一种多工件盘镀膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及镀膜设备技术领域，特别是涉及一种多工件盘镀膜装置。


背景技术：

2.对于圆形基片的镀膜工艺，当前使用的一种镀膜装置如图1a和图1b所示，包括：旋转驱动机构101、真空室102、旋转轴103、工件架104、工件盘105 以及下蒸发源106。在镀膜过程中，基片放在工件盘上，在旋转驱动机构的带动下，随转轴一起转动，下蒸发源的膜料镀到基片的下表面，镀完基片的下表面，需要人工将基片翻面，然后再镀基片的上表面，这样，需要镀两炉才能完成镀膜过程，效率比较低。
3.当前使用的另一种镀膜装置可如图2a和图2b所示，该装置与图1a和图 1b示出的装置基本相同，除了在真空室的顶部还设置了一个上蒸发源107之外。该装置在镀膜过程中，基片放在工件盘上，在旋转驱动机构的带动下，随转轴一起转动，下蒸发源的膜料镀到基片的下表面，上蒸发源的膜料镀到基片的上表面，这样镀一炉能完成镀膜过程，但是由于只有一个工件盘，效率仍然比较低。


技术实现要素：

4.为了至少解决现有技术的问题之一，本技术提供的技术方案包括：
5.本技术实施例提供一种多工件盘镀膜装置，包括：旋转驱动机构、真空室、旋转轴、多个旋转组件和多个蒸发源组，所述旋转驱动机构设置在所述真空室的顶部，所述旋转轴设置在所述真空室内部，与所述旋转驱动机构连接；所述多个旋转组件依次穿过所述旋转轴并间隔设置在所述旋转轴上，每个旋转组件包括工件架和设置在所述工件架上的工件盘；所述多个蒸发源组设置在所述真空室的侧部，用于在镀膜过程中向所述工件盘上的工件的上表面和下表面同时喷射膜料。
6.本技术能够实现的技术效果至少包括：本技术的镀膜装置由于设置了多个工件盘和多个蒸发源，当需要对工件进行镀膜时，将工件装在工件盘上，所有工件盘在旋转驱动机构的带动下，随旋转轴同步转动，多组蒸发源同时喷射膜料，使每个工件盘的上面和下面都可被膜料镀到，保证装在工件盘上的工件两面能一次镀膜完成，能够提高镀膜质量与镀膜效率，能够提高单炉产量。
附图说明
7.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要说明，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
8.图1a和图1b为现有的一种镀膜装置的结构示意图；
9.图2a和图2b为现有的另一种镀膜装置的结构示意图；
10.图3至图4为本实用新型一实施例提供的镀膜装置的结构示意图；
11.图5至图6为本实用新型另一实施例提供的镀膜装置的结构示意图；
12.图7为图5和图6示出的镀膜装置的竖直蒸发源组和水平蒸发源组的示意图；
13.图8为本实用新型的蒸发源的结构示意图。
具体实施方式
14.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
15.图3至图4为本实用新型一实施例提供的镀膜装置的结构示意图；图5 至图6为本实用新型另一实施例提供的镀膜装置的结构示意图；图7为图5 和图6示出的镀膜装置的竖直蒸发源组和水平蒸发源组的示意图；图8为本实用新型的蒸发源的结构示意图。
16.(实施例1)
17.如图3至图4所示，本技术一实施例提供的多工件盘镀膜装置可包括：旋转驱动机构1、真空室2、旋转轴3、多个旋转组件和多个蒸发源组。
18.其中，所述旋转驱动机构1可设置在所述真空室2的顶部。旋转驱动机构1可为现有结构，例如，可包括驱动电机和旋转筒。旋转筒与驱动电机的驱动轴连接。所述旋转轴3设置在所述真空室2的内部，旋转轴3的下端可与真空室2的底部转动连接，上端与所述旋转驱动机构1连接，具体地，旋转轴3 可通过法兰等连接件与旋转筒转动连接，在驱动电机的驱动作用下顺时针或逆时针旋转。
