扁平玻璃和用于制造扁平玻璃的方法与流程

1.本发明涉及一种选择用于封闭装置中的凹空部、凹陷部等的封闭物料的方法，该装置用于制造具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度va的扁平玻璃。
2.本发明还涉及一种熔池，该熔池用于热成型具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度的扁平玻璃。
3.本发明还涉及熔池的制造方法，该熔池用于热成型具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度的扁平玻璃。
4.本发明还涉及具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度的扁平玻璃。
5.本发明还涉及制造扁平玻璃的方法。


背景技术：

6.用于制造扁平玻璃的生产设备已知例如具有钢熔池，其中在钢熔池上布置底砖，该底砖在制造扁平玻璃期间形成锡槽的底部。底砖在此以已知的方式经由螺钉固定在钢熔池上。为了在将底砖旋拧在钢熔池上之后相对于锡槽保护底砖中的用于螺钉的凹陷部，已知用陶瓷封闭物料填充凹陷部。在加热锡槽时烧结陶瓷物料，然后持久地封闭凹陷部并且例如在制造具有约1050℃的加工温度的钠钙-硅酸盐扁平玻璃时保护螺钉。
7.在其他玻璃中、尤其比提及的钠钙-硅酸盐玻璃具有更高的软化温度的玻璃中，发生封闭物料的收缩和软化。
8.在此不利的是，由此颗粒首先从封闭物料中被释放、上升并且污染扁平玻璃带。在继续的过程中，封闭物料溶解，由于位于封闭物料之上的锡槽而上升，并最后损坏扁平玻璃带，这引起生产设备的昂贵且费时的维修。


技术实现要素：

9.因此本发明的目的是提供选择封闭物料的方法和一种封闭物料，该方法能简单和快速地实施，封闭物料也适用于生产具有较高的va、尤其大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的va的玻璃，而没有污染扁平玻璃带并且没有使封闭物料明显收缩。
10.本发明的另一目的是提供对扁平玻璃热成型的熔池和用于制造熔池的方法，熔池和方法实现简单、快速和成本有利地制造熔池，从而能够制造具有少量杂质的扁平玻璃。
11.本发明的另一目的是提供扁平玻璃和制造扁平玻璃的方法，其能够在高va的情况下制造具有少量杂质的扁平玻璃。
12.本发明的另一目的是提供替代的方法、替代的熔池和替代的扁平玻璃。
13.在一种实施方式中，本发明的上述目的利用一种选择用于封闭装置中的凹空部、凹陷部等的封闭物料的方法实现，该装置用于制造具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其
大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度va的扁平玻璃，该方法包括步骤：
–
提供至少一种封闭物料，
–
提供每个封闭物料的至少一个试样体，
–
测量相应的试样体的沿着至少一个空间方向的第一长度，
–
加热相应的试样体，经过预定的时间到预定的温度，
–
测量相应的试样体的沿着该至少一个空间方向的第二长度，
–
求取相应的试样体的第一和第二长度之间的长度差，
–
检查试样体的相应的长度差，是否相对于试样体的第一长度的该相对长度差：ο在1400℃的预定温度下小于1％、优选小于0.5％，和/或ο在1500℃的预定温度下小于2％、优选小于1％，以及如果不是，相应的封闭物料不再继续被考虑，以及
–
选择其试样体具有最小的相对长度差的封闭物料。
14.在另一实施方式中，本发明的上述目的利用一种熔池实现，该熔池用于热成型加工温度大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的扁平玻璃，该熔池包括壁部区域和底部区域，其中在壁部区域和/或底部区域中布置有凹空部、凹陷部等，该凹空部、凹陷部等借助用根据权利要求1-4中任一项所述的方法选择的封闭物料封闭，其中封闭物料与熔池中的金属熔体接触。
15.在另一实施方式中本发明的上述目的利用一种熔池的制造方法实现，该熔池用于热成型加工温度大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的扁平玻璃，该方法包括以下步骤
