一种双向运动式快速作业的主轴轴承打磨设备的制作方法

1.本发明涉及轴承打磨技术领域，具体地说，涉及一种双向运动式快速作业的主轴轴承打磨设备。


背景技术：

2.主轴轴承尝尝用在精密机床及类似设备上，它对保证精密机床的工作精度和使用性能。
3.在加工时需要对轴承的表面进行打磨，打磨过程中肯定会产生粉末状的碎屑，现有技术中大部分都是对轴承表面附着的碎屑进行清理，而打磨盘都是以更换的方式解决碎屑带来的影响，可是打磨设备为了提高作业速度，通常都是一轮对多个轴承进行打磨，可是打磨盘的底部的打磨面上设置有很多纹路的，这样碎屑就会停留在纹路之间的缝隙内，随着多次打磨缝隙被填满，这样打磨效果就会变差，在快速作业的环境下，如果经常对打磨盘进行更换则会影响快速作业的效率。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供一种双向运动式快速作业的主轴轴承打磨设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，提供了一种双向运动式快速作业的主轴轴承打磨设备，其包括双向驱动机构和打磨机构，所述双向驱动机构包括双向驱动组件和设置在双向驱动组件内的平台，所述平台上设置有一列轴承限制件，所述轴承限制件用于对其外部放置的轴承本体进行限制，所述双向驱动组件包括外轨和内轨，所述内轨设置在外轨内，所述外轨和内轨之间形成运动通道，所述外轨和内轨的一侧高度低于另一侧，在高的一侧形成高通道区，底的一侧形成底通道区，其中：
6.所述打磨机构包括“u”形结的构支架，“u”形结的支架在其两侧形成方向朝向下方的打磨端和连接端，打磨端的底部设置有打磨盘，连接端的底部滑动连接有滑柱，所述连接端外设置有适应盘；
7.所述平台顶部对应底通道区的一侧开设有清理腔，所述清理腔内设置清理毛刷，所述滑柱在运动通道内移动，高通道区移动至底通道区支架下移，使打磨盘进入清理腔受清理毛刷进行清理，低通道区移动至高通道区，支架上移，使打磨盘对轴承本体进行打磨；
8.所述滑柱外设置有保持盘，所述保持盘上设置有突柱，运动通道内对应保持盘和突柱移动的路径上设置保持槽，所述保持盘和突柱在保持槽内移动，受其限制带动滑柱随着弧形的运动通道进行适应性转向。
9.作为本技术方案的进一步改进，所述运动通道内设置多组打磨机构。
10.作为本技术方案的进一步改进，所述滑柱底部设置有输出组件，所述输出组件包括齿轮架，所述齿轮架与滑柱固定连接，所述齿轮架内转动连接有输出齿轮，所述齿轮架的底部安装有输出电机，所述输出电机的输出端与输出齿轮固定连接，其中：
11.所述内轨的底部设置有驱动板，所述驱动板外壁上开设有多个齿槽，所述滑柱穿过运动通道使输出齿轮与齿槽啮合。
12.作为本技术方案的进一步改进，所述驱动板的底部设置有底板，所述底板和驱动板之间通过设置的支撑块固定连接，所述驱动板与内轨固定连接，所述底板外设置有连接架，所述连接架与外轨固定连接。
13.作为本技术方案的进一步改进，所述适应盘的底部设置有多个滚珠，所述滚珠与适应盘转动连接。
14.作为本技术方案的进一步改进，所述轴承限制件包括底盘，所述底盘与平台固定连接，所述底盘的顶部设置有内盘，所述内盘外设置有外圈，所述外圈和内盘在底盘的顶部形成限制槽。
15.作为本技术方案的进一步改进，所述外圈内壁上设置有多个齿块，所述齿块与轴承本体的外齿列和。
16.作为本技术方案的进一步改进，所述清理腔包括两个变向槽，两个所述变向槽设置在平台顶部的两侧，两个变向槽之间开设有活动槽，所述活动槽底部设置有清理槽，所述清理毛刷设置在清理槽的底部平面上。
17.与现有技术相比，本发明的有益效果：
18.1、该双向运动式快速作业的主轴轴承打磨设备中，底通道区滑柱移动的方向与高通道区方向相反，从而通过双向运动的方式减少滑柱的移动长度，降低滑柱横移占用的空间，而且不仅仅如此，进入底通道区后打磨盘就能够利用清理腔内设置的清理毛刷对其打磨面进行清理，而且清理后，滑柱移动到另一侧的曲面，此时保持盘受力就是将支架抬升到高通道区，完成下一轮的打磨，而此时的打磨面已经被清理，这样循环往复的操作就能够提高快速作业的效率。
