一种带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备及镀膜方法与流程

技术特征：
1.一种带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：包括真空容器(1)和设于真空容器(1)内的放卷系统(2)、镀膜辊(3)、撕膜卷(4)及收卷系统(5)，所述真空容器(1)通过真空抽气系统(6)形成真空环境，所述放卷系统(2)上的基材(7)经过镀膜辊(3)后复卷到收卷系统(5)上，沿所述镀膜辊(3)的外圆周侧部设有磁控靶(9)，基材(7)上的保护膜(8)从放卷系统(2)上输出后与基材(7)分离复卷至撕膜卷(4)上，在镀膜辊(3)的输出端设有覆膜卷(10)，覆膜卷(10)上的保护膜(8)贴覆在镀完膜后的基材(7)表面一同复卷至收卷系统(5)上。2.根据权利要求1所述的带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述放卷系统(2)与撕膜卷(4)之间设有导辊(11)，基材(7)与保护膜(8)绕过导辊(11)后分离，基材(7)绕过镀膜辊(3)复卷至收卷系统(5)，保护膜(8)复卷在撕膜卷(4)上。3.根据权利要求1所述的带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：覆膜卷(10)上的保护膜(8)经过导辊(11)与贴合辊(12)贴附在基材(7)上并复卷至收卷系统(5)上。4.根据权利要求3所述的带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述镀膜辊(3)、磁控靶(9)设置为两个，基材(7)依次通过镀膜辊一(31)和镀膜辊二(32)复卷后与保护膜(8)复卷至收卷系统(5)上，磁控靶一(91)和磁控靶二(92)分别对镀膜辊一(31)和镀膜辊二(32)上的基材(7)进行正反面镀膜。5.根据权利要求1至4任一项所述的带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述真空容器(1)上设有真空测量系统(13)。6.一种镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：通过真空抽气系统(6)和真空测量系统(13)使得真空容器(1)内部满足真空条件；放卷系统(2)传送带保护膜的基材(7)绕过导辊(11)缠绕在镀膜辊(3)上，其中基材(7)上的保护膜(8)撕除并卷绕在撕膜卷(4)上；镀膜辊(3)外圆周处设置的磁控靶(9)对缠绕在镀膜辊(3)表面的基材(7)进行磁控溅射镀膜；基材(7)绕过镀膜辊(3)并在表面贴覆覆膜卷(10)上的保护膜(8)后复卷在收卷系统(5)上。7.根据权利要求6所述的镀膜方法，其特征在于：放卷系统(2)传送带保护膜的基材(7)绕过镀膜辊一(31)和镀膜辊二(32)上，撕膜卷(4)撕除基材(7)上的保护膜(8)并回卷保护膜(8)；磁控靶一(91)和磁控靶二(92)分别对镀膜辊一(31)和镀膜辊二(32)上的基材(7)进行磁控溅射镀膜；覆膜卷(10)上的保护膜(8)贴覆在基材(7)表面后回卷在收卷系统(5)上。

技术总结
本发明公开了一种带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备，包括真空容器和放卷系统、镀膜辊及收卷系统，基材经过镀膜辊后复卷到收卷系统，镀膜辊的外圆周侧部设磁控靶，保护膜从放卷系统上输出后与基材分离，在镀膜辊的输出端设有覆膜卷，保护膜覆在基材表面复卷至收卷系统。一种镀膜方法，包括：通过真空抽气系统和真空测量系统使真空容器内部满足真空条件；放卷系统传送带保护膜的基材缠绕在镀膜辊前，先将保护膜撕除卷绕在撕膜卷上；镀膜辊外圆周处设磁控靶对镀膜辊表面的基材进行镀膜；基材表面贴覆保护膜后复卷在收卷系统上。本发明可对带保护膜的薄膜基材进行撕膜镀膜，镀膜完后再贴覆保护膜进行收卷，实现单面镀膜和双面镀膜的功能。功能。功能。


技术研发人员：朱刚劲 朱刚毅
受保护的技术使用者：广东腾胜科技创新有限公司
技术研发日：2022.02.28
技术公布日：2022/5/25