含氟化合物、含有含氟化合物的组合物、涂布液、物品和物品的制造方法与流程

1.本发明涉及含氟化合物、含有含氟化合物的组合物、涂布液、物品和物品的制造方法。


背景技术：

2.一直以来，在各技术领域中，要求对物品的表面赋予拒水性。眼镜镜片、可穿戴终端、触摸面板显示器等的表面因容易附着指纹等皮脂污垢而期望设置拒水拒油层。若对基材的表面赋予拒水拒油性，则容易拭去物品表面的污垢，污垢的去除性提高。进而，近年来，不仅是各种物品的光学面，还要求例如智能手机等小型设备的壳体的指纹去除性。
3.对拒水拒油层还要求耐磨耗性、耐候性之类的耐久性。作为能够形成耐久性优异的拒水拒油层的含氟化合物，研究了导入有水解性甲硅烷基的含氟化合物。
4.例如，专利文献1中，作为能够形成拒水拒油性、油脂污垢的去除性优异、即便在酸催化剂的存在下和高温条件下其耐劣化性也优异的涂膜的表面处理剂，公开了包含特定的含氟醚化合物的表面处理剂，所述含氟醚化合物具有1个或2个水解性甲硅烷基。该专利文献1的实施例中，公开了对该特定的含氟醚化合物组合具有3个水解性甲硅烷基的含氟醚化合物而得的表面处理剂。通过使水解性甲硅烷基与物品表面结合而形成具有耐久性的拒水拒油层。
5.现有技术文献
6.专利文献
7.专利文献1：国际公开第2009/008380号


技术实现要素：

8.发明要解决的问题
9.要求与专利文献1记载的含氟醚化合物相比更具耐久性的含氟化合物。
10.本发明的目的在于，提供能够形成耐久性优异的拒水拒油层的含氟化合物、含有含氟化合物的组合物和涂布液、物品及其制造方法，所述物品具备耐久性优异、能够长时间维持拒水拒油性和指纹去除性的表面层。
11.用于解决问题的方案
12.本发明提供具有以下[1]～[13]的构成的含氟化合物及其制造方法、含有含氟化合物的组合物、涂布液、物品及其制造方法。
[0013]
[1]一种含氟化合物，其具有：
[0014]
3个以上的下式(1)所示的部分结构；
[0015]
4个以上的下式(2)所示的部分结构。
[0016]
*-{c(q1)2}
n-o-(r1o)m‑ꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0017]-sil
pr10(3-p)
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)
[0018]
其中，
[0019]
在*处键合叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子或叔氮原子，
[0020]
q1为氢原子或氟原子，存在的多个q1任选相同或不同，
[0021]
r1为直链或具有分枝的氟亚烷基，存在多个时的r1任选相同或不同，
[0022]
l为水解性基团或羟基，存在多个时的l任选相同或不同，
[0023]r10
为氢原子或一价烃基，存在多个时的r
10
任选相同或不同，
[0024]
n为0以上的整数，
[0025]
m为1以上的整数，
[0026]
p为1～3的整数。
[0027]
[2]根据[1]的含氟化合物，其具有3个以上的下式(3)所示的部分结构。
[0028]
*-{c(q1)2}
n-o-(r1o)
m-a{-sil
pr10(3-p)
}qꢀꢀꢀ
(3)
[0029]
其中，
[0030]
在*处键合叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子或叔氮原子，
[0031]
q1为氢原子或氟原子，存在的多个q1任选相同或不同，
[0032]
r1为直链或具有分枝的氟亚烷基，存在多个时的r1任选相同或不同，
[0033]
a为(q 1)价的有机基团，
[0034]
l为水解性基团或羟基，存在多个时的l任选相同或不同，
[0035]r10
为氢原子或一价烃基，存在多个时的r
10
任选相同或不同，
[0036]
n为0以上的整数，
[0037]
m为1以上的整数，
[0038]
p为1～3的整数，
[0039]
q为1以上的整数，q的总和为4以上。
[0040]
[3]根据[1]或[2]的含氟化合物，其用下式(4)表示。
[0041]
x[-{c(q1)2}
n-o-(r1o)
m-a{-sil
pr10(3-p)
}q]rꢀꢀꢀꢀ
(4)
[0042]
其中，
[0043]
x为具有1个以上的选自叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子和叔氮原子中的原子的r价连接基团，
[0044]
在[-{c(q1)2}
n-o-]的x侧键合x中的叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子或叔氮原子，
[0045]
q1为氢原子或氟原子，存在的多个q1任选相同或不同，
[0046]
r1为直链或具有分枝的氟亚烷基，存在的多个r1任选相同或不同，
[0047]
a为(q 1)价的有机基团，存在的多个a任选相同或不同，
[0048]
l为水解性基团或羟基，存在的多个l任选相同或不同，
[0049]r10
为氢原子或一价烃基，存在的多个r
10
任选相同或不同，
[0050]
n为0以上的整数，存在的多个n任选相同或不同，
[0051]
m为1以上的整数，存在的多个m任选相同或不同，
[0052]
p为1～3的整数，存在的多个p任选相同或不同，
[0053]
q为1～3的整数，q的总和为4以上，存在的多个q任选相同或不同，r为3以上的整数。
[0054]
[4]根据[3]的含氟化合物，其中，前述x具有选自下式(x-1)～下式(x-6)中的1种以上的部分结构。
[0055][0056]
其中，q3为氢原子或氟原子。式(x-6)中的c为构成芳香环的碳原子，该碳原子所具有的连接键之一为单键，剩余的连接键(标有波浪线的连接键)构成芳香环。
[0057]
[5]根据[2]～[4]中任一项的含氟化合物，其中，前述a为包含选自亚烷基、氟亚烷基、羰基、酰胺键、醚键、酯键、脲键、氨基甲酸酯键和碳酸酯键中的1种以上的(q 1)价有机基团。
[0058]
[6]根据[1]～[5]中任一项的含氟化合物，其中，前述(r1o)用下式(r-1)表示。
[0059]
[(r
f1
o)
m1
(r
f2
o)
m2
(r
f3
o)
m3
(r
f4
o)
m4
(r
f5
o)
m5
(r
f6
o)
m6
](r-1)
[0060]
其中，
[0061]rf1
为碳原子数1的氟亚烷基，
[0062]rf2
为碳原子数2的氟亚烷基，
[0063]rf3
为碳原子数3的氟亚烷基，
[0064]rf4
为碳原子数4的氟亚烷基，
[0065]rf5
为碳原子数5的氟亚烷基，
[0066]rf6
为碳原子数6的氟亚烷基，
[0067]
m1、m2、m3、m4、m5、m6分别表示0或1以上的整数，m1 m2 m3 m4 m5 m6为1～200的整数。
[0068]
[7]一种含有含氟化合物的组合物，其包含前述[1]～[6]中任一项的含氟化合物和其它含氟化合物。
[0069]
[8]一种涂布液，其含有前述[1]～[6]中任一项的含氟化合物或[7]的含有含氟化合物的组合物，且含有液体介质。
[0070]
[9]一种物品，其依次具有基材、基底层和拒水拒油层，
[0071]
前述基底层含有包含硅的氧化物，
[0072]
前述拒水拒油层含有[1]～[6]中任一项的含氟化合物的缩合物。
[0073]
[10]根据[9]的物品，其中，前述氧化物还含有选自碱金属元素、碱土金属元素、铂族元素、硼、铝、磷、钛、锆、铁、镍、铬、钼和钨中的1种以上的元素。
[0074]
[11]一种物品，其依次具有基材和拒水拒油层，
[0075]
前述基材含有包含硅的氧化物，前述拒水拒油层含有[1]～[6]中任一项的含氟化合物的缩合物。
[0076]
[12]根据[11]的物品，其中，前述氧化物还含有选自碱金属元素、碱土金属元素、铂族元素、硼、铝、磷、钛、锆、铁、镍、铬、钼和钨中的1种以上的元素。
[0077]
[13]一种物品的制造方法，其中，使用前述[1]～[6]中任一项的含氟化合物、[7]的含有含氟化合物的组合物或[8]的涂布液，通过干涂法或湿涂法而形成拒水拒油层。
[0078]
发明的效果
[0079]
通过本发明，可提供能够形成耐久性优异的拒水拒油层的含氟化合物、含有含氟化合物的组合物和涂布液、物品及其制造方法，所述物品具备耐久性优异、能够长期维持拒水拒油性和指纹去除性的表面层。
附图说明
[0080]
图1是示出本发明的物品的一例的示意剖视图。
具体实施方式