–
提供用于形成熔池的至少两个壁部和一个底部，
–
在熔池的底部和/或壁部上布置熔池-底砖和/或熔池-壁砖，其中熔池-底砖和/或熔池-壁砖具有用于将其固定在熔池的底部和/或壁部上的凹空部，
–
借助在凹空部中的形状锁合的和/或力锁合的连接元件将熔池-底砖和/或熔池-壁砖固定在底部和/或壁部上，以及
–
用借助根据权利要求1-4中任一项所述的方法选择的封闭物料填充凹空部。
16.在另一实施方式中本发明的上述目的利用一种扁平玻璃实现，该扁平玻璃具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度、尤其在使用根据权利要求5所述的熔池的情况下制造，其中扁平玻璃具有上侧和下侧并且扁平玻璃在下侧具有陶瓷的和/或氧化物的颗粒，该颗粒呈粘附物的形式，每平方米数量为40或更少的尺寸在0.125mm和0.5mm之间、优选在0.1mm和0.5mm之间、尤其在0.075mm和0.5mm之间。
17.在另一实施方式中本发明的上述目的利用一种制造根据权利要求7-13中任一项所述的扁平玻璃的方法实现，所述方法包括以下步骤：
–
提供用于待制造的扁平玻璃的初始组分，
–
提供尤其根据权利要求5所述的熔池，
–
加热提供的初始组分以提供玻璃熔体，
–
在提供的熔池中的金属熔体上以大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度，热成型玻璃熔体，以及
–
冷却经热成型的玻璃熔体以提供扁平玻璃。
18.其中一个与此相关的优点是，由此能以简单和可靠的方式选择封闭物料，该封闭物料能够在即使有杂质的情况下制造具有少量杂质的扁平玻璃。令人惊奇地发现，可降低封闭物料对金属熔体、例如锡熔体以及最终对扁平玻璃的颗粒释放，除了降低软化以外，还减小了封闭塞从底砖的凹陷部中升起并损坏扁平玻璃带的趋势。另一优点是可提供具有少量杂质的扁平玻璃。另一优点是可提供用于热成型具有高va的扁平玻璃的熔池的可靠运行。
19.利用一种实施方式制造的扁平玻璃优选具有在0.09m2和30m2之间、优选在0.09m2和20m2之间、特别优选在0.09m2和10m2之间、尤其在0.1m2和6m2之间、十分特别优选在1m2和5m2之间的尺寸。尤其前述尺寸值反应分离之后的规格。
20.术语“粘附物(anhaftung)”在此应最广泛地理解并且包括：
–
粘附在玻璃表面上或位于玻璃的表面上的颗粒，
–
在玻璃的表面中的下凹部或隆起部，其通过暂时存在的颗粒或气泡产生，以及
–
部分地、但是未完全由玻璃包围的颗粒。
21.尤其术语“粘附物”涉及可由封闭物料释放的颗粒。尤其术语“粘附物”涉及通过再加工不可从玻璃表面去除的颗粒。
22.在此粘附物可包括金属的和/或非金属的颗粒。换句话说呈粘附物形式的颗粒可具有的在玻璃中的最大进入深度基本上相当于颗粒尺寸。
23.尤其工艺中外来的颗粒，例如绒毛、灰尘颗粒、压印等，不是本发明意义中的“粘附物”。
24.可借助下面描述的方法确定根据本发明的实施方式的粘附物的数量和粘附物的尺寸。
25.在暗室中，将可见光在待研究的由制造的扁平玻璃制成的玻璃板中垂直于玻璃板的厚度的延伸方向、优选在直切边处并且平行于通过两个最大维度(长度和宽度)形成的面耦入。通过光在玻璃板处、玻璃板上或部分地在玻璃板中的粘附物上的反射识别出粘附物。为了在灰尘颗粒和玻璃板中的例如尺寸范围＜20μm的粘附物之间进行区分可使用手持式显微镜，例如来自peak公司的手持式显微镜“wide stand microscope”。由此光学识别出的颗粒和粘附物被可见地标记。由此标记的玻璃板在具有ld ec epiplan 50x/0.55hd dic物镜和pi 10x/2目镜的光学显微镜下、例如蔡司公司的axio imager m2m下沿着面法线观察，由此对粘附物进行分类并且测量粘附物的尺寸。粘附物的尺寸在此涉及观察平面中可见的最长维度。在这种测量中有意识地考虑三维构造的粘附物在测量中在显微镜的光学轴线的方向上可以其最大的长度延伸，即沿着观察平面的法线并且在这种情况下获得比粘附物、例如晶体或微晶的当前长度延伸的实际值更小的粘附物测量值。
