技术特征：
1.一种管路装置，其特征在于，包括：一清洁气体管路和至少两个工艺气体管路，每个所述工艺气体管路与所述清洁气体管路之间均通过一特斯拉阀连通，所述特斯拉阀的正向进气端与所述清洁气体管路连接，所述特斯拉阀的正向出气端与所述工艺气体管路连接。2.如权利要求1所述的管路装置，其特征在于，所述管路装置还包括第一管路和第二管路，所述清洁气体管路与所述特斯拉阀之间均通过所述第一管路连通，每个所述工艺气体管路与所述特斯拉阀之间均通过所述第二管路连通。3.如权利要求2所述的管路装置，其特征在于，所述第一管路与所述清洁气体管路垂直，所述第二管路与所述工艺气体管路垂直。4.如权利要求1所述的管路装置，其特征在于，所述特斯拉阀包括至少两个依次串联的特斯拉阀单元。5.如权利要求4所述的管路装置，其特征在于，两个所述特斯拉阀单元为一组，所述特斯拉阀包括4组～6组所述特斯拉阀单元。6.如权利要求4所述的管路装置，其特征在于，所述特斯拉阀单元的长度范围为5厘米～10厘米。7.如权利要求1所述的管路装置，其特征在于，所述清洁气体管路与所述特斯拉阀通过螺丝固定相连，所述特斯拉阀与所述工艺气体管路通过螺丝固定相连。8.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括如权利要求1～7中任一项所述的管路装置。9.如权利要求8所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述半导体工艺设备还包括等离子体发生器和反应腔室，所述等离子体发生器向所述清洁气体管路输出离子化后的清洁气体，所述工艺气体管路的第一出气端与所述特斯拉阀的正向出气端连通，所述工艺气体管路的第二出气端与所述反应腔室连通。10.如权利要求8所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述半导体工艺设备包括等离子体增强化学气相沉积设备。
技术总结
本实用新型提供了一种管路装置及半导体工艺设备，所述管路装置包括：一清洁气体管路和至少两个工艺气体管路，每个所述工艺气体管路与所述清洁气体管路之间均通过一特斯拉阀连通，所述特斯拉阀的正向进气端与所述清洁气体管路连接，所述特斯拉阀的正向出气端与所述工艺气体管路连接。本实用新型的技术方案能够有效减少工艺气体倒灌至清洁气体管路中，从而减少颗粒物在等离子体发生器的出口端累积，进而能够有效减少颗粒物在工艺过程中掉落在晶圆表面而影响产品良率，且能够避免频繁更换等离子体发生器而导致成本升高。离子体发生器而导致成本升高。离子体发生器而导致成本升高。
技术研发人员：周智东 毛晨运
受保护的技术使用者：上海华力微电子有限公司
技术研发日：2022.10.31
技术公布日：2023/2/10
再多了解一些
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