一种镀膜机用升降式基片台的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，特别涉及一种镀膜机用升降式基片台。


背景技术：

2.真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
3.基片台在真空镀膜机中用来放置基片的装置，由于基片的镀膜是一个持续的过程，随着镀膜时间越长，则基片表面的镀膜厚度也越厚，传统的基片台无法对基片进行防护，导致基片表面的镀膜厚度也会增加，而且在镀膜不同材料时容易污染到不需要镀膜该材料的裸露基片，影响产品品质，从而不能满足实际生产需求，因此使用时存在一定的缺陷。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的基片台不能有效的保护基片的问题而提供一种镀膜机用升降式基片台，具有可防止基片被其他镀膜材料污染，提高镀膜产品品质，镀膜效率高便于上下料的优点。
5.本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的，一种镀膜机用升降式基片台，包括内部中空且顶部开口的台体，所述台体的内部安装有通过升降气缸控制升降的基片放置架，所述台体的顶部开口左右铰接有盖板，所述盖板通过连杆结构与所述基片放置架连接，使所述基片放置架在升起时所述连杆结构推动所述盖板打开开口，所述基片放置架在下降时所述连杆结构拉动所述盖板关闭开口。
6.优选的，所述基片放置架的底部安装升降座，升降座的底部连接推杆，推杆与升降气缸的输出端连接。
7.优选的，所述连杆结构包括连接在升降座上的连接杆，连接杆通过第一旋转轴转动连接在摆动杆的端部，摆动杆的另一端通过第二旋转轴转动连接盖板。
8.优选的，所述基片放置架包括安装在支撑架顶部的固定架，固定架上设置有用于夹持待镀膜基片的基片夹板。
9.优选的，所述固定架的两侧竖直设置导向杆，基片夹板沿着导向杆滑动，且基片夹板通过磁铁片磁性连接固定架的两侧。
10.优选的，所述固定架的两端分别与支撑架之间转动连接，使被夹持的基片可上下翻转，固定架的其中一端安装有从动齿轮，从动齿轮与翻转电机驱动的主动齿轮啮合。
11.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
12.1、通过基片放置架来固定待镀膜的基片，而基片放置架可从台体内伸出，方便基片的镀膜，镀膜完毕后基片放置架可再次收回台体内部，其中台体的盖板与基片放置架之间联动，使基片放置架在伸出时盖板打开，收回时盖板关闭，这样可以保护镀膜后的基片不被二次附着镀膜材料。
13.2、通过设置可以上下翻转的固定架来使基片的正反面可以调换，对基片的正反面进行快速镀膜，提高了镀膜的效率，而且固定基片的基片夹板采用磁吸的方式进行夹持，也便于操作。
附图说明
14.图1为本实用新型的基片放置架在台体内升起状态示意图。
15.图2为本实用新型的连杆结构示意图。
16.图3为本实用新型的基片放置架结构示意图。
17.图4为本实用新型的基片夹板安装结构示意图。
18.图中：1、台体，2、盖板，3、连杆结构，4、升降座，5、推杆，6、升降气缸，7、基片放置架，8、连接杆，9、第一旋转轴，10、摆动杆，11、第二旋转轴，12、支撑架，13、固定架，14、基片夹板，15、从动齿轮，16、主动齿轮，17、磁铁片，18、导向杆。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.请参考图1所示，一种镀膜机用升降式基片台，包括内部中空且顶部开口的台体1，台体1的内部安装有通过升降气缸6控制升降的基片放置架7，台体1的顶部开口左右铰接有盖板2，盖板2通过连杆结构3与基片放置架7连接，使基片放置架7在升起时连杆结构3推动盖板2打开开口，基片放置架7在下降时连杆结构3拉动盖板2关闭开口，盖板2铰接在台体1上可以实现台体1内部空间的打开和关闭，由于盖板2与基片放置架7之间通过连杆结构3实现联动，基片放置架7可升降，在升起时，连杆结构3推着盖板2打开，此时的基片可以进行镀膜，镀膜完毕后，基片放置架7收回台体1内部，则盖板2随着连杆机构3的拉动进行关闭，将基片锁在台体1内部，此时镀膜室内的镀膜材料便无法继续接触到基片表面，可以避免基片表面被继续镀膜影响而导致基片镀膜超过实际标准，基片放置架7的底部安装升降座4，升降座4的底部连接推杆5，推杆5与升降气缸6的输出端连接，基片放置架7通过升降气缸6驱动，镀膜开始时，升降气缸6通过推杆5顶起基片放置架7，镀膜完成后，升降气缸6通过推杆5拉回基片放置架7。
21.如图2所示，连杆结构3包括连接在升降座4上的连接杆8，连接杆8通过第一旋转轴9转动连接在摆动杆10的端部，摆动杆10的另一端通过第二旋转轴11转动连接盖板2，连接杆8随着升降座4可以上下移动，在向上移动时，顶着摆动杆10向上移动，反之，则拉着摆动杆10向下移动，而由于盖板2与台体1顶部的开口处于铰接状态，因此连接杆8与摆动杆10之
间可以转动，摆动杆10与盖板2之间可以转动，以实现盖板2的开合。
22.如图3所示，基片放置架7包括安装在支撑架12顶部的固定架13，固定架13上设置有用于夹持待镀膜基片的基片夹板14，基片夹板14与固定架13两侧贴合，实现对基片边缘处的夹持固定，固定架13的两端分别与支撑架12之间转动连接，使被夹持的基片可上下翻转，固定架13的其中一端安装有从动齿轮15，从动齿轮15与翻转电机驱动的主动齿轮16啮合，固定架13通过翻转电机的齿轮驱动实现上下翻转，从而对基片进行翻面操作，在基片的正面镀膜完成后，再对基片的背面进行镀膜，大大提高了镀膜效率，如图4所示，固定架13的两侧竖直设置导向杆18，基片夹板14沿着导向杆18滑动，且基片夹板14通过磁铁片17磁性连接固定架13的两侧，基片夹板14采用磁吸的方式贴合在固定架13的两侧，而导向杆18用来限制基片夹板14不与固定架13产生侧滑，这样磁吸夹持的方式更加方便操作，便于基片的取放。
23.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
24.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。