一种反应腔装置及微波等离子体气相沉积系统的制作方法

技术特征：
1.一种反应腔装置，其特征在于，包括反应腔壳体，所述反应腔壳体一端设置有调节组件另一端设置有封堵组件；或者，所述反应腔壳体的两端均设置有调节组件；所述调节组件包括滑块，所述滑块滑动插接在所述反应腔壳体内，并能够被固定于预设位置；所述反应腔壳体内能够形成密闭腔体。2.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，所述调节组件还包括套筒、端盖和内筒；所述套筒套设在所述滑块上，所述套筒一端与所述反应腔壳体端部连接，另一端与所述端盖连接；所述内筒一端与所述端盖密封连接，另一端与所述滑块密封连接；所述内筒轴向可伸缩。3.根据权利要求2所述的反应腔装置，其特征在于，所述调节组件还包括外筒，所述外筒设置在所述套筒内，并套设在所述内筒上；所述外筒一端与所述端盖密封连接，另一端与所述反应腔壳体端部连接。4.根据权利要求2所述的反应腔装置，其特征在于，所述内筒为轴向可压缩的弹性筒。5.根据权利要求4所述的反应腔装置，其特征在于，所述反应腔壳体的两端均设置有所述调节组件；所述反应腔装置还包括拉动组件，所述拉动组件包括卷筒及两根拉绳，所述卷筒分别通过两个拉绳与两个所述滑块连接，所述卷筒收绳时，所述滑块能够相互远离。6.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，至少一个所述调节组件处设置有进气组件；所述进气组件包括分气盘及进气管，所述分气盘与对应所述调节组件的滑块外端面连接，所述分气盘上设置有多个气孔，对应的滑块上设置有多个气道，所述多个气道与所述反应腔壳体内腔连通，并分别与所述多个气孔连通；所述进气管可滑动地穿过对应所述调节组件端盖中部，所述进气管的内端设置有分气罩，所述分气罩罩设在所述分气盘上形成气体缓存空间；所述进气管与所述气体缓存空间连通。7.根据权利要求6所述的反应腔装置，其特征在于，所述分气罩中部设置有通孔，所述通孔靠近所述分气盘的一端设置有倒角，另一端与所述进气管连通；所述分气盘的中部设置有锥形凸部，所述锥形凸部的端部位于所述通孔内，所述锥形凸部的锥形面与所述倒角的内面间隙设置。8.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，所述滑块的内端面上设置有安装筒，所述安装筒一端密封设置有安装板，另一端与所述滑块密封连接；所述安装板的外端面用于固定待镀膜杆件；所述安装筒内还设置有进水管，所述进水管一端与所述滑块的内端面连接，另一端与所述安装板间隙设置；所述进水管的外圆周面与所述安装筒的内圆周面之间形成水流夹层；所述滑块上还设置有进水通道及出水通道，所述进水通道与所述进水管连通，所述出水通道与所述水流夹层连通。9.根据权利要求1所述的反应腔装置，其特征在于，所述封堵组件包括拆卸杆；所述拆
卸杆与所述反应腔壳体可拆卸连接，所述拆卸杆的内端端面设置有固定筒，所述固定筒用于固定待镀膜杆件。10.一种微波等离子体气相沉积系统，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的反应腔装置。

技术总结
本实用新型提供了一种反应腔装置及微波等离子体气相沉积系统，属于微波等离子体领域。上述反应腔装置包括反应腔壳体，反应腔壳体一端设置有调节组件另一端设置有封堵组件；或者，反应腔壳体的两端均设置有调节组件。调节组件包括滑块，滑块滑动插接在反应腔壳体内，并能够被固定于预设位置；反应腔壳体内能够形成密闭腔体。使用时，先将封堵组件打开，并将待镀膜杆件放入到反应腔壳体内。然后通过适当移动调节组件的滑块来调整反应腔壳体内的长度空间，从而使得反应腔壳体内部空间与待镀膜杆件的长度相适应。上述调节组件的设置，使得反应腔装置能够在一定范围内适应不同长度的待镀膜杆件，提高了其使用范围。提高了其使用范围。提高了其使用范围。


技术研发人员：黄春林 陈森林 李俊宏 季宇
受保护的技术使用者：成都纽曼和瑞微波技术有限公司
技术研发日：2022.04.12
技术公布日：2022/8/26