[0081]
本说明书中，有时将式(1)所示的部分结构称为部分结构(1)。此外，有时将式(4)所示的化合物称为化合物(4)。其它式也基于此规则。
[0082]
本说明书中，全氟烷基是指烷基的氢原子全部被氟原子取代的基团。此外，本说明书中，氟烷基是指具有1个以上氟原子的烷基，包括全氟烷基。氟亚烷基也基于此规则。
[0083]
[含氟化合物]
[0084]
本发明的含氟化合物(以下也称为本化合物)具有3个以上的下式(1)所示的部分结构，且具有4个以上的下式(2)所示的部分结构。
[0085]
*-{c(q1)2}
n-o-(r1o)m‑ꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0086]-sil
pr10(3-p)
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)
[0087]
其中，
[0088]
在*处键合叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子或叔氮原子，
[0089]
q1为氢原子或氟原子，存在的多个q1任选相同或不同，
[0090]
r1为直链或具有分枝的氟亚烷基，存在的多个r1任选相同或不同，
[0091]
l为水解性基团或羟基，存在的多个l任选相同或不同，
[0092]r10
为氢原子或一价烃基，存在的多个r
10
任选相同或不同，
[0093]
n为0以上的整数，m为1以上的整数，p为1～3的整数。
[0094]
本化合物所具有的部分结构(2)如后所述地发生脱水缩合反应，与基材表面形成化学键。此外，部分结构(1)为氟聚醚链，发挥拒水拒油性、油脂污垢去除性。本化合物能够与基材表面形成4个以上的结合点，因此，形成耐久性高的拒水拒油层。此外可推测：3个以上的部分结构(1)被配置在拒水拒油层的外面侧，显示优异的拒水拒油性、油脂污垢去除性，且抑制碱等化学品向前述结合点的侵入。其结果可以认为：对于各种化学品的耐受性也优异。由此，通过本化合物能够形成耐久性优异的拒水拒油层。
[0095]
部分结构(1)表示氟聚醚链。本化合物具有3个以上的氟聚醚链，因此，拒水拒油性、油脂污垢去除性等优异。
[0096]
在部分结构(1)的*侧键合有叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子或叔氮原子(以下有时将它们称为叔原子或季原子)。该叔原子或季原子单独或根据需要与其它原子一同构成后述连接基团，将存在的多个部分结构(1)等连接。可以在存在的多个部分结构(1)的*上键合有同一个叔原子或季原子，此外，也可以键合有不同的叔原子或季原子。
[0097]
部分结构(1)的{c(q1)2}n中的q1为氢原子或氟原子，存在的多个q1任选相同或不同。此处的q1可以全部是氢原子，也可以至少一个为氟原子。即，{c(q1)2}n可以是亚烷基，也可以为氟亚烷基。从拒水拒油性、油脂污垢去除性的观点出发，优选为氟亚烷基，更优选为全氟亚烷基。n可以为0，也可以为1以上的整数。
[0098]
n为0时，部分结构(1)成为下式(1-1)的结构。
[0099]
*-o-(r1o)m‑ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1-1)
[0100]
其中，式(1-1)中的各符号与式(1)相同。
[0101]
此外，n为1以上的整数时，该n表示{c(q1)2}n的碳原子数。n为1以上时，该n优选为1～30，更优选为1～20，进一步优选为1～15。
[0102]
作为{c(q1)2}n的具体例，可列举出-cf
2-、-cf2cf
2-、-cf2cf2cf
2-、-cf2cf2cf2cf
2-、-cf2cf2cf2cf2cf
2-、-cf2cf2cf2cf2cf2cf
2-等。
[0103]
部分结构(1)的(r1o)表示氧氟亚烷基，r1为直链、具有分枝或环结构的氟亚烷基。通过使部分结构(1)具有氧氟亚烷基的重复单元，从而本化合物的拒水拒油性、耐磨耗性、指纹污垢去除性优异。
[0104]
从拒水拒油性、耐摩擦性、指纹污垢去除性更优异的观点出发，(r1o)m优选为其中的下式(r-1)所示的结构。
[0105]
[(r
f1
o)
m1
(r
f2
o)
m2
(r
f3
o)
m3
(r
f4
o)
m4
(r
f5
o)
m5
(r
f6
o)
m6
]式(r-1)
[0106]
其中，
[0107]rf1
为碳原子数1的氟亚烷基，
[0108]rf2
为碳原子数2的氟亚烷基，
[0109]rf3
为碳原子数3的氟亚烷基，
[0110]rf4
为碳原子数4的氟亚烷基，
[0111]rf5
为碳原子数5的氟亚烷基，
[0112]rf6
为碳原子数6的氟亚烷基，
[0113]
m1、m2、m3、m4、m5、m6分别表示0或1以上的整数，m1 m2 m3 m4 m5 m6为1～200的整数。
[0114]
需要说明的是，式(r-1)中的(r
f1
o)～(r
f6
o)的键合顺序是任意的。式(r-1)的m1～m6分别表示(r
f1
o)～(r
f6
o)的个数，不表示配置。例如，(r
f5
o)
m5
表示(r
f5
o)的数量为m5个，不表示(r
f5
o)
m5
的嵌段配置结构。同样地，(r
f1
o)～(r
f6
o)的记载顺序不表示各个单元的键合顺序。
[0115]
作为r
f1
的具体例，可列举出-cf
2-、-chf-。
[0116]
作为r
f2
的具体例，可列举出-cf2cf
2-、-chfcf
2-、-chfchf-、-ch2cf
2-、-ch2chf-等。
[0117]
作为r
f3
的具体例，可列举出-cf2cf2cf
2-、-cf2chfcf
2-、-cf2ch2cf
2-、-chfcf2cf
2-、-chfchfcf
2-、-chfchfchf-、-chfch2cf
2-、-chfch2cf
2-、-ch2cf2cf
2-、-ch2chfcf
2-、-ch2ch2cf
2-、-ch2cf2chf-、-ch2chfchf-、-ch2ch2chf-、-cf(cf3)-cf
2-、-cf(chf2)-cf
2-、-cf(ch2f)-cf
2-、-cf(ch3)-cf
2-、-cf(cf3)-chf-、-cf(chf2)-chf-、-cf(ch2f)-chf-、-cf(ch3)-chf-、-cf(cf3)-ch
2-、-cf(chf2)-ch
2-、-cf(ch2f)-ch
2-、-cf(ch3)-ch
2-、-ch(cf3)-cf
2-、-ch(chf2)-cf
2-、-ch(ch2f)-cf
2-、-ch(ch3)-cf
2-、-ch(cf3)-chf-、-ch(chf2)-chf-、-ch(ch2f)-chf-、-ch(ch3)-chf-、-ch(cf3)-ch
2-、-ch(chf2)-ch
2-、-ch(ch2f)-ch
2-等。
[0118]
作为r
f4
的具体例，可列举出-cf2cf2cf2cf
2-、-chfcf2cf2cf
2-、-ch2cf2cf2cf
2-、-cf2chfcf2cf
2-、-chfchfcf2cf
2-、-ch2chfcf2cf
2-、-cf2ch2cf2cf
2-、-chfch2cf2cf
2-、-ch2ch2cf2cf
2-、-chfcf2chfcf
2-、-ch2cf2chfcf
2-、-cf2chfchfcf
2-、-chfchfchfcf
2-、-ch2chfchfcf
2-、-cf2ch2chfcf
2-、-chfch2chfcf
2-、-ch2ch2chfcf
2-、-cf2ch2ch2cf
2-、-chfch2ch2cf
2-、-ch2ch2ch2cf
2-、-chfch2ch2chf-、-ch2ch2ch2chf-、-cycloc4f
6-等。
[0119]
作为r
f5
的具体例，可列举出-cf2cf2cf2cf2cf
2-、-chfcf2cf2cf2cf
2-、-ch2chfcf2cf2cf
2-、-cf2chfcf2cf2cf
2-、-chfchfcf2cf2cf
2-、-ch2chfcf2cf2cf
2-、-cf2ch2cf2cf2cf
2-、-chfch2cf2cf2cf
2-、-ch2ch2cf2cf2cf
2-、-cf2cf2chfcf2cf
2-、-chfcf2chfcf2cf
2-、-ch2cf2chfcf2cf
2-、-cf2cf2chfcf2cf
2-、-chfcf2chfcf2cf
2-、-ch2cf2chfcf2cf