19.2、该双向运动式快速作业的主轴轴承打磨设备中，外圈和内盘在底盘的顶部形成限制槽，这样将轴承本体放置在限制槽内，并且外圈内壁上设置有多个与轴承本体外齿啮合的齿块，以对轴承本体进行限位，保证其在打磨过程中的稳定性。
附图说明
20.图1为本发明的整体结构示意图；
21.图2为本发明的整体结构拆分图；
22.图3为本发明的双向驱动组件结构示意图；
23.图4为本发明的平台结构示意图；
24.图5为本发明的轴承限制件结构示意图；
25.图6为本发明的打磨机构结构示意图其一；
26.图7为本发明的打磨机构结构示意图其二；
27.图8为本发明的支架和滑柱侧面结构示意图；
28.图9为本发明的平台内部结构剖视图；
29.图10为本发明的整体侧面结构示意图。
30.图中各个标号意义为：
31.100、双向驱动机构；
32.110、双向驱动组件；111、外轨；112、内轨；113、驱动板；114、底板；1141、支撑块；1142、连接架；115、保持槽；
33.120、平台；121、清理腔；121a、变向槽；121b、清理槽；121c、活动槽；122、轴承限制件；1221、底盘；1222、外圈；1223、内盘；122a、限制槽；123、轴承本体；124、清理毛刷；
34.200、打磨机构；
35.210、支架；211、适应盘；2111、滚珠；212、限制板；
36.220、滑柱；221、保持盘；2211、突柱；222、导槽；
37.230、打磨盘；
38.240、输出组件；241、齿轮架；242、输出齿轮；243、输出电机。
具体实施方式
39.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
40.第一实施例，请参阅图1所示，本实施例目的在于，提供了一种双向运动式快速作业的主轴轴承打磨设备，其包括双向驱动机构100和打磨机构200，双向驱动机构100包括双向驱动组件110和设置在双向驱动组件110内的平台120，请参阅图4所示，平台120上设置有一列轴承限制件122，轴承限制件122用于对其外部放置的轴承本体123进行限制，然后配合打磨机构200对轴承本体123朝向上方的一面进行打磨，具体的：
41.请参阅图3所示，双向驱动组件110包括外轨111和内轨112，内轨112设置在外轨111内，从而在外轨111和内轨112之间形成运动通道；
42.请参阅图6所示，打磨机构200包括支架210，支架210为“u”形结构，这样能够在支架210两侧形成方向均朝向下方的打磨端和连接端，打磨端的底部设置有打磨盘230，打磨盘230由安装在支架210内的驱动电机进行驱动，然后完成对轴承本体123的打磨，连接端的底部滑动连接有滑柱220，滑柱220在工作时位于运动通道内，另外连接端外设置有适应盘211，适应盘211受外轨111和内轨112的顶面进行支撑。
43.通过上述结构的工作，本实施例主要是解决很多打磨设备只是对轴承上的碎屑进行清理，但是打磨盘的底部的打磨面上设置有很多纹路的，这样碎屑就会停留在纹路之间的缝隙内，随着多次打磨缝隙被填满，这样打磨效果就会变差，在快速作业的环境下，如果经常对打磨盘230进行更换则会影响快速作业的效率，为此，本实施例在上述结构的基础上，将外轨111和内轨112的一侧高度降低，从而形成高通道区和底通道区，高通道曲和底通道区的顶面均为水平状态，二者之间通过弧形的曲面进行过渡，而且为了实现对打磨盘230的清理，平台120顶部对应底通道区的一侧开设有清理腔121，清理腔121内设置清理毛刷124，工作时，对滑柱220进行驱动，使其在运动通道进行运动，在高通道区时，打磨盘230的打磨面与轴承本体123朝上的一面保持齐平，这样在高通道区移动时能够利用打磨盘230的打磨面对轴承本体123朝上的一面进行打磨；
44.滑柱220继续移动会进入到弧形的曲面，这时适应盘211受到曲面的支撑高度下降，支架210会沿滑柱220下移，而且为了保证支架210能够随着弧形的运动通道进行转向，
