装置5的各构成要素的说明中使用的上下方向dv、轴线方向da等方向对应于图5。
70.如图5所示，摄影装置5具有相机（camera）19、以及用来将相机19固定在取景器17的相机固定夹具20。
71.相机19是能够将图像摄影的装置，具有高深度透镜19a和用于电源供给的线缆19b。相机19的主体部呈长方体形状，在其下表面，形成有在相机19的固定中使用的阴螺纹孔19c。对于相机19，例如可以借助充电式的便携电池进行电源供给。
72.此外，相机19具备能够将从近距离（例如100mm）到远距离（例如6000mm）同时摄影的高深度透镜19a。高深度透镜19a例如可以采用使用液体透镜的机构。液体透镜是通过使用两种同密度的液体电气地控制液体间的界面的曲率而能够变更焦点距离的透镜。液体透镜使用两种同密度的液体、例如作为绝缘体的油和作为导体的水，通过使电压变化而使两种液体间的界面的曲率变化，来变更透镜的焦点距离。
73.进而，相机19具有借助无线通信（例如无线局域网（lan））的数据收发功能。作业者能够经由显示装置13（参照图1）确认由相机19摄影的图像。
74.显示装置13可以设为能够与相机19无线通信的装置、例如平板电脑等终端，也可
以做成通过装入相机19的控制用软件而能够进行调焦、曝光等相机19的各种设定操作的结构。
75.相机19的结构并不限于上述的结构，也可以将显示装置13与相机19一体而做成不具有无线通信功能的结构。在本实施方式中，作为相机19而采用康耐视（cognex）公司制视觉传感器in-sight 2000系列，但只要是具有同样的功能的设备即可，并不限于此。
76.相机固定夹具20具有固定于取景器17的连接轴21、保持相机19并固定于连接轴21的相机保持部22、以及作为用来将相机保持部22固定在连接轴21的螺母的固定部件23。
77.连接轴21具有与取景器17连接的连接部24、以及与连接部24成一体的圆筒部25。连接轴21是作为用来将相机保持部22固定在取景器17的基部发挥功能的部件。
78.连接部24是与形成在辐射温度计3的取景器17的外周面处的阳螺纹槽螺合的螺母状的部位。对于连接部24的外周面施以了滚花加工。通过对连接部24的外周面施以滚花加工、赋予防滑的功能，能够使连接轴21向取景器17的安装变得容易。
79.圆筒部25是与连接部24呈同轴状的圆筒状的部位。圆筒部25的内径是能够穿过圆筒部25的内部来确认取景器17的大小。在圆筒部25的外周面的与连接部24相反侧，形成有与固定部件23螺合的阳螺纹槽25a。
80.连接部24的外径比圆筒部25的外径大，连接部24具有在组装成摄影装置5时与后述的基座部40面接触的接触面24a。本实施方式的连接部24是从轴线方向观察呈圆形的圆柱形状，但并不限于此，也可以做成多边形状。
81.相机保持部22具有固定于连接轴21的托架部27、以及与托架部27成一体并支承相机19的相机支承部28。
82.如图5及图6所示，托架部27是具有固定于连接轴21的基座部40和从基座部40的两端向远离连接轴21的方向突出的一对臂部41的从上方观察为
コ
字形的部位。
83.基座部40是矩形板状的部件。基座部40通过被连接轴21的连接部24和固定部件23夹着而被固定在连接轴21。
84.在基座部40，形成有供连接轴21的圆筒部25插入且下方被开放的u字形的插入部42。插入部42由为其上端部且半圆形状的圆弧部42a、以及将圆弧部42a的两端与基座部40的下方的长边40a连接且呈相互平行的一对直线部42b构成。换言之，插入部42是从下方的长边40a朝向上方的长边40b形成的切缺，切缺的尽头被做成圆弧。
85.圆弧部42a的内径的尺寸与连接轴21的圆筒部25的外径的尺寸相同，一对直线部42b彼此的间隔为比连接轴21的圆筒部25的直径稍大的尺寸。
86.另外，供连接轴21插入的插入部42并不需要一定是u字形，也可以是单单的圆形的孔，如果设为u字形，则能够将连接轴21从下插入而安装在基座部40，所以其安装变得容易。
87.臂部41呈矩形板状，以臂部41的主面彼此呈平行的方式与基座部40的两端连接。
88.相机支承部28呈矩形板状，是将相机19的下表面从下方支承的部位。