2-、-ch2cf2cf2cf2ch
2-、-cycloc5f
8-等。
[0120]
作为r
f6
的具体例，可列举出-cf2cf2cf2cf2cf2cf
2-、-cf2cf2chfchfcf2cf
2-、-chfcf2cf2cf2cf2cf
2-、-chfchfchfchfchfchf-、-chfcf2cf2cf2cf2ch
2-、-ch2cf2cf2cf2cf2ch
2-、-cycloc6f
10-等。
[0121]
此处，-cyclo c4f
6-是指全氟环丁烷二基，作为其具体例，可列举出全氟环丁烷-1,2-二基。-cyclo c5f
8-是指全氟环戊烷二基，作为其具体例，可列举出全氟环戊烷-1,3-二基。-cyclo c6f
10-是指全氟环己烷二基，作为其具体例，可列举出全氟环己烷-1,4-二基。
[0122]
从拒水拒油性、耐摩擦性、指纹污垢去除性更优异的观点出发，其中，(r1o)m优选成为下式(r-2)～下式(r-4)中的任一者。
[0123]
(r
f1
o)
m1-(r
f2
o)
m2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(r-2)
[0124]
(r
f2
o)
m2-(r
f4
o)
m4
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(r-3)
[0125]
(r
f3
o)
m3
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(r-4)
[0126]
其中，式(r-2)～式(r-4)的各符号与前述式(r-1)相同。
[0127]
上式(r-2)和式(r-3)中，(r
f1
o)与(r
f2
o)、(r
f2
o)与(r
f4
o)的键合顺序分别是任意的。例如，(r
f1
o)与(r
f2
o)可以交替配置，(r
f1
o)与(r
f2
o)可以分别配置成嵌段，此外，可以为无规。式(r-3)中也相同。
[0128]
式(r-2)中，m1优选为1～30，更优选为1～20。此外，m2优选为1～30，更优选为1～20。
[0129]
式(r-3)中，m3优选为1～30，更优选为1～20。此外，m4优选为1～30，更优选为1～20。
[0130]
式(r-4)中，m3优选为1～30，更优选为1～20。
[0131]
尤其是，式(r-2)中，从表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性更优异的观点出发，m2/m1优选为0.1～10、更优选为0.2～5.0、进一步优选为0.2～2.0、特别优选为0.2～1.5、
最优选为0.2～0.85。
[0132]
本化合物中，从拒水拒油性和指纹去除性优异的观点出发，部分结构(1)中的氟原子的比例[{氟原子数/(氟原子数 氢原子数)}
×
100(％)]优选为40％以上、更优选为50％以上、进一步优选为60％以上。
[0133]
此外，本化合物中，从耐磨耗性的观点出发，部分结构(1)部分的合计分子量优选为200～30,000、更优选为600～25,000、进一步优选为1,000～20,000。
[0134]
部分结构(2)的l为水解性基团或羟基。l为羟基时，与si原子一同构成硅烷醇(si-oh)基。此外，水解性基团是因水解反应而形成羟基的基团。硅烷醇基进一步在分子间发生反应而形成si-o-si键。此外，硅烷醇基与基材表面的羟基(基材-oh)发生脱水缩合反应，形成化学键(基材-o-si)。
[0135]
本化合物具有4个以上的部分结构(2)，因此，磨耗耐久性优异。本化合物中，部分结构(2)优选为4～20、更优选为4～15。
[0136]
作为属于水解性基团的l，可列举出烷氧基、芳氧基、卤素原子、酰基、酰氧基、异氰酸酯基(-nco)等。作为烷氧基，优选为碳原子数1～4的烷氧基。作为酰基，优选为碳原子数1～6的酰基。作为酰氧基，优选为碳原子数1～6的酰氧基。
[0137]
作为l，从本化合物的制造容易度的观点出发，优选为碳原子数1～4的烷氧基或卤素原子。作为卤素原子，特别优选为氯原子。作为l，从涂布时的逸气少、本化合物的保存稳定性优异的观点出发，优选为碳原子数1～4的烷氧基，在需要本化合物的长期保存稳定性的情况下，特别优选为乙氧基，在使涂布后的反应时间为短时间的情况下，特别优选为甲氧基。
[0138]r10
为氢原子或一价烃基。作为一价烃基，可列举出烷基、环烷基、烯基、烯丙基等。一价烃基的碳原子数优选为1～6、更优选为1～3、特别优选为1～2。如果r
10
的碳原子数为该范围，则容易制造本化合物。
[0139]
p优选为2或3、更优选为3。通过使1个水解性甲硅烷基中存在多个l，从而与基材的密合性进一步提高。
[0140]
作为部分结构(2)，优选为-si(och3)3、-sich3(och3)2、-si(och2ch3)3、-sicl3、-si(ococh3)3、-si(nco)3。从工业制造中的处理容易度的观点出发，特别优选为-si(och3)3。
[0141]
关于本化合物内的部分结构(2)的位置，例如，部分结构(2)可以直接键合于后述连接基团x，此外，部分结构(2)可以直接或借助有机基团而与部分结构(1)的(r1o)
m-键合。从拒水拒油层的耐久性、拒水拒油性的观点出发，其中，部分结构(2)优选直接或借助有机基团而与部分结构(1)的(r1o)
m-键合。
[0142]
从耐久性和拒水拒油性的观点出发，其中，本化合物优选具有3个以上的下式(3)所示的部分结构。
[0143]
*-{c(q1)2}
n-o-(r1o)
m-a{-sil
pr10(3-p)
}qꢀꢀꢀꢀ
(3)
[0144]
其中，a为(q 1)价的有机基团，q为1以上的整数，*、q1、r1、l、r
10
、n、p与前述式(1)或式(2)相同。
[0145]
a为q 1价的直链状或支链状的连接基团。q 1为3以上时，a优选具有选自由c、n、si、环结构和q 1价的有机聚硅氧烷残基组成的组中的至少1种分枝点(以下记作“分枝点p”)。需要说明的是，在分枝点p上键合特定支链。此处，特定支链是指在其链内具有部分结
构(1)或部分结构(2)的链。
[0146]
作为环结构，从容易制造本化合物的观点和表面层的耐摩擦性、耐光性和耐化学品性更优异的观点出发，优选为选自由3～8元环的脂肪族环、3～8元环的芳香族环、3～8元环的杂环、以及由这些环中的2个以上形成的稠环组成的组中的1种，特别优选为下式列举的环结构。环结构可以具有卤素原子、烷基(任选在碳-碳原子间包含醚性氧原子)、环烷基、烯基、烯丙基、烷氧基、氧基(＝o)等取代基。
[0147][0148]
作为q 1价的有机聚硅氧烷残基，可列举出例如下述基团。其中，下式中的r5为氢原子、烷基、烷氧基或苯基。r5的烷基和烷氧基的碳原子数优选为1～10、特别优选为1。
[0149][0150]
有机基团a任选具有包含选自亚烷基、氟亚烷基、羟基亚烷基、烷氧亚烷基、羰基、酰胺键、醚键、硫醚键、脲键、氨基甲酸酯键、碳酸酯键、酯键、-so2nr
6-、-si(r6)
2-、-osi(r6)
2-、-si(ch3)
2-ph-si(ch3)
2-和2价的有机聚硅氧烷残基中的1种以上的基团(以下也称为键b)。其中，r6为氢原子、碳原子数1～6的烷基或苯基，ph为亚苯基。从容易制造本化合物的观点出发，r6的烷基的碳原子数优选为1～3、特别优选为1～2。此外，构成有机基团a的各键或基团的任意末端可以配置在部分结构(1)侧。例如，酰胺键可以是碳原子配置在部分结构(1)侧，且氮原子配置在部分结构(2)侧，也可以是碳原子配置在部分结构(2)侧，且氮原子配置在部分结构(1)侧。关于其它键、基团也相同。
[0151]
作为2价的有机聚硅氧烷残基，可列举出例如下式的基团。其中，下式中的r7为氢原子、烷基、烷氧基或苯基。r7的烷基和烷氧基的碳原子数优选为1～10、特别优选为1。
[0152]
[0153]
从容易制造本化合物的观点出发，有机基团a优选具有选自由烃基、-c(o)nr
6-、-c(o)-、-c(o)or
6-、-nr
6-和-o-组成的组中的至少1种键，从表面层的耐光性和耐化学品性更优异的观点出发，特别优选具有烃基、-c(o)nr
6-、-c(o)-或-c(o)o-。
[0154]
作为有机基团a，可列举出：2个以上的2价烃基与1个以上的分枝点p的组合、或者2个以上的烃基与1个以上的分枝点p与1个以上的键b的组合。
[0155]