26.如果粘附物按每m2给出并且玻璃板一侧的表面的尺寸大于或小于1m2，则按比例计算粘附物。例如如果玻璃板大于1m2，则相应地乘以粘附物的数量。玻璃板的面积没有特别受限。
27.关于粘附物尺寸的上限的表述“无粘附物”、即例如表述“没有规格为40μm或更小的粘附物”尤其在权利要求中、优选在说明书中应理解为，通过上述粘附物检定方法至少不能明确地得出上述尺寸的粘附物、尤其甚至不能确定粘附物。关于粘附物尺寸的下限的措辞“无粘附物”、即例如措辞“没有规格为大于10μm的粘附物”尤其在权利要求中、优选在说
明书中应理解为，通过上述粘附物检定方法至少不能明确地得出具有上述最小尺寸或更大的粘附物、尤其甚至不能确定粘附物。
28.由扁平玻璃制造的玻璃板中的术语“表面”涉及彼此平行布置的两个最大面积的相应表面。玻璃板基本为方形的，其中玻璃板在一个维度(厚度)中具有比另两个维度(长度和宽度)小得多的规格。就此而言这种玻璃板具有两个彼此平行布置的大的表面、即上侧和下侧以及环绕的边缘，该边缘连接上侧与下侧。扁平玻璃的“下侧”尤其在权利要求书中、优选在说明书中理解为在扁平玻璃的制造期间暂时与金属熔体接触的表面。扁平玻璃的下侧可按已知的方式、例如在锡熔体作为金属熔体的情况下借助锡侧面探测器检测，该锡侧面探测器可通过短波的uv光识别扁平玻璃或浮法玻璃的锡侧面。因此扁平玻璃的“上侧”尤其在权利要求书中、优选在说明书中理解为在扁平玻璃的制造期间未与金属熔体接触的表面，但是优选与保护气体、例如包括n2和h2组成的混合物的氦氢混合气接触。
29.关于粘附物的措辞“每平方米的数量”应理解为在可预设的表面区域内的粘附物的数量，其中由根据上述方法的长度和宽度形成的粘附物在垂直于两个表面的其中一个的观察方向上被计数。此外尤其在本发明的实施方式中粘附物从玻璃板的表面、即与金属熔体、尤其在制造期间与锡槽接触的下侧根据上述粘附物术语规定被计数。
30.还适用于粘附物的数量的是：例如每平方米表面粘附物的数量在一尺寸区间中、例如在125μm和500μm之间限制在30或更少，玻璃板每平方米表面允许例如25个尺寸为200μm的粘附物和低于125μm的任意数量和尺寸的颗粒以及大于500μm的任意数量的粘附物。相反地，示例性给出的玻璃板不允许具有例如尺寸为200μm的40个粘附物。
31.大的粘附物可简单地借助普通的测量技术、例如直接在制造玻璃板之后和/或在继续加工之前被探测并且玻璃板可以完全或部分地分拣出。借助本发明其中描述的实施方式可同样显著减少较大的粘附物。
32.本发明的其他特征、优点和其他的实施方式在下面描述或由此可公开。
33.根据本发明的有利的改进方案，为了执行受压软化检查，以恒定的速率加热试样体并且在此期间将压力施加到试样体上。这其中的优点是简单的且限定的受压软化检查和不同封闭物料之间的良好比较性。
34.根据本发明的另一有利的改进方案根据din en iso 1893执行受压软化测试并且为相应的试样体确定求得的t2值，其中当在t2值和va之间的差为正、尤其大于50℃、尤其大于100℃时，则仅一种封闭物料继续作为选择被考虑。这其中的优点是由此仅考虑软化趋势小的封闭物料，使得即使较高va的情况下也实现凹陷部的封闭物料的更高的可靠性。
35.根据本发明的另一有利改进方案，相应的试样体通过加热成型成试样体的封闭物料提供，其中经过预定的时间加热到预定的温度，尤其其中预定的温度低于va，尤其其中预定的温度为1000℃并且预定时间为4小时。由此能够以简单且可靠的方式以限定以及相当的方式提供相应封闭物料的试样体。
36.根据扁平玻璃的另一有利的改进方案，扁平玻璃在下侧具有尺寸小于0.5mm、尤其小于0.25mm的粘附物、优选每平方米没有尺寸大于0.5mm的粘附物。其中的优点是，提供具有少量或没有较大粘附物的纯玻璃。
37.根据扁平玻璃的另一有利的改进方案，扁平玻璃在下侧每平方米具有的尺寸在0.125mm和0.5mm之间、尤其在0.1mm和0.5mm之间、优选在0.075mm和0.5mm之间的粘附物每
平方米少于35个、尤其少于30个、优选少于20个、尤其少于10个。这其中的优点是仅有少量的粘附物，使得由此提供高纯度且高va的特种玻璃，由此减少在稍后继续使用扁平玻璃时的清洁工作。
