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硅单晶制造装置的制作方法

2023-02-19 06:23:34 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种硅单晶制造装置,其特征在于,具备:腔室;坩埚,配置在前述腔室内;辐射温度计,具有检测来自测量对象的辐射光的检测元件、将前述辐射光聚光于前述检测元件的透镜、用来目视确认前述测量对象的取景器、以及中心与前述透镜的光轴一致的标记;摄影装置,经由前述取景器将前述标记及前述测量对象摄影;显示装置,显示所摄影的前述标记及前述测量对象;照明装置,将前述测量对象照明以便能够摄影;以及调整装置,在能够调整借助前述辐射温度计进行测量的测量位置的状态下支承前述辐射温度计。2.如权利要求1所述的硅单晶制造装置,其特征在于,前述摄影装置是能够将图像摄影的相机。3.如权利要求2所述的硅单晶制造装置,其特征在于,前述相机具有能够将前述标记和前述测量位置的两者同时摄影的高深度透镜。4.如权利要求3所述的硅单晶制造装置,其特征在于,前述高深度透镜是液体透镜。5.如权利要求2所述的硅单晶制造装置,其特征在于,前述摄影装置具有相机固定夹具,所述相机固定夹具用来将前述相机固定在前述取景器;前述相机固定夹具具有:连接轴,形成为圆筒状,与前述取景器连接;相机保持部,具有能够供前述连接轴插入的插入部,保持前述相机;以及固定部件,在前述连接轴被插入在前述插入部内的状态下将前述相机保持部固定在前述连接轴。6.如权利要求5所述的硅单晶制造装置,其特征在于,前述连接轴具有:连接部,与前述取景器连接;以及圆筒部,与前述连接部成为一体,呈圆筒状,在外周面的与前述连接部相反侧形成有阳螺纹槽,能够穿过内部确认前述取景器;前述插入部是u字槽,所述u字槽其下方被开放且尽头被做成与前述圆筒部的外径的尺寸相同尺寸的内径的圆弧;前述固定部件与前述连接轴的阳螺纹槽螺合,在将前述圆筒部插入在前述插入部内的状态下将前述相机保持部固定。7.如权利要求1所述的硅单晶制造装置,其特征在于,前述调整装置是支承前述辐射温度计的双轴测角台。8.如权利要求7所述的硅单晶制造装置,其特征在于,具有:底板,支承前述双轴测角台;安装板,配置在前述辐射温度计与前述双轴测角台之间;
多个止动螺栓,具有与形成在前述底板的阴螺纹孔螺合的轴部以及与前述安装板的下表面接触的头部;以及螺母,将前述止动螺栓的高度固定。9.如权利要求1所述的硅单晶制造装置,其特征在于,具有将由前述辐射温度计测量的辐射光的光路相对于入射方向向正交方向反射的反射部。10.如权利要求9所述的硅单晶制造装置,其特征在于,前述反射部具有由铝蒸镀反射镜形成的反射镜主体。11.如权利要求1~10中任一项所述的硅单晶制造装置,其特征在于,具备:坩埚轴,能够拆装地安装前述坩埚,使前述坩埚旋转及升降驱动;以及坐标板,能够拆装地安装在前述坩埚轴,被前述摄影装置摄影。

技术总结
本发明提供一种硅单晶制造装置(1),具备:腔室(50);坩埚(51),配置在腔室(50)内;辐射温度计(3),具有检测来自测量对象的辐射光的检测元件(16)、将辐射光聚光于检测元件(16)的透镜(15)、用来目视确认测量对象的取景器(17)、以及中心与透镜(15)的光轴(A)一致的标记(MK);摄影装置(5),经由取景器(17)将标记(MK)及测量对象摄影;显示装置(13),显示所摄影的标记(MK)及测量对象;照明装置(63),将测量对象照明以便能够摄影;以及调整装置(4),在能够调整借助辐射温度计(3)进行测量的测量位置的状态下支承辐射温度计(3)。状态下支承辐射温度计(3)。状态下支承辐射温度计(3)。


技术研发人员:尼崎晋
受保护的技术使用者:胜高股份有限公司
技术研发日:2022.08.09
技术公布日:2023/2/17
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