作为2价烃基，可列举出例如2价的脂肪族烃基(亚烷基、亚环烷基等)、2价的芳香族烃基(亚苯基等)。2价烃基的碳原子数优选为1～10、更优选为1～6、特别优选为1～4。
[0156]
从拒水拒油性、耐摩擦性、指纹污垢去除性优异的观点出发，有机基团a优选为下式(a1)～(a9)中任一者所示的基团。
[0157][0158]-a
1-c(r
e2
)
3-e2
(-q
22
)
e2
ꢀꢀꢀꢀ
(a2)
[0159]-a
1-n(-q
23
)2ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a3)
[0160]-a
1-z1(-q
24
)
h2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a4)
[0161]-a
1-si(r
e3
)
3-i2
(-q
25
)
i2
ꢀꢀꢀꢀ
(a5)
[0162]-a
1-q
26
‑ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a6)
[0163]-a
1-ch(-q
22-)-si(r
e3
)
3-i3
(-q
25-)
i3
ꢀꢀꢀꢀ
(a7)
[0164]-a
1-[ch2c(r
e4
)(-q
27-)]
i4-r
e5
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a8)
[0165]-a
1-za(-q
28-)
i5
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a9)
[0166]
其中，式(a1)～式(a9)中，a1侧连接于部分结构(1)，q
22
、q
23
、q
24
、q
25
、q
26
、q
27
和q
28
侧连接于部分结构(2)。
[0167]
a1是单键、亚烷基、或者在碳原子数为2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有-c(o)nr
8-、-c(o)or
8-、-c(o)-、-oc(o)o-、-nr8c(o)o-、-nhc(o)nr
8-、-o-、-nhr
8-、-nr
82-或so2nr
8-的基团，各式中，a1存在2个以上时，2个以上的a1任选相同或不同。亚烷基的氢原子任选被氟原子取代。a1的碳原子数优选为1～8。
[0168]q22
是亚烷基；在碳原子数为2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-的基团；在亚烷基的不与si连接的一侧的末端具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-的基团；或者，在碳原子数为2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-且在不与si连接的一侧的末端具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-的基团，各式中，q
22
存在2个以上时，2个以上的q
22
任选相同或不同。
[0169]q23
是亚烷基、或者在碳原子数为2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-的基团，2个q
23
任选相同或不同。
[0170]q24
所键合的z1中的原子为碳原子时，q
24
为q
22
，q
24
所键合的z1中的原子为氮原子时，q
24
为q
23
，各式中，q
24
存在2个以上时，2个以上的q
24
任选相同或不同。
[0171]q25
是亚烷基、或者在碳原子数为2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-的基团，各式中，q
25
存在2个以上时，2个以上的q
25
任选相同或不同。
[0172]q26
是亚烷基、或者在碳原子数为2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-的基团。
[0173]
r8为氢原子、碳原子数1～6的烷基或苯基。
[0174]q27
为单键或亚烷基。
[0175]q28
是亚烷基、或者在碳原子数为2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子或2价有机聚硅氧烷残基的基团。
[0176]
r8为氢原子、碳原子数1～6的烷基或苯基。
[0177]
z1是具有(1 h2)价的环结构的基团，所述环结构具有与a1直接键合的碳原子或氮原子，且具有与q
24
直接键合的碳原子或氮原子。
[0178]re1
为氢原子或烷基，各式中，r
e1
存在2个以上时，2个以上的r
e1
任选相同或不同。
[0179]re2
为氢原子、羟基、烷基或酰氧基。
[0180]re3
为烷基。
[0181]re4
为氢原子或烷基，从容易制造化合物的观点出发，优选为氢原子。各式中，存在2个以上的r
e4
时，2个以上的r
e4
任选相同或不同。
[0182]re5
为氢原子或卤素原子，从容易制造化合物的观点出发，优选为氢原子。
[0183]
d2为0～3的整数，优选为1或2。d4为0～3的整数，优选为2或3。d2 d4优选为2～5。e2为2或3。
[0184]
h2为1以上的整数(优选为2或3)。
[0185]
i2为2或3。
[0186]
i3为2或3。
[0187]
i4为1以上(优选为1～10的整数、特别优选为1～6的整数)。
[0188]
i5为2～7的整数。
[0189]
从容易制造本化合物的观点和拒水拒油层的耐摩擦性、耐光性和耐化学品性更优异的观点出发，q
22
、q
23
、q
24
、q
25
、q
26
、q
27
、q
28
的亚烷基的碳原子数优选为1～10、更优选为1～6、特别优选为1～4。其中，在碳-碳原子间具有特定键时的亚烷基的碳原子数的下限值为2。
[0190]
作为z1中的环结构，可列举出上述环结构，优选形态也相同。需要说明的是，z1中的环结构与a1、q
24
直接键合，因此，不会出现环结构与例如亚烷基连接且该亚烷基与a1、q
24
连接的情况。
[0191]
za为(i5 1)价的有机聚硅氧烷残基，优选为前述基团。
[0192]
作为有机基团a的优选的其它形态，可列举出下式(a11)～(a19)中任一者所示的基团。
[0193][0194]-a
1-c(r
e2
)
3-e2
(-q
22-g1)
e2
ꢀꢀꢀꢀ
(a12)
[0195]-a
1-n(-q
23-g1)2ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a13)
[0196]-a
1-z1(-q
24-g1)
h2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a14)
[0197]-a
1-si(r
e3
)
3-i2
(-q
25-g1)
i2
ꢀꢀꢀꢀ
(a15)
[0198]-a
1-q
26-g1ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a16)
[0199]-a
1-ch(-q
22-)-si(r
e3
)
3-i3
(-q
25-g1)
i3
ꢀꢀꢀꢀ
(a17)
[0200]-a
1-[ch2c(r
e4
)(-q
27-g1)]
i4-r
e5
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a18)
[0201]-a
1-za(-q
28-g1)
i5
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a19)
[0202]
其中，式(a11)～式(a19)中，a1侧连接于部分结构(1)，g1侧连接于部分结构(2)。
[0203]
g1为下述(g1)所示的基团，式(a11)～式(a19)中，g1存在2个以上时，2个以上的g1任选相同或不同。除了g1之外的符号与式(a1)～式(a9)中的符号相同。
[0204]-si(r9)
3-r1
(-q
30-)
r1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
式(g1)
[0205]
其中，式(g1)中，si侧连接于q
22
、q
23
、q
24
、q
25
、q
26
、q
27
和q
28
，q
30
侧连接于部分结构(2)。r9为烷基。q