89.在相机支承部28，形成有与形成在相机19的下表面的阴螺纹孔19c对应的圆孔28a。
90.接着，对使用相机固定夹具20的相机19的安装方法进行说明。
91.首先，将连接轴21固定在取景器17。此外，使用螺栓b3将相机19固定在相机保持部22。接着，在使插入部42的圆弧部42a与连接轴21的圆筒部25接触的状态下，使用固定部件
23将相机保持部22固定在连接轴21。
92.相机固定夹具20通过这样将相机19使用相机固定夹具20安装在取景器17，相机19能够经由取景器17将辐射温度计3的标记及测量对象摄影，形成为，相机19的高深度透镜19a的光轴与辐射温度计3的透镜15的光轴a大致一致，在摄影图像的大致中心显示标记。
93.通过将相机19安装在取景器17，相机19的高深度透镜19a经由圆筒部25的内侧而面对取景器17，并且，在摄影图像映出辐射温度计3的标记及测量对象。
94.接着，对在使用调整装置4的借助辐射温度计3进行测量的测量位置的调整时使用的坐标板35进行说明。坐标板35是在借助辐射温度计3进行测量的测量位置的调整时被固定在将坩埚51拆下后的坩埚轴56的上端、作为模拟硅熔液表面的假想液面发挥功能的圆板。
95.图7a及图7b是坐标板35的俯视图及侧视图。如图7a及图7b所示，坐标板35是呈圆板状的部件。坐标板35以其主面呈水平的方式被固定在坩埚轴56的上端。
96.优选的是，坐标板35例如由即使与坩埚轴56接触也没有问题的材质、例如聚四氟乙烯那样的树脂形成。
97.坐标板35在一面借助槽加工形成有在记录目标位置时作为坐标发挥功能的图案。作为图案，既可以是格状的图案（图7a），也可以是由同心圆状的多个圆及从中心以辐射状延伸的多个线构成的图案（图7b）。进而，也可以将这些各图案分别形成在坐标板35的正面及背面。
98.接着，对使用上述硅单晶制造装置1的温度测量位置的调整方法进行说明。
99.硅单晶的制造方法具有目标位置决定工序、坐标板固定工序、摄影工序、以及调整工序。
100.目标位置决定工序是决定硅熔液表面中的通过测量温度而能够进行有效果的结晶品质控制的目标位置的工序。
101.在目标位置决定工序中，例如测量由二维温度计测量出的硅熔液表面的温度分布。接着，基于测量出的温度分布，确定温度持续为比其他区域低温的常低温区域。接着，在该常低温区域的内侧设定目标位置。此时，也可以在坐标板35记录目标位置t（参照图9）。
102.在坐标板固定工序中，如图8所示，在将坩埚51拆下的状态下，将坐标板35安装在坩埚轴56的上端。接着，通过使坩埚轴56上下运动，使坐标板35移动以使坐标板35的上表面成为与硅熔液表面的高度相同。
103.在摄影工序中，在使用照明装置63确保能够将坐标板35摄影之程度的照度后，由摄影装置5经由取景器17进行辐射温度计3的标记及作为测量对象的坐标板35的摄影。图9是摄影图像的一例。如图9所示，在显示装置13，同时显示辐射温度计3的标记mk及坐标板35（目标位置t）的摄影图像。这样的摄影图像通过由高深度透镜预先调整焦点深度而得到。
104.在调整工序中，操作调整装置4，以使得在摄影图像中，目标位置t与标记mk的中心一致。作业者能够一边确认显示于显示装置13的摄影图像一边操作调整装置4。
105.具体而言，首先将最初与安装板9的下表面接触的止动螺栓10的头部通过将止动螺栓10的螺纹拧入到底板7而降低，预先从安装板9的下表面离开5～10mm左右。接着，通过使双轴测角台8的第一手柄11c旋转，使辐射温度计3以沿着y轴的轴为中心旋转，通过使第二手柄12c旋转，使辐射温度计3以沿着x轴的轴为中心旋转。通过使用双轴测角台8，例如通
过赋予0.1
°
的倾斜，离开6m的测量位置运动约10.5mm（tan0.1
°×
6000mm）。由此，能够严密地调整辐射温度计3的测量位置。
106.在完成向目标位置的调整之后，通过将止动螺栓10的拧入从底板7放松，将止动螺栓10的头部升高，在使其向安装板9的下表面接触后，通过将配置在止动螺栓10与底板7之间的两个六角螺母10c向底板7侧拧入，使止动螺栓10的高度固定。
107.接着，从坩埚轴56将坐标板35拆下，安装坩埚51。此外，从取景器17将相机固定夹具20拆下。