38.根据扁平玻璃的另一有利的改进方案，扁平玻璃具有的最大厚度为8mm、尤其5mm，最小厚度为0.3mm、尤其0.5mm、优选0.7mm、尤其1mm、优选3mm。这其中的优点是提供高va和高品质的薄的特种扁平玻璃。
39.根据扁平玻璃的另一有利的改进方案，扁平玻璃包含至少14重量％、尤其至少18重量％的al2o3以及至少1重量％、尤其3重量％的li2o。这其中的优点是提供las玻璃类型的特种扁平玻璃。
40.根据扁平玻璃的另一有利的改进方案，扁平玻璃包含低于10重量％、尤其最低1重量％并且最高7重量％的al2o3以及至少1重量％、尤其最低5重量％并且最高15重量％的三氧化硼b2o3。这其中的优点是，提供硼硅酸盐玻璃类型的特殊扁平玻璃。
41.根据扁平玻璃的另一有利的改进方案，粘附物至少部分地、尤其完全地不含锆、尤其不含氧化锆和/或不含硅酸锆和/或不含钙、尤其不含氧化钙。由此例如尽管使用铝酸钙封闭物料或氧化锆或硅酸锆基的封闭物料，但是提供的扁平玻璃没有或具有少量的来自振捣物料或封闭物料的颗粒杂质或粘附物。
42.根据制造扁平玻璃的方法的另一有利的改进方案，熔池的封闭物料包括锆、尤其氧化锆和/或硅酸锆和/或钙、尤其氧化钙，其中在制造的扁平玻璃具有粘附物，粘附物至少部分地、尤其完全地不含锆、尤其不含氧化锆和/或不含硅酸锆和/或不含钙、尤其不含氧化钙。
43.本发明的其他重要的特征和优点由从属权利要求、附图以及根据附图的对应附图说明中得出。
44.应理解，前述的以及后面将要解释的特征不仅可以分别给出的组合、而且也可以其他组合或单独的方式使用，不会离开本发明的范围。
45.本发明的优选实施例和实施方式在附图中示出并且在下面描述中详细解释，其中相同的附图标记涉及相同的或类似的或功能相同的构件或元件。
附图说明
46.在此示出：
47.图1示出了根据本发明的一种实施方式的用于选择封闭物料的方法的步骤；
48.图2示出了制造用于热成型扁平玻璃的熔池的方法的步骤；
49.图3示出了制造扁平玻璃的方法的步骤；
50.图4示出了关于不同的封闭物料与温度相关的软化趋势的概览；
51.图5示出了关于不同的封闭物料与温度相关的收缩的概览；
52.图6示出了根据本发明的一种实施方式的熔池的横截面；以及
53.图7示出了根据本发明的一种实施方式的形成熔池的底部区域的封闭元件的横截面。
具体实施方式
54.图1示意性地示出了根据本发明的一种实施方式的用于选择封闭物料的方法的步骤。
55.图1详细地示出了选择用于封闭的装置中的凹空部、凹陷部等的封闭物料的方法的步骤，该装置用于制造具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度va的扁平玻璃。
56.在此该方法包括以下步骤：
–
s1提供至少一种封闭物料，
–
s2提供每个封闭物料的至少一个试样体，
–
s3测量相应的试样体的沿着至少一个空间方向的第一长度，
–
s4加热相应的试样体，经过预定的时间到预定的温度，
–
s5测量相应的试样体的沿着该至少一个空间方向的第二长度，
–
s6求取相应的试样体的第一和第二长度之间的长度差，
–
s7检查试样体的相应的长度差，是否相对于试样体的第一长度的相对长度差：ο在1400℃的预定温度下小于1％、优选小于0.5％，和/或ο在1500℃的预定温度下小于2％、优选小于1％，以及如果不是，该相应的封闭物料不再继续被考虑，以及
–
选择s8试样体具有最小的相对长度差的封闭物料。
57.图2示意性地示出了用于对扁平玻璃热成型的熔池的制造方法的步骤。
58.图2详细地示出了熔池的制造方法的步骤，该熔池用于热成型加工温度大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的扁平玻璃。
59.该方法在此包括以下步骤：
–
t1提供用于形成熔池的至少两个壁和一个底部，
–
t2布置熔池-底砖和/或熔池-壁砖在熔池的底部和/或壁上，其中熔炉-底砖和/或熔池-壁砖具有用于将其固定在熔池的底部和/或壁部上的凹空部，
–
t3固定熔炉-底砖和/或熔池-壁砖在底部和/或壁部上，借助在凹空部中的形状锁合的和/或力锁合的连接元件，以及
–
t4填充凹空部，利用借助根据权利要求1-4中任一项所述的方法选择的封闭物料。
60.图3示意性地示出了扁平玻璃的制造方法的步骤。