30
是亚烷基；在碳原子数为2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有-c(o)nr
8-、-c(o)-、-nr
8-或o-的基团；或者(osi(r
10
)2)
pp-o-，2个以上的q3任选相同或不同。r1为2或3。r8为氢原子、碳原子数1～6的烷基或苯基。r
10
为烷基、苯基或烷氧基，2个r
10
任选相同或不同。pp为0～5的整数，p为2以上时，2个以上的(osi(r
10
)2)任选相同或不同。
[0206]
从容易制造本化合物的观点以及拒水拒油层的耐摩擦性、耐光性和耐化学品性更优异的观点出发，q
30
的亚烷基的碳原子数优选为1～10、更优选为1～6、特别优选为1～4。其中，在碳-碳原子间具有特定键时的亚烷基的碳原子数的下限值为2。
[0207]
从容易制造本化合物的观点出发，r9的烷基的碳原子数优选为1～10、更优选为1～6、进一步优选为1～3、特别优选为1～2。
[0208]
从容易制造本化合物的观点出发，r
10
的烷基的碳原子数优选为1～10、更优选为1～6、进一步优选为1～3、特别优选为1～2。
[0209]
从本化合物的保存稳定性优异的观点出发，r
10
的烷氧基的碳原子数优选为1～10、更优选为1～6、进一步优选为1～3、特别优选为1～2。
[0210]
pp优选为0或1。
[0211]
作为有机基团a的优选具体例，可列举出例如下式的结构。其中，q4分别独立地为氢原子或氟原子，n1＝1～6的整数。此外，式中的l1表示部分结构(1)，l2表示部分结构(2)，其不构成连接基团a。
[0212]
[0213]
[0214]
[0215]
[0216]
[0217][0218]
其中，本化合物优选为下式(4)所示的含氟化合物。
[0219]
x[-{c(q1)2}
n-o-(r1o)
m-a{-sil
pr10(3-p)
}q]rꢀꢀꢀꢀꢀ
(4)
[0220]
其中，
[0221]
x为具有1个以上的选自叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子和叔氮原子中的原子的r价连接基团，
[0222]
在[-{c(q1)2}
n-o-]的x侧键合x中的叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子或叔氮原子，r为3以上的整数。
[0223]
q1、r1、a、l、r
10
、n、m、p、q与前述式(3)相同。
[0224]
上述连接基团x将r个部分结构(1)连接，可以在实现目的的范围内制成任意结构。连接基团x可列举出如下的烃基：任选具有杂原子、氢原子任选被氟原子取代、且与部分结构(1)的[-{c(q1)2}n]键合的元素为叔碳原子、季碳原子、构成芳香环的碳原子、叔硅原子、季硅原子和叔氮原子的烃基。
[0225]
作为x中包含的杂原子，从本化合物的稳定性的观点出发，优选为氧原子、氮原子、硫原子或硅原子。只要r为3以上即可，从耐久性和拒水拒油性的观点出发，优选为3～20，更优选为3～10。
[0226]
其中，前述x优选具有选自下式(x-1)～下式(x-6)中的1种以上的部分结构。通过具有部分结构(x-1)～部分结构(x-6)中的任一者，从而设置对于连接基团x而言化学稳定的结构的分枝。
[0227][0228]
其中，q3为氢原子或氟原子。式(x-6)中的c为构成芳香环的碳原子，该碳原子所具有的连接键之一为单键，剩余的连接键(标有波浪线的连接键)构成芳香环。
[0229]
式(x-1)中的c表示叔碳原子，式(x-2)中的c表示季碳原子，式(x-3)中的si表示叔硅原子，式(x-4)中的si表示季硅原子，式(x-5)中的n表示叔硅原子，这些原子所具有的连接键分别为单键。此外，式(x-6)中的c为构成芳香环的碳原子，该碳原子所具有的连接键之一为单键，剩余的连接键(标有波浪线的连接键)构成芳香环。
[0230]
部分结构(x-1)～部分结构(x-5)可单独构成分枝点。此外，部分结构(x-6)可以与构成芳香环的其它元素一同构成分枝点。例如，苯环可以视作6个部分结构(x-6)连接而得的结构，构成六分枝的分枝点。
[0231]
部分结构(x-1)～(x-5)可以单独构成连接基团x，也可以与其它部分结构(x-1)～(x-6)直接键合或借助连接基团而键合。通过连接多个部分结构(x-1)～(x-6)，从而形成分枝数多的连接基团x。
[0232]
部分结构(x-1)～部分结构(x-6)的单键分别独立地与部分结构(1)的*键合、直接或借助连接基团而与其它部分结构(x-1)～(x-6)键合、或者与其它取代基键合。作为此处的连接基团，可列举出：任选在碳链中具有醚键、任选被氟原子取代的亚烷基等。此外，作为其它取代基，可列举出：任选在碳链中具有醚键且任选被氟原子取代的烷基、氟原子、羟基等。
[0233]
部分结构(x-6)所构成的芳香环可以为碳环，也可以为杂环。作为该碳环，除了苯环之外，可列举出萘、茚、蒽、芴等。此外，作为杂环，可列举出呋喃、噻吩、吡咯、吡啶等。
[0234]
从本化合物的耐久性和拒水拒油性的观点出发，连接基团x优选为前述式(x-1)～(x-5)或下述式(x-11)～(x-25)。
[0235][0236]
其中，
[0237]
q3为氢原子或氟原子，存在的多个q3任选相同或不同，
[0238]
r2为单键或任选在碳链中具有醚键且任选被氟原子取代的亚烷基。
[0239]
以下示出连接基团x的优选具体例。
[0240][0241]
需要说明的是，式中的l1表示部分结构(1)，其不构成连接基团x。
[0242]
存在的多个本化合物可以以1种单一的化合物的形式存在，也可以以2种以上的化合物的形式存在。
[0243]
本化合物的分子量优选为500～100,000、特别优选为1000～20,000。此外，本化合物包含2种以上化合物的混合物时，化合物的分子量分布(mw/mn)优选为1.0～2.0、特别优选为1.0～1.3。分子量和分子量分布处于该范围时，具有粘度低、蒸发成分少、溶解于溶剂时的均匀性优异的利点。本化合物的分子量和分子量分布可以利用凝胶渗透色谱进行测定，测定条件可以采用后述实施例中记载的条件。
[0244]
作为本化合物的具体例，可列举出下述化合物。需要说明的是，下式中的r1、l2和m如上所示，r3为碳原子数1～6的氟亚烷基，r4为直链或具有分枝的氟亚烷基，优选为碳原子数1～6的氟亚烷基，r3和r4构成式(4)中的有机基团a的一部分。此外，r
12
为碳原子数1～5的氟亚烷基，下式中的“r
12-ch
2-o”构成式(4)中的(r1o)m的一个“r1o”。
[0245]
[0246]
[0247]
[0248]
[0249]
[0250]
[0251][0252]
式(4)所示的化合物可通过例如使下式(4a)所示的前体与下式(5a)所示的化合物发生硅氢化反应来制造。
[0253]
x[-{c(q1)2}
n-o-(r1o)
m-a’]rꢀꢀꢀꢀ
(4a)
[0254]
hsil
pr10(3-p)
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(5a)
[0255]
其中，a’在末端具有烯属不饱和键，是在导入水解性甲硅烷基后相当于式(4)的a的有机基团，x、q1、r1、l、r
10
、n、m、r、p与式(4)相同。
[0256]
此外，式(4)所示的化合物可通过例如使下式(4b)所示的前体与下式(5b)所示的
化合物发生酰胺化反应来制造。
[0257]
x[-{c(q1)2}
n-o-(r1o)
m-a”{-c(＝o)ora}q]rꢀꢀꢀꢀꢀ
(4b)
[0258]
h2nrbsil
pr10(3-p)
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(5b)
[0259]
其中，a”是在合成后“a
”‑
c(＝o)-nh-r
b”相当于式(4)中的有机基团a的结构的有机基团，ra为烷基或氟烷基，rb为亚烷基或氟亚烷基，x、q1、r1、l、r
10
、n、m、r、p与式(4)相同。
[0260]
[含有含氟化合物的组合物]
[0261]
本发明的含有含氟化合物的组合物(以下也称为本组合物)是包含作为本化合物的前述含氟化合物、且包含除该本化合物之外的含氟化合物和下述杂质中的至少任意者的组合物。作为杂质，可列举出本化合物和其它含氟化合物的制造上不可避免的化合物等。需要说明的是，本组合物不包括后述的液体介质。
[0262]