108.根据上述实施方式，通过一边观察由摄影装置5摄影的摄影图像，一边进行借助辐射温度计3进行测量的测量位置的调整，与一边目视取景器17一边进行的调整相比，能够使借助辐射温度计3进行测量的测量位置准确地对准于目标位置。即，在借助目视取景器17进行的目视调整中，根据作业者的感觉及观察的角度而测量位置变动，不稳定，但在借助摄影图像进行的调整中，由于标记mk与坐标板35重叠而被显示，所以能够消除因作业者带来的差别。由此，能够一边在希望的位置进行硅熔液表面的温度测量，一边进行硅单晶的提拉。
109.此外，通过将摄影图像显示在配置于从相机19离开的地方的显示装置13，作业者能够以自由的姿势进行摄影图像的确认。
110.此外，通过做成用在取景器17安装连接轴21、将基座部40的插入部42嵌在该连接轴21并用固定部件23紧固的方法将相机保持部22安装在取景器17的结构，能够容易地对于连接轴21拆装相机保持部22。
111.此外，通过做成使插入部42的圆弧部42a与连接轴21的圆筒部25接触来进行相机19的定位的构造，能够提高相机19的定位的再现性，消除各个作业者的安装误差。
112.此外，由于相机19具有能够调整焦点距离的焦点机构，所以能够将在标记mk及坐标板35这两个部位具有焦点的图像摄影，使显示装置13显示。
113.此外，由于能够一边用显示装置13确认显示有坐标板35等的摄影图像一边进行调整装置4的调整，所以能够进行借助一个作业者的作业。
114.此外，通过作为调整装置4而使用双轴测角台8，能够进行借助辐射温度计3进行测量的测量位置的微调整。进而，由于仅借助由双轴测角台8进行的角度调整来变更辐射温度计3的测量位置，所以在调整后不需要将固定安装板9等的螺栓拧紧，没有测量位置的变动。
115.此外，在双轴测角台8的调整后，通过在使止动螺栓10的头部与安装板9的下表面接触的状态下将止动螺栓10固定，能够抑制因经时变化或从硅单晶制造装置1产生的机械微振动等而双轴测角台8的变动带来的温度测量位置的变动。
116.此外，由于推荐对于测角台进行水平面上的设置，所以通过做成用反射部6使辐射光的光路p向正交方向反射的结构，能够进行使用双轴测角台8的调整作业。此外，通过反射部6与双轴测角台8的组合，能够进行维护台面60上的作业，能够使调整作业变得容易。
117.此外，通过作为反射部6的反射镜而采用铝蒸镀反射镜，与金蒸镀玻璃反射镜相比，能够做成颜色情况适合于相机目视确认的反射镜。
118.此外，通过作为相机19而使用能够用充电式的便携电池进行电源供给的相机，相机19的携带性变高，能够使高处的作业变得容易。
119.此外，在调整工序时，通过使用作为模拟硅熔液表面的假想液面发挥功能的坐标板35，所设定的目标位置的掌握变得容易，能够使使用摄影图像的调整变得容易。
120.［变形例］本发明并不限定于在以上的各实施方式中说明的结构，能够达成本发明的目的的范围内的变形例包含在本发明中。
121.在上述实施方式中，将相机保持部22做成托架部27和相机支承部28为一体的结构，但并不限于此。例如，也可以将托架部27和相机支承部28做成分体构造，将相机支承部28在轴线方向da上滑动自如地安装在托架部27。通过做成这样的构造，能够调整相机19的轴线方向da的位置。
122.此外，在上述实施方式中，做成了在将连接轴21固定在取景器17之后经由连接轴21安装相机保持部22的结构，但并不限于此。例如，也可以将取景器17在轴线方向da上形成得更长，将取景器17和相机保持部22直接固定。
123.此外，作为调整装置4而采用双轴测角台，但只要是能够调整借助辐射温度计3进行测量的测量位置的装置，可以采用其他的结构。例如，作为调整装置4，也可以采用x轴、y轴、θ轴分别独立的构造的台装置。
124.此外，在上述实施方式中，做成了设置反射部6而将辐射光反射的结构，但并不限于此，也可以做成辐射温度计3直接将辐射光取入的结构。例如，通过在双轴测角台上安装l字托架、在该l字托架以光轴沿着铅直方向的方式安装辐射温度计3，能够将反射部6省略。
125.此外，坐标板35不需要做成圆板，也可以为多边形状。设置于辐射温度计3的标记并不限定于黑圆，其形状、颜色可以适当设定。