61.图3具体地示出了制造根据权利要求7-13中任一项所述的扁平玻璃的方法的步骤。
62.该方法在此包括以下步骤：
–
w1提供用于待制造的扁平玻璃的初始组分，
–
w2提供尤其根据权利要求5所述的熔池，
–
w3加热提供的初始组分以提供玻璃熔体，
–
w4在提供的熔池中的金属熔体上以大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度热成型玻璃熔体，以及
–
w5冷却经热成型的玻璃熔体以提供扁平玻璃。
63.图4示出了关于各种封闭物料与温度相关的软化趋势的概览并且图5示出了关于各种封闭物料与温度相关的收缩的概览。
64.在图4中示出了用不同的已知封闭物料或振捣物料的受压软化试验的结果。具有不同水含量的三种已知的振捣物料sm1-sm3已经经受不同的燃烧程序。图5示出了关于各种封闭物料与温度相关的收缩的概览。除了已经在图4中示出的振捣物料sm1-sm3以外，在图5中额外地示出了另一种已知的振捣物料sm4。
65.振捣物料sm1-sm4在此具有以重量％示出的以下基本组成：-15
–
25％
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al2o
3-0
–
2％
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fe2o
3-35
–
50％
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sio
2-0
–
2％
ꢀꢀꢀꢀꢀ
tio
2-0
–
3％
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cao-0
–
1.5％
ꢀꢀꢀ
na2o-0
–
1.5％
ꢀꢀꢀ
k2o-30
–
40％
ꢀꢀꢀ
zro2。
66.图4和图5中示出的振捣物料sm1、sm2、sm3和sm4在使用的燃烧程序方面不同：
–
燃烧程序1000℃持续4小时：sm1a、sm2b、sm4a和sm3d，
–
燃烧程序1200℃持续4小时：sm1b、sm2a、sm2c、sm3a、sm3c、sm4b，和
–
燃烧程序1200℃持续12小时：sm3b。
67.封闭物料sm1-sm3的软化趋势已经借助受压软化测试得出。受压软化根据din en iso 1893进行并且表示成型的耐火的陶瓷成品在恒定的压力载荷和升高温度下变形性能的量度。在测试期间以恒定的加热速率(5k/min)加热陶瓷的测试体，而在测试体上作用压力载荷(0.2mpa)。在加热期间记录测试体的长度变化。
68.为了测试振捣物料sm1-sm3的软化趋势，首先由振捣物料sm1-sm3成型试样体，在燃烧(例如1000℃下4小时，参见图4，燃烧程序列)之后由此制造用于测量受压软化的试样体。
69.对于在本发明的实施方式中尤其在高温浮槽中使用的底砖振捣物料可以这种方式研究与温度相关的变形趋势。关于浮槽的“高温”应理解为大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的玻璃进入温度。
70.在测量时在测试体开始膨胀之后达到最大的伸展，自该伸展开始测试体通过施加的载荷被压缩。压缩开始时的温度被记录(参见图4，“开始”列)。在关于最大伸展的试样长度减小0.5％、1％、2％并且必要时减小进一步的百分比数值时得到其他的表征温度(参见图4、t
0.5
、t1、t2、...等列)。表征温度tn越高，所研究的陶瓷相对于低温下的变形越稳定。合适的振捣物料sm1-sm3在此尤其是例如用于封闭在局部出现温度时不明显地软化的陶瓷物料的固定孔的这种振捣物料。
71.使用根据din en iso 1893得到的值t2作为选择标准。t2值应高于相关玻璃的加工温度，优选地t2和va之间的差应至少为50℃、更好地至少100℃。
72.通过确定升高温温下的烧结收缩判断通过对考虑的封闭物料或振捣物料sm1-sm4再烧结的收缩。为此首先由振捣物料sm1-sm4成型试样体，在燃烧(例如1000℃下4小时，图
4，“燃烧程序”列)之后由此制造用于测量再烧结的试样体。由温度处理(例如1300℃、1400℃和1500℃下24小时)之前和之后的试样件长度评估振捣物料sm1-sm4的再烧结。在1400℃下再收缩应低于1％、优选＜0.5％。在1500℃下再收缩应低于2％、优选＜1％。