作为其它含氟化合物，可列举出在本化合物的制造过程中副产的含氟化合物(以下也称为副产含氟化合物)、在与本化合物相同的用途中使用的公知的含氟化合物等。
[0263]
作为其它含氟化合物，优选使本化合物的特性降低的担心小的化合物。
[0264]
从充分发挥本化合物的特性的观点出发，其它含氟化合物的含量在本组成总量中优选小于50质量％、更优选小于30质量％、进一步优选小于10质量％。
[0265]
作为副产含氟化合物，可列举出合成本化合物时的未反应的含氟化合物等。本组合物包含副产含氟化合物时，可以将用于去除该副产含氟化合物或降低该副产含氟化合物量的精制工序简化。
[0266]
作为公知的含氟化合物，可列举出例如下述文献中记载的化合物。
[0267]
日本特开平11-029585号公报记载的全氟聚醚改性氨基硅烷、
[0268]
日本专利第2874715号公报记载的含硅的有机含氟聚合物、
[0269]
日本特开2000-144097号公报记载的有机硅化合物、
[0270]
日本特开2000-327772号公报记载的全氟聚醚改性氨基硅烷、
[0271]
日本特表2002-506887号公报记载的氟化硅氧烷、
[0272]
日本特表2008-534696号公报记载的有机硅化合物、
[0273]
日本专利第4138936号公报记载的氟化改性含氢聚合物、美国专利申请公开第2010/0129672号说明书、国际公开第2014/126064号、日本特开2014-070163号公报记载的化合物、
[0274]
国际公开第2011/060047号、国际公开第2011/059430号记载的有机硅化合物、
[0275]
国际公开第2012/064649号记载的含氟有机硅烷化合物、
[0276]
日本特开2012-72272号公报记载的含有氟氧亚烷基的聚合物、
[0277]
国际公开第2013/042732号、国际公开第2013/121984号、国际公开第2013/121985号、国际公开第2013/121986号、国际公开第2014/163004号、日本特开2014-080473号公报、国际公开第2015/087902号、国际公开第2017/038830号、国际公开第2017/038832号、国际公开第2017/187775号记载的含氟醚化合物、
[0278]
日本特开2014-218639号公报、国际公开第2017/022437号、国际公开第2018/079743号、国际公开第2018/143433号记载的含有全氟(聚)醚的硅烷化合物、
[0279]
日本特开2015-199906号公报、日本特开2016-204656号公报、日本特开2016-210854号公报、日本特开2016-222859号公报记载的含有氟聚醚基的聚合物改性硅烷
[0280]
国际公开第2018/216630号、国际公开第2019/039226号、国际公开第2019/039341号、国际公开第2019/039186号、国际公开第2019/044479号、日本特开2019-44158号公报、国际公开第2019/044479号、国际公开第2019/163282号记载的含氟醚化合物。
[0281]
此外，作为含氟化合物的市售品，可列举出信越化学工业公司制的ky-100系列(ky-178、ky-185、ky-195等)、agc公司制的afluid(注册商标)s550、大金工业公司制的optool(注册商标)dsx、optool(注册商标)aes、optool(注册商标)uf503、optool(注册商标)ud509等。
[0282]
本组合物中的本化合物的比例小于100质量％，优选为60质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为80质量％以上。
[0283]
本组合物包含其它含氟化合物时，本组合物中的其它含氟化合物相对于本化合物和其它含氟化合物的合计的比例优选为40质量％以下，更优选为30质量％以下，进一步优选为20质量％以下。
[0284]
本组合物中的本化合物和其它含氟化合物的合计的比例优选为80质量％以上，更优选为85质量％以上。
[0285]
如果本化合物和其它含氟化合物的含量在前述范围内，则表面层的拒水拒油性、耐摩擦性、指纹污垢去除性、润滑性、外观优异。
[0286]
[涂布液]
[0287]
本发明的涂布液(以下也称为本涂布液)包含本化合物或本组合物，且包含液体介质。本涂布液只要为液状即可，可以为溶液，也可以为分散液。
[0288]
本涂布液只要包含本化合物或本组合物即可，可以包含在本化合物的制造工序中生成的副产物等杂质。
[0289]
本化合物或本组合物的浓度在本涂布液中优选为0.001～40质量％，优选为0.01～20质量％，更优选为0.1～10质量％。
[0290]
作为液体介质，优选为有机溶剂。有机溶剂可以为氟系有机溶剂，也可以为非氟系有机溶剂，还可以包含两种溶剂。
[0291]
作为氟系有机溶剂，可列举出氟化烷烃、氟化芳香族化合物、氟烷基醚、氟化烷基胺、氟醇等。
[0292]
作为氟化烷烃，优选为碳原子数4～8的化合物。作为市售品，可列举出例如c6f
13
h(agc公司制、asahiklin(注册商标)ac-2000)、c6f
13
c2h5(agc公司制、asahiklin(注册商标)ac-6000)、c2f5chfchfcf3(chemours公司制、vertrel(注册商标)xf)等。
[0293]
作为氟化芳香族化合物，可列举出例如六氟苯、三氟甲基苯、全氟甲苯、双(三氟甲基)苯等。
[0294]
作为氟烷基醚，优选为碳原子数4～12的化合物。作为市售品，可列举出例如cf3ch2ocf2cf2h(agc公司制、asahiklin(注册商标)ae-3000)、c4f9och3(3m公司制、novec(注册商标)7100)、c4f9oc2h5(3m公司制、novec(注册商标)7200)、c2f5cf(och3)c3f7(3m公司制、novec(注册商标)7300)等。
[0295]
作为氟化烷基胺，可列举出例如全氟三丙基胺、全氟三丁基胺等。
[0296]
作为氟醇，可列举出例如2,2,3,3-四氟丙醇、2,2,2-三氟乙醇、六氟异丙醇等。
[0297]
作为非氟系有机溶剂，优选为仅由氢原子和碳原子组成的化合物、以及仅由氢原
子、碳原子和氧原子组成的化合物，可列举出烃系有机溶剂、醇系有机溶剂、酮系有机溶剂、醚系有机溶剂、酯系有机溶剂。
[0298]
本涂布液优选包含75～99.999质量％的液体介质，优选包含85～99.99质量％。特别优选包含90～99.9质量％。
[0299]
本涂布液中，除了包含本化合物或本组合物且包含液体介质之外，可以在不损害本发明效果的范围内，包含除此之外的其它成分。
[0300]
作为其它成分，可列举出例如促进水解性甲硅烷基的水解和缩合反应的酸催化剂、碱性催化剂等公知的添加剂。
[0301]
本涂布液中的其它成分的含量优选为10质量％以下，更优选为1质量％以下。
[0302]
本涂布液的本化合物与其它成分的合计浓度或者本组合物与其它成分的合计浓度(以下也称为固体成分浓度)优选为0.001～40质量％，优选为0.01～20质量％，更优选为0.01～10质量％，更优选为0.01～1质量％。涂布液的固体成分浓度是由加热前的涂布液的质量和在120℃的对流式干燥机中加热4小时后的质量算出的值。
[0303]
[物品]
[0304]
图1是表示本发明的物品的一例的示意剖视图。本发明的第一物品是依次具有基材12、基底层14和拒水拒油层22的物品20，
[0305]
前述基底层含有包含硅的氧化物，前述拒水拒油层含有前述本化合物的缩合物。
[0306]
上述第一物品中的基材的材质和形状只要根据本物品的用途等来适当选择即可。作为基材的材质，可列举出玻璃、树脂、蓝宝石、金属、陶瓷、石头、它们的复合材料。玻璃可以经化学强化。尤其是，作为要求拒水拒油性的基材，可列举出触摸面板用基材、显示器用基材、构成电子设备壳体的基材等。触摸面板用基材、显示器用基材具有透光性。“具有透光性”是指基于jis r3106:1998(iso 9050:1990)的垂直入射型可见光透射率为25％以上。作为触摸面板用基材的材料，优选为玻璃或透明树脂。
[0307]
基材可以是对设置有基底层的面实施电晕放电处理、等离子体处理、等离子体接枝聚合处理等表面处理而得的基材。对于实施了表面处理的表面，基材与基底层的粘接性更优异，其结果，拒水拒油层的耐磨耗性进一步提高。作为表面处理，从拒水拒油层的耐磨耗性更优异的观点出发，优选为电晕放电处理或等离子体处理。
[0308]