19.在本实施例中，多个旋转组件依次穿过所述旋转轴3并间隔设置在所述旋转轴3上，每个旋转组件包括工件架4和设置在所述工件架上的工件盘5，旋转组件随着旋转轴的转动而转动。在一个示意性实施例中，工件架4可为伞形结构，工件盘5也为相匹配的伞形结构，工件盘5上按照设定顺序设置多个工件安装孔，例如圆形工件安装孔，用于安装圆形工件。在本技术实施例中，工件为基片。
20.所述多个蒸发源组设置在所述真空室2的侧部，用于在镀膜过程中向所述工件盘5上的工件的上表面和下表面同时喷射膜料。
21.进一步地，在本实施例中，可包括m个旋转组件和沿所述真空室的轴向方向间隔设置的m 1个蒸发源组，每个蒸发源组包括至少两个蒸发源，m≥2。 m 1个蒸发源组被设置为使得每个工件盘5的上面和下面都有多组蒸发源。在一个示意性实施例中，m＝3。如图3和图4所示。4个蒸发源组可通过竖直电极杆6设置在真空室2的侧部例如图示方向的右侧，每个工件盘的上面和下面均设置有蒸发源组。每个蒸发源组可包括2个蒸发源7。优选地，每个蒸发源可移动地设置点竖直电极杆6上，以使得每个蒸发源在电极杆上的位置可以调节，保证工件盘5上的基片膜层均匀，提高镀膜质量。本领域技术人员知晓，可采用现有的驱动机构带动蒸发源沿竖直电极杆的上下方向移动。在本实施例中，如图8所示，每个蒸发源7可包括方形的膜料盒10和沿膜料盒的两侧延伸的支撑杆11。所述支撑杆11用于与竖直电极杆6连接。所述膜料盒的底部封闭，顶部和侧部形成有多个喷射孔，并且所述膜料盒在对着工件盘的侧部上形成有多个喷射孔，喷射孔可为圆孔。如此，在保证膜料不从底面掉落的同时，尽量增加蒸发角度。
22.本实施例提供的多工件盘镀膜装置的工作原理为：当需要对工件进行镀膜时，将工件装在工件盘上，所有工件盘在旋转驱动机构的带动下，随旋转轴同步转动。在镀膜过程中，所有蒸发源同时工作，保证装在工件盘上的工件两面能一次镀膜完成。同时，每个蒸发源在电极杆上的位置可以调节，保证工件盘上的基片膜层均匀，提高镀膜质量。
23.(实施例2)
24.本技术另一实施例提供一种多工件盘镀膜装置，本实施例提供的镀膜装置与前述实施例基本相同，不同之处在于蒸发源组的结构。具体地，如图5和图 6所示，本实施例提供的镀膜装置包括m个竖直蒸发源组7和m 1个水平蒸发源组8，每个蒸发源组包括至少两个蒸发源。其中，所述m个竖直蒸发源组沿所述真空室2的轴向方向间隔设置，m 1个水平蒸发源组沿所述真空室2 的轴向方向间隔设置并且每个水平蒸发组的蒸发源沿真空室2的径向方向间隔设置，每个竖直蒸发源组设置在相邻两个水平蒸发源组之间，每个旋转组件位于相邻的两个水平蒸发源组之间，m≥2，如此保证每个工件盘5的上面和下面都有多组蒸发源，在镀膜过程中，所有蒸发源同时工作，保证装在工件盘 5上的基片两面能一次镀膜完成。优选地，m＝3。
25.进一步地，所述竖直蒸发源组设置在竖直电极杆6上，每个水平蒸发源组 8设置在水平电极杆9上，m 1个水平电极杆9沿轴向方向平行设置，并且均与所述竖直电极杆6连接。如图7所示，每个竖直蒸发源组可包括间隔设置的两个蒸发源，每个水平蒸发源组可包括间隔设置的三个蒸发源。
26.在本实施例中，水平蒸发源组可移动地设置在水平电极杆上，竖直蒸发源组可移动地设置竖直电极杆上的位置，即每个蒸发源在电极杆上的位置可以调节，能够保证工件盘5上的基片膜层均匀，提高镀膜质量。每个蒸发源的结构与前述实施例相同。
27.本实施例提供的多工件镀膜装置，由于增加了多个水平蒸发源组，与前述实施例相比，能够使得镀膜更加均匀。
28.以上所述仅为本技术的较佳实施例，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。