73.由图4和图5例如可得出振捣物料sm2是合适的振捣物料。
74.图6示出了根据本发明的一种实施方式的熔池的横截面并且图7示出了根据本发明的一种实施方式的用于形成熔池的底部区域的封闭元件的横截面。
75.具体地示出了用于热成型扁平玻璃的熔池1的横截面。熔池1具有至少两个壁部2a、2b以及底部3。在熔池1的底部3上布置有多个底砖10，在附图中在此仅示例性地示出两个，并且多个底砖形成熔池1的底部区域。与壁部2a、2b相邻的壁砖(未示出)比底砖10具有更大的高度，以避免位于熔池1中的金属熔体与例如由钢制成的壁部2a、2b接触并且形成壁部区域。底砖10具有一个或多个开口11。借助开口11可引入固定元件13，例如螺钉、螺栓等，利用螺钉、螺栓等将底砖10因此固定在熔池1的底部3上。为了填充相应的开口11，于是将振捣物料12填入开口11中，然后在用于具有大于1100℃、尤其大于1200℃、尤其大于1250℃、尤其大于1300℃的加工温度的扁平玻璃的熔池1的进行的运转中烧结振捣物料并且在制造扁平玻璃期间保护固定元件13以防金属熔体。
76.综上所述本发明的至少一种实施方式提供至少一种以下特征或实现至少一种以下的优点：
–
使用陶瓷物料封闭用于制造扁平玻璃的浮槽的底砖中的固定孔，其中先前在1000℃下燃烧4小时的物料试样在1400℃下在24小时的再收缩低于1％、优选低于0.5％。
–
使用陶瓷物料封闭用于制造扁平玻璃的浮槽的底砖中的固定孔，其中先前在1000℃下燃烧4小时的物料试样在1500℃下在24小时的再收缩低于2％、优选低于1％。
–
陶瓷物料在先前在1000℃下燃烧4小时的物料试样上的受压软化测试中具有t2值，该值大于加工温度va、尤其大于va 50℃、优选大于va 100℃。
–
具有至少1250℃的va的扁平玻璃或浮法玻璃具有尺寸小于0.5mm、尤其小于0.25mm、优选每平方米没有尺寸大于0.5mm的粘附物。
–
具有至少1250℃的va的扁平玻璃或浮法玻璃在每平米具有尺寸小于0.2mm、尤其小于0.15mm、优选小于0.125mm的少于40个粘附物。
–
扁平玻璃的最大厚度为8mm、尤其5mm并且最小厚度0.3mm、尤其0.5mm、优选0.7mm、尤其1mm、优选3mm。
–
可靠地并进而成本有利地制造具有高va、尤其具有大于1250℃的va的扁平玻璃。
–
扁平玻璃尤其在下侧上有少量杂质或缺陷。
–
降低在制造期间封闭物料或振捣物料向扁平玻璃上的颗粒释放。
77.虽然根据优选的实施例描述本发明，但是本发明不限于此，而是可以多种方式改型。附图标记列表1
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熔池2a、2b
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壁部3
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底部10
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底砖
11
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开口12
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振捣物料13
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固定元件sm1-sm4
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振捣物料s1-s8
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方法的步骤t1-t4
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方法的步骤w1-w5
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方法的步骤