基底层是至少含有包含硅的氧化物的层，可以进一步具有其它元素。通过使基底层含有硅氧化物，从而前述本化合物的部分结构(2)发生脱水缩合，与基底层之间形成si-o-si键，形成磨耗耐久性优异的拒水拒油层。
[0309]
基底层中的硅氧化物的含量只要是65质量％以上即可，优选为80质量％以上、更优选为85质量％以上、进一步优选为90质量％以上。如果硅氧化物的含量为前述范围的下限值以上，则在基底层中充分形成si-o-si键，充分确保基底层的机械特性。硅氧化物的含量是从基底层的质量中去除其它元素的总含量(在氧化物的情况下是经氧化物换算的量)而得到的余量。
[0310]
从拒水拒油层的耐久性的观点出发，基底层中的氧化物优选还含有选自碱金属元素、碱土金属元素、铂族元素、硼、铝、磷、钛、锆、铁、镍、铬、钼和钨中的1种以上元素。通过含有这些元素，从而基底层与前述本化合物的键合变强，耐磨耗性提高。
[0311]
基底层包含选自铁、镍和铬中的1种以上时，它们的总含量以相对于硅氧化物的比
例计优选为10～1100质量ppm、更优选为50～1100质量ppm、进一步优选为50～500质量ppm、特别优选为50～250质量ppm。
[0312]
基底层包含选自铝和锆中的1种以上时，它们的总含量优选为10～2500质量ppm、更优选为15～2000质量ppm、进一步优选为20～1000质量ppm。
[0313]
基底层包含碱金属元素时，它们的总含量优选为0.05～15质量％，更优选为0.1～13质量％，进一步优选为1.0～10质量％。需要说明的是，作为碱金属元素，可列举出锂、钠、钾、铷和铯。
[0314]
基底层包含铂族元素时，它们的总含量优选为0.02质量ppm以上且800质量ppm以下，更优选为0.04质量ppm以上且600质量ppm以下，进一步优选为0.7质量ppm以上且200质量ppm以下。需要说明的是，作为铂族元素，可列举出铂、铑、钌、钯、锇、铱。
[0315]
基底层包含选自硼和磷中的1种以上时，从拒水拒油层的耐磨耗性的观点出发，它们的总含量以硼和磷的总摩尔浓度相对于硅的摩尔浓度之比计优选为0.003～9，优选为0.003～2，进一步优选为0.003～0.5。
[0316]
基底层包含碱土金属元素时，从拒水拒油层的耐磨耗性的观点出发，它们的总含量以碱土金属元素的总摩尔浓度相对于硅的摩尔浓度之比计优选为0.005～5，优选为0.005～2，进一步优选为0.007～2。需要说明的是，作为碱土金属元素，可列举出锂、钠、钾、铷和铯。
[0317]
从提高本化合物的粘接性、提高物品的拒水拒油性和耐磨耗性的观点出发，基底层优选为包含碱金属原子的硅氧化物层。其中，在该硅氧化物层中，距离与前述拒水拒油层接触的面为0.1～0.3nm深的区域内的碱金属原子的浓度的平均值优选为2.0
×
10
19
atoms/cm3以上。另一方面，从充分确保硅氧化物层的机械特性的观点出发，前述碱金属原子的浓度的平均值优选为4.0
×
10
22
atoms/cm3以下。
[0318]
基底层的厚度优选为1～200nm、特别优选为2～20nm。如果基底层的厚度为前述范围的下限值以上，则容易充分获得利用基底层来提高粘接性的效果。如果基底层的厚度为前述范围的上限值以下，则基底层自身的耐磨耗性变高。作为测定基底层的厚度的方法，可列举出利用电子显微镜(sem、tem等)进行基底层的截面观察的方法；使用光干涉膜厚计、光谱椭偏仪、高低差仪等的方法。
[0319]
基底层的形成方法可列举出例如在基材表面蒸镀具有期望基底层组成的蒸镀材料的方法等。
[0320]
作为蒸镀法的一例，可列举出真空蒸镀法。真空蒸镀法是使蒸镀材料在真空槽内蒸发并附着于基材表面的方法。
[0321]
蒸镀时的温度(例如，使用真空蒸镀装置时，是设置蒸镀材料的舟的温度)优选为100～3000℃、特别优选为500～3000℃。
[0322]
蒸镀时的压力(例如，使用真空蒸镀装置时，是设置蒸镀材料的槽内的绝对压力)优选为1pa以下、特别优选为0.1pa以下。
[0323]
使用蒸镀材料来形成基底层时，可以使用1种蒸镀材料，也可以使用包含不同元素的两种以上的蒸镀材料。
[0324]
作为蒸镀材料的蒸发方法，可列举出：将蒸镀材料在高熔点金属制的电阻加热用舟上熔融而使其蒸发的电阻加热法；将电子束照射至蒸镀材料，将蒸镀材料直接加热而将
表面熔融使其蒸发的电子枪法等。作为蒸镀材料的蒸发方法，从因能够局部加热而能够使高熔点物质也蒸发的观点、因电子束照射不到的部位为低温而不用担心与容器发生反应、混入杂质的观点出发，优选为电子枪法。作为电子枪法中使用的蒸镀材料，从即便产生气流也难以飞散的观点出发，优选为熔融粒状体或烧结体。
[0325]
基底层上的拒水拒油层含有前述本化合物的缩合物。本化合物的缩合物包括：因本化合物中的水解性甲硅烷基发生水解反应而形成硅烷醇基(si-oh)，硅烷醇基在分子间发生缩合反应而形成si-o-si键的物质；以及，本化合物中的硅烷醇基与基底层的表面的硅烷醇基或si-om基(其中，m为碱金属元素)发生缩合反应，形成si-o-si键的物质。此外，拒水拒油层可以包含除了本化合物之外的含氟化合物的缩合物。即，拒水拒油层以含氟化合物的一部分或全部反应性甲硅烷基发生了缩合反应的状态包含具有反应性甲硅烷基的含氟化合物。
[0326]
拒水拒油层的厚度优选为1～100nm，特别优选为1～50nm。如果拒水拒油层的厚度为前述范围的下限值以上，则能够充分获得由拒水拒油层实现的效果。如果拒水拒油层的厚度为前述范围的上限值以下，则利用效率高。
[0327]
拒水拒油层的厚度是利用薄膜分析用x射线衍射计而得到的厚度。拒水拒油层的厚度可通过使用薄膜分析用x射线衍射计，利用x射线反射率法获得反射x射线的干涉图案，并由干涉图案的振动周期来计算。
[0328]
本发明的第二物品是依次具有基材12和拒水拒油层22的物品20，
[0329]
前述基材含有包含硅的氧化物，
[0330]
前述拒水拒油层含有前述本化合物的缩合物。
[0331]
第二物品的基材具有前述第一物品中的基底层的组成，因此，即便在基材上直接形成拒水拒油层，拒水拒油层的磨耗耐久性也优异。
[0332]
第二物品中的基材的材质只要具有前述基底层的组成即可，例如可以为玻璃基材等。基材的材质的详情与前述基底层的材质相同，因此，省略此处的说明。此外，拒水拒油层的构成也与前述第一物品相同，因此，省略此处的说明。
[0333]
[物品的制造方法]
[0334]
本发明所述的物品的制造方法是使用前述含氟化合物、前述含有含氟化合物的组合物或前述涂布液，并利用干涂法或湿涂法形成拒水拒油层的方法。
[0335]
本化合物和本组合物可以直接用于干涂法。本化合物和本组合物适合于通过干涂法来形成密合性优异的表面层。作为干涂法，可列举出真空蒸镀、cvd、溅射等方法。从抑制本化合物的分解的观点和装置简便度的观点出发，可适合地利用真空蒸镀法。
[0336]
真空蒸镀可以使用在由铁、钢等金属材料形成的金属多孔体上担载本化合物而得的粒料状物质。担载有本化合物的粒料状物质可通过向金属多孔体浸渗本化合物的溶液，进行干燥而去除液体介质来制造。作为本化合物的溶液，可以使用本涂布液。
[0337]
本涂布液可适合地用于湿涂法。作为湿涂法，可列举出旋涂法、揩涂法、喷涂法、挤压涂布法、浸涂法、模涂法、喷墨法、流涂法、辊涂法、流延法、langmuir-blodgett法、凹版涂布法等。
[0338]
为了提高表面层的耐摩擦性，根据需要可以进行用于促进本化合物与基材的反应的操作。作为该操作，可列举出加热、加湿、光照射等。例如，在具有水分的大气中将形成有
表面层的基材加热，从而能够促进水解性基团的水解反应、基材表面的羟基等与硅烷醇基的反应、由硅烷醇基的缩合反应实现的硅氧烷键的生成等反应。
[0339]
在表面处理后，表面层中的未与其它化合物、基材发生化学键合的化合物可根据需要去除。作为具体方法，可列举出例如向表面层流延溶剂的方法、用浸渗有溶剂的布进行擦拭的方法等。
[0340]
实施例
[0341]
以下，使用实施例更详细地说明本发明，但本发明不限定于这些实施例。需要说明的是，例2、例3、例4、例5、例8、例9和例10是实施例，例1、例6、和例7是比较例。此外，以下，将ccl2fcclf2记作r-113，将cclf2cf2ccl2cf2cf3记作r-419，将cf3ch2ocf2cf2h记作ae-3000，将c6f
13
h记作ac-2000，将cf3cf2chcl2记作ak-225。
[0342]
[例1]化合物i的合成
[0343]
(合成例1-1)
[0344]
