一种陶瓷镀层沉积装置的制作方法

技术特征：
1.一种陶瓷镀层沉积装置，包括真空罐总成（1）和真空泵组件（2），所述真空罐总成（1）和所述真空泵组件（2）通过管道连接，所述真空罐总成（1）的侧壁上安装有电极（5），其特征在于：所述真空罐总成（1）内部的一端位置处转动连接有支撑单元（3），所述支撑单元（3）上设置有夹持单元（4），所述夹持单元（4）通过第一限位组件与所述支撑单元（3）固定连接，所述真空罐总成（1）的一侧固定连接有驱动组件，所述驱动组件用于驱动所述夹持单元（4）和所述支撑单元（3）在所述真空罐总成（1）内转动；所述驱动组件与所述夹持单元（4）通过第二限位组件固定连接，所述夹持单元（4）用于夹持密封支架，并通过所述电极（5）对所述密封支架表面进行陶瓷镀层沉积。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷镀层沉积装置，其特征在于：所述支撑单元（3）包括设置于所述真空罐总成（1）内壁周圈方向上的多个滚轮（8），多个所述滚轮（8）的一侧均通过转动轴转动连接有转动板，多个所述转动板的一侧均固定连接有支撑杆（9），多个所述支撑杆（9）的一端固定连接有同一个固定框（10），多个所述支撑杆（9）之间均固定连接有连接杆（11），所述连接杆（11）靠近所述固定框（10）的一侧呈凹弧形结构，所述真空罐总成（1）的一端位置处的内壁上开设有转动槽，所述滚轮（8）的侧壁与所述转动槽的内壁相贴合，所述第一限位组件与所述固定框（10）相连接，所述夹持单元（4）与所述固定框（10）相连接。3.根据权利要求2所述的一种陶瓷镀层沉积装置，其特征在于：所述夹持单元（4）包括设置于所述固定框（10）一侧的固定板（17），所述固定板（17）的一侧固定连接有一对导向杆（20），所述固定框（10）的一侧开设有一对导向槽（16），一对所述导向杆（20）分别滑动连接在一对所述导向槽（16）内，所述固定板（17）的另一侧固定连接有一对把手（19），所述固定板（17）上通过轴承转动连接有螺纹杆（22），所述螺纹杆（22）上设置有多个夹紧组件，所述固定板（17）的一侧固定连接有一对导向柱（23），所述夹紧组件包括固定连接在一对所述导向柱（23）上的固定夹板（24）和滑动连接在一对所述导向柱（23）上的移动夹板（25），所述移动夹板（25）上固定连接有螺纹套管（26），所述螺纹套管（26）螺纹连接在所述螺纹杆（22）上，所述固定夹板（24）上开设有穿孔，所述螺纹杆（22）的一端贯穿所述穿孔，所述固定夹板（24）的两侧和所述移动夹板（25）的两侧均转动连接有转动杆（27），同一侧的一对所述转动杆（27）上转动连接有同一个夹紧板（28），一对所述导向柱（23）的一端固定连接有同一个连接板（29），所述螺纹杆（22）的一端固定连接有转盘（18），所述第一限位组件与所述固定板（17）相连接，所述第二限位组件与所述连接板（29）和所述驱动组件相连接。4.根据权利要求3所述的一种陶瓷镀层沉积装置，其特征在于：所述第一限位组件包括固定连接于所述固定框（10）上的下滑管（12），所述下滑管（12）的底端滑动连接有限位销（13），所述固定板（17）上开设有插孔（21），所述限位销（13）的一端贯穿所述插孔（21），所述限位销（13）上固定套接有拨动钩（14），所述拨动钩（14）与所述下滑管（12）之间设置有限位弹簧（15），所述限位弹簧（15）的两端分别与所述拨动钩（14）和所述下滑管（12）固定连接。5.根据权利要求3所述的一种陶瓷镀层沉积装置，其特征在于：所述驱动组件包括固定连接于所述真空罐总成（1）一端的驱动电机（6），所述驱动电机（6）的输出端固定连接有旋转轴，所述旋转轴的一端贯穿所述真空罐总成（1）并固定连接有限位块（7），所述第二限位组件包括固定连接于所述连接板（29）一侧的一对限位杆（30），所述限位块（7）的一侧开设有一对限位孔（31），一对所述限位杆（30）的一端分别贯穿一对所述限位孔（31），所述限位孔（31）和所述限位杆（30）均为相适配的方形结构，所述限位块（7）的一侧开设有导向孔
（32），所述导向孔（32）位于所述限位孔（31）的一端位置处，且同轴设置，所述导向孔（32）为锥形结构。6.根据权利要求1所述的一种陶瓷镀层沉积装置，其特征在于：所述真空罐总成（1）包括罐体，所述罐体的一侧转动连接有罐盖，所述罐盖的一端设置有观察窗，所述罐体与所述罐盖之间设置有固定组件，所述固定组件包括固定连接于所述真空罐总成（1）周圈侧壁上的多个均匀分布的u形板，所述u形板上转动连接有螺纹柱，所述螺纹柱上螺纹连接有压紧盘，所述罐盖周圈侧壁上固定连接有多个均匀分布的卡板，所述卡板上开设有卡槽，所述螺纹柱的一端贯穿所述卡槽，并通过所述压紧盘压紧限位。7.根据权利要求6所述的一种陶瓷镀层沉积装置，其特征在于：所述真空罐总成（1）的底部设置有支架组件，所述支架组件包括四个立柱，四个立柱的顶部固定连接有放置板，所述罐体固定连接在所述放置板上，四个所述立柱的底端均固定连接有底座，所述底座为橡胶材质，所述真空泵组件（2）设置于所述支架组件的一侧。8.根据权利要求6所述的一种陶瓷镀层沉积装置，其特征在于：所述真空泵组件（2）包括真空泵和真空机，所述真空泵驱动所述真空机运转，所述真空机进气端上固定连接有连接管，所述连接管的一端固定连接在所述罐体的侧壁上，且与所述罐体相连通。

技术总结
本发明公开了一种陶瓷镀层沉积装置，涉及陶瓷镀层沉积设备技术领域，包括真空罐总成和真空泵组件，所述真空罐总成和所述真空泵组件通过管道连接，所述真空罐总成的侧壁上安装有电极，所述真空罐总成内部的一端位置处转动连接有支撑单元，所述支撑单元上设置有夹持单元。本发明结构合理，通过设置夹持单元、支撑单元和驱动单元，实现对多个密封支架进行夹持，并在真空罐内转动，提高了密封支架陶瓷镀层沉淀时的均匀性，避免了存在陶瓷镀层缺少，而影响密封支架的耐磨能力，并且方便密封支架从真空罐内取出，无需操作人员手直接接触密封支架，避免密封支架上的高温对操作人员手造成烫伤。伤。伤。


技术研发人员：顾运松 顾家
受保护的技术使用者：苏州片山机械科技有限公司
技术研发日：2022.09.21
技术公布日：2022/10/25