滑柱220外设置有保持盘221，请参阅图7和图10所示，保持盘221上设置有突柱2211，运动通道内对应保持盘221和突柱2211移动的路径上设置保持槽115，这样受到保持槽115的限制，突柱2211配合保持盘221就能够带动滑柱220随着弧形的运动通道进行适应性转向，请参阅图8所示，支架210内设置有多个限制板212，滑柱220外对应限制板212的位置开设有导槽222，限制板212在导槽222内滑动，并在滑柱220转向时通过限制板212与导槽222啮合带动支架210转向，保证打磨盘230在曲面阶段下降的过程中能够进入到清理腔121内；
45.接着滑柱220就移动到了底通道区，在底通道区滑柱220移动的方向与高通道区方向相反，从而通过双向运动的方式减少滑柱220的移动长度，降低滑柱220横移占用的空间，而且不仅仅如此，进入底通道区后打磨盘230就能够利用清理腔121内设置的清理毛刷124对其打磨面进行清理，而且清理后，滑柱220移动到另一侧的曲面，此时保持盘221受力就是将支架210抬升到高通道区，完成下一轮的打磨，而此时的打磨面已经被清理，这样循环往复的操作就能够提高快速作业的效率。
46.值得说明的是，在运动通道内可以设置多组打磨机构200。
47.第二实施例，请参阅图6所示，本实施例具体公开设置在滑柱220底部的输出组件240，请参阅图7所示，输出组件240包括齿轮架241，齿轮架241与滑柱220固定连接，齿轮架241内转动连接有输出齿轮242，齿轮架241的底部安装有输出电机243，输出电机243的输出端与输出齿轮242固定连接，但仅通过输出齿轮242驱动是无法完成的，所以在内轨112的底部设置有驱动板113，驱动板113外壁上开设有多个齿槽，滑柱220穿过运动通道使输出齿轮242与齿槽啮合，这样当输出齿轮242转动后就能够受到齿槽的啮合力作用带动滑柱220在运动通道内移动。
48.在此基础上，驱动板113的底部设置有底板114，底板114和驱动板113之间通过设置的支撑块1141固定连接，另外驱动板113与内轨112固定连接，底板114外设置有连接架1142，连接架1142与外轨111固定连接，这样通过驱动板113和连接架1142分别对内轨112和外轨111进行连接，然后再利用支撑块1141将驱动板113固定在底板114上，从而完成外轨111和内轨112的支撑，并且支撑后穿过运动通道的滑柱220能够继续进行移动。
49.第三实施例，本实施例主要解决适应盘211直接与外轨111和内轨112的顶面接触，很容易受损的问题，以及移动起来不够平滑的问题，请参阅图7所示，适应盘211的底部设置有多个滚珠2111，滚珠2111与适应盘211转动连接，通过滚珠2111的顶面接触使移动更加平滑，而且磨损也减少了。
50.第四实施例，请参阅图5所示，本实施例具体公开轴承限制件122，轴承限制件122包括底盘1221，底盘1221与平台120固定连接，底盘1221的顶部设置有内盘1223，内盘1223外设置有外圈1222，外圈1222和内盘1223在底盘1221的顶部形成限制槽122a，这样将轴承本体123放置在限制槽122a内，并且外圈1222内壁上设置有多个与轴承本体123外齿啮合的齿块，以对轴承本体123进行限位，保证其在打磨过程中的稳定性。
51.第五实施例，请参阅图9和图10所示，清理腔121包括两个变向槽121a，两个变向槽121a设置在平台120顶部的两侧，变向槽121a配合曲面阶段打磨盘230的下降，而且两个变向槽121a之间开设有活动槽121c，其主要目的是为支架210的移动提供空间，主要负责清理的就是设置在活动槽121c底部的清理槽121b，清理毛刷124设置在清理槽121b的底部平面上，这样打磨盘230在清理槽121b内横移时清理毛刷124就能够对其底部的打磨面进行清
理。
52.以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本发明的优选例，并不用来限制本发明，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。