PECVD镀膜变节距矫正机构的制作方法

pecvd镀膜变节距矫正机构
技术领域
1.本实用新型涉及pecvd镀膜领域，特别涉及pecvd镀膜变节距矫正机构。


背景技术：

[0002] pecvd是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜，为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种cvd称为等离子体增强化学气相沉积。
[0003]
由于现有的原有pecvd镀膜变节距只用于缓存功能，无矫正机构，导致一旦硅片传输有偏差，使硅片在变节距上位置会发生或前或后情况，导致自动化设备合格率大大降低。


技术实现要素：

[0004]
本实用新型的目的在于提供pecvd镀膜变节距矫正机构，以解决上述背景技术中提出的问题。
[0005]
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：pecvd镀膜变节距矫正机构，包括固定板，所述固定板的底部设置有缓存装置，所述缓存装置包含两个第一气缸、两个连接块、四个第一滑块、四个第一导轨、两个定位块和多个分节距，所述固定板的一边侧设置有推片装置，两个所述分节距之间设置有硅片；
[0006]
所述推片装置包含连接板、两个第二导轨、两个第二滑块、推板和第二气缸，所述第二滑块与第二导轨的外壁滑动连接，两个所述第二滑块与同一个推板固定连接，所述第二气缸的输出杆与推板的一边侧固定连接。
[0007]
优选的，所述第二气缸通过板块与连接板的底部固定连接，所述连接板与固定板的一边侧固定连接。
[0008]
优选的，所述固定板中部的两端均开设有滑孔，所述连接块与滑孔的内腔滑动穿插连接。
[0009]
优选的，两个所述第一气缸的底端与固定板的上表面固定连接，四个所述第一导轨呈矩形阵列与固定板的下表面固定连接。
[0010]
优选的，同一侧两个所述第一滑块与连接块底部的两边侧固定连接，所述第一滑块与第一导轨的外壁滑动连接。
[0011]
优选的，所述同一侧两个所述第一滑块的底部与定位块的顶部固定连接，多个分节距等距固定于两个定位块相对的一侧。
[0012]
优选的，所述固定板的一侧设置有升降电缸，所述升降电缸的底部设置有伺服电机。
[0013]
优选的，所述升降电缸上设置有直线滑台，所述固定板与直线滑台的外壁固定连接。
[0014]
本实用新型的技术效果和优点：
[0015]
（1）本实用新型利缓存装置与推片装置相配合的设置方式，通过两个第一气缸，便于对两个定位块进行位置滑动，使硅片的两侧能整齐的位于在分节距之间，通过第二气缸，便于对推板进行推动，便于对硅片的一边侧进行矫正，使硅片能稳定位于分节距之间，使硅片的传输更加稳定；
[0016]
（2）本实用新型利用第一导轨、第一滑块、第二导轨和第二滑块相配合的设置方式，通过第一滑块与第一导轨外壁的滑动，便于提高两个定位块滑动的稳定性，通过第二滑块与第二导轨外壁的滑动连接，使推板的位置移动更加稳定，使设备的使用更加稳定。
附图说明
[0017]
图1为本实用新型整体正面结构示意图。
[0018]
图2为本实用新型整体俯面结构示意图。
[0019]
图3为本实用新型图1中a处局部放大结构示意图。
[0020]
图4为本实用新型推板处整体结构示意图。
[0021]
图中：1、固定板；2、升降电缸；3、伺服电机；4、缓存装置；401、第一气缸；402、连接块；403、第一滑块；404、第一导轨；405、定位块；406、分节距；5、滑孔；6、硅片；7、推片装置；701、连接板；702、第二导轨；703、第二滑块；704、推板；705、第二气缸；8、直线滑台。
具体实施方式
[0022]
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0023]
本实用新型提供了如图1-4所示的pecvd镀膜变节距矫正机构，包括固定板1，固定板1的一侧设置有升降电缸2，升降电缸2的底部设置有伺服电机3，升降电缸2上设置有直线滑台8，升降电缸2通过伺服电机3带动螺杆旋转，通过螺母转化为直线运动，并推动直线滑台8进行往复直线运动，固定板1与直线滑台8的外壁固定连接，便于固定板1进行往复直线运动，固定板1的底部设置有缓存装置4，便于对硅片6的储存；
[0024]
缓存装置4包含两个第一气缸401、两个连接块402、四个第一滑块403、四个第一导轨404、两个定位块405和多个分节距406，两个分节距406之间设置有硅片6，第一气缸401通过外接开关与外部电源电性连接，固定板1中部的两端均开设有滑孔5，连接块402与滑孔5的内腔滑动穿插连接，两个第一气缸401的底端与固定板1的上表面固定连接，第一气缸401的输出杆与连接块402的顶部固定连接，四个第一导轨404呈矩形阵列与固定板1的下表面固定连接，同一侧两个第一滑块403与连接块402底部的两边侧固定连接，第一滑块403与第一导轨404的外壁滑动连接，便于通过第一导轨404，使连接块402的滑动更加稳定，同一侧两个第一滑块403的底部与定位块405的顶部固定连接，便于定位块405的滑动稳定，多个分节距406等距固定于两个定位块405相对的一侧，便于通过两个定位块405上相对的分节距406对硅片6进行位置储存；
[0025]
固定板1的一边侧设置有推片装置7，推片装置7包含连接板701、两个第二导轨702、两个第二滑块703、推板704和第二气缸705，第二气缸705通过外接开关与外部电源电
性连接，第二滑块703与第二导轨702的外壁滑动连接，两个第二滑块703与同一个推板704固定连接，第二气缸705的输出杆与推板704的一边侧固定连接，第二气缸705通过板块与连接板701的底部固定连接，便于通过第二气缸705输出杆的推动，使推板704能对多个硅片6的一边侧进行整理，使硅片6的边侧处于平整状态，便于对分节距406上的硅片6进行位置矫正，提高硅片6后期输送的稳定性，连接板701与固定板1的一边侧固定连接，便于提高第二气缸705位置的稳定性。
[0026]
本实用新型工作原理：
[0027]
使用时，通过第一气缸401的输出杆与连接块402顶部的连接，便于连接块402在固定板1的下方进行滑动，通过连接块402与第一滑块403及定位块405的位置固定，便于对两个定位块405进行位置滑动，使硅片6的两侧能整齐的位于两个相对的分节距406之间，通过定位块405的推动，使多个硅片6的两侧呈整齐状态，通过第二气缸705的启动，便于对推板704进行推动，便于对硅片6的一边侧进行矫正，使多个硅片6均能稳定位于分节距406之间，使硅片6的传输更加稳定，通过第一滑块403与第一导轨404外壁的滑动，便于提高两个定位块405滑动的稳定性，通过第二滑块703与第二导轨702外壁的滑动连接，使推板704的位置移动更加稳定，使设备的使用更加稳定，通过升降电缸2与伺服电机3的配合，使直线滑台8的滑动更加精准与稳定，便于对硅片6的储存。
[0028]
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。