向烧瓶中投入聚氧乙烯甘油醚(日本油脂公司制、uniox g1200、下式中的a1 a2 a3的平均为27)10g，将内部温度保持至10℃以下，同时向其中滴加fcocf(cf3)ocf2cf(cf3)o(cf2)2cf3(34.3g)。在滴加结束后，以25℃进行搅拌，回收粗液。进而，将粗液减压过滤，其后，将回收液在真空干燥机进行干燥。将此处得到的粗液溶解于ak-225，用饱和碳酸氢钠水溶液进行水洗，回收有机相。进而，向回收的有机相中添加硫酸镁，进行搅拌。其后，去除硫酸镁，用蒸发仪馏去ak-225，在室温下得到液态的化合物(1-1)(52.8g)。
[0345]
聚氧乙烯甘油醚
[0346][0347]
·
化合物(1-1)
[0348][0349]
(合成例1-2)
[0350]
向500ml的哈斯特洛合金制的高压釜中添加r-113(312g)，进行搅拌，保持至25℃。在高压釜气体出口处串联设置有保持至0℃的冷却器、naf粒料填充层和保持至-10℃的冷却器。设置用于将从保持至-10℃的冷却器凝集的液体返回至高压釜中的液体返送管线。吹入1小时的氮气后，以16.97l/小时的流速吹入1小时的用氮气稀释至20％的氟气(以下记作20％氟气)。
[0351]
接着，以相同的流速吹入20％氟气，同时注入将合成例1-1中得到的化合物(1-1)
(15g)溶解于r-113(200g)而得的溶液。
[0352]
接着，以相同的流速吹入20％氟气，同时注入r-113溶液6ml。进而，吹入1小时的氮气。
[0353]
在反应结束后，回收粗液，通过真空干燥而馏去溶剂，得到在室温下为液态的产物(21.4g)。对该产物进行分析的结果可确认：其是合成例1-1中得到的化合物(1-1)中的氢原子实质上全部(99.9摩尔％以上)被氟原子取代的下述化合物(1-2)。
[0354]
·
化合物(1-2)
[0355][0356]
(合成例1-3)
[0357]
对投入有搅拌片的50ml圆底烧瓶充分进行氮气置换。向该圆底烧瓶中添加1,1,3,4-四氯六氟丁烷(25g)、kf(0.20g)和合成例1-2中得到的化合物(1-2)(20g)，剧烈搅拌并保持至120℃。在圆底烧瓶出口处串联设置有保持至20℃的冷却器和干冰-乙醇冷却管，进行氮封。
[0358]
将内部温度降低至25℃，接着，对冷却管设置真空泵而使体系内保持为减压，馏去溶剂和反应副产物，得到在室温下为液态的产物(13.3g)。
[0359]
对产物进行分析的结果可确认：生成下述化合物(1-3)。产物中的-cof基团的数量相对于化合物(1-2)中的酯键的总数的比例为99摩尔％以上。
[0360]
·
化合物(1-3)
[0361][0362]
(合成例1-4)
[0363]
向装有合成例1-3中得到的化合物(1-3)的圆底烧瓶中投入kf(0.9g)、r-113(5.0g)，将内部温度保持至25℃，同时剧烈搅拌。进而，将内部温度保持至25℃以上，同时缓慢滴加甲醇(0.5g)。
[0364]
停止搅拌，用加压过滤器对粗液进行过滤，去除kf。接着，用蒸发仪将r-113和过量的甲醇完全去除。在通入硅胶柱后，馏去溶剂，得到在室温下为液态的产物(13.5g)。
[0365]
对产物进行分析的结果可确认，生成下述化合物(1-4)。化合物(1-3)中的全部-cof基进行了甲酯化。
[0366]
·
化合物(1-4)
[0367]
[0368]
(合成例1-5)
[0369]
参考wo2009/008380的例2的合成，向100ml的圆底烧瓶内投入10g合成例1-4中得到的化合物(1-4)、2.0g下述aps，以25℃搅拌2小时。在反应结束后，减压馏去未反应的aps和副产的甲醇，得到在室温下为液态的化合物11.4g。
[0370]
nh2ch2ch2ch2si(och3)3：aps
[0371]
根据该化合物的nmr分析结果可确认：其是化合物(1-4)中的-cf2c(o)och3的98.0摩尔％被转化为-cf2c(o)nhch2ch2ch2si(och3)3而不存在-(ocf2o)-单元的化合物。即，下述化合物i是主要产物。化合物i的数均分子量为4150。
[0372]
·
化合物i
[0373][0374]
[例2]化合物ii的合成
[0375]
(合成例2-1)
[0376]
向烧瓶内投入下式所示的聚氧乙烯聚甘油醚(sc-e1500；式中的b1 b2 b3 b4的平均为30)20g、20g的ac-2000、5.7g的naf和1.6g的吡啶，将内部温度保持至10℃以下，同时剧烈搅拌，鼓入氮气。将内部温度保持至5℃以下，同时向烧瓶内滴加134.1g的下述(hfpo)3。在滴加结束后，以50℃进行搅拌，以25℃进行搅拌，回收粗液。将粗液减压过滤后，将回收液在真空干燥机进行干燥，得到粗液。将粗液溶解于ac-2000，用饱和碳酸氢钠水溶液进行水洗，回收有机相。向有机相中添加硫酸镁，进行搅拌后，进行加压过滤而去除硫酸镁，利用蒸发仪从回收液中馏去ac-2000，得到在室温下为液态的化合物45.7g。根据该化合物的nmr分析结果可确认：其是下述化合物(2-1)。
[0377][0378]
(合成例2-2)
[0379]
向3000ml的哈斯特洛合金制的高压釜内投入1560g的r-113，进行搅拌，保持至25℃。在高压釜气体出口处串联设置有保持至0℃的冷却器、naf粒料填充层和保持至-10℃的冷却器。此外，设置用于将从保持至-10℃的冷却器凝集的液体返回至高压釜中的液体返送管线。
[0380]
向高压釜内吹入1小时的氮气后，以24.8l/小时的流速吹入1小时的用氮气稀释至10％的氟气(以下记作10％氟气)。接着，以相同的流速向高压釜内吹入10％氟气，同时注入将化合物(2-1)30.1g溶解于1350g的r-113而得的溶液。接着，以相同的流速向高压釜内吹入10％氟气，同时注入12ml的r-113。此时，将内部温度变更为40℃。接着，注入溶解有1质量％苯的r-113溶液6ml。进而，吹入1小时的氟气后，吹入1小时的氮气。
[0381]
在反应结束后，通过真空干燥而馏去溶剂，得到在室温下为液态的化合物49.8g。根据该化合物的nmr分析结果可确认：化合物(2-1)的氢原子的总数的99.9％被氟原子取代而成的下述化合物(2-2)是主要成分。
[0382]
·
化合物(2-2)
[0383][0384]
(合成例2-3)
[0385]
向装有化合物(2-2)40g的茄型烧瓶内投入40.0g的ac-2000，将内部温度保持至25℃，同时剧烈搅拌。将内部温度保持至25℃以上，同时向茄型烧瓶内缓慢滴加乙醇3.2g。
[0386]
在8小时后停止搅拌，对粗液进行加压过滤，去除kf。接着，利用蒸发仪从回收液中将ac-2000和过量的乙醇完全去除。在通入硅胶柱后，馏去溶剂，得到在室温下为液态的化合物27.9g。根据该化合物的nmr分析结果可确认：化合物(2-2)的酰氟全部被酯化而成的下述化合物(2-3)是主要产物。
[0387]
·
化合物(2-3)
[0388][0389]
(合成例2-4)
[0390]
向100ml圆底烧瓶内投入5g的化合物(2-3)、1.2g的aps，以25℃进行搅拌。在反应结束后，减压馏去未反应的aps和副产的乙醇，得到在室温下为液态的化合物5.9g。
[0391]
根据该化合物的nmr分析结果可确认：其是化合物(2-3)中的-cf2c(o)och2ch3的95.0摩尔％被转化为-cf2c(o)nhch2ch2ch2si(och3)3而不存在-(ocf2o)-单元的化合物。即，下述化合物ii是主要产物。化合物ii的数均分子量为4700。
[0392]
·
化合物ii
[0393]
[0394]
[例3]化合物iii的合成
[0395]
(合成例3-1)
[0396]
将10g通过前述合成例1-4的方法而得到的化合物(1-4)、150g的ac-2000和150g四氢呋喃进行混合，在氮气气流下添加硼烷-四氢呋喃络合物3.1g，以25℃进行搅拌。用蒸发仪将溶剂馏去，向残留物中添加2mol/l盐酸，用ac-2000进行提取，将提取物浓缩而得到粗产物(11.95g)。将粗产物用硅胶柱进行精制。通过1h-nmr和
19
f-nmr而确认生成了8.8g的下述化合物(3-1)。
[0397]
，化合物(3-1)
[0398][0399]
(合成例3-2)
[0400]
向100ml的两口茄型烧瓶中投入8.0g的化合物(3-1)、8.0g的1,3-双(三氟甲基)苯、1.2g的cf3so2cl和0.7g三乙基胺，在氮气气氛下以25℃进行搅拌。在反应结束后，添加ac-2000，用水和饱和食盐水进行清洗，回收有机相。将回收的有机相用蒸发仪进行浓缩，得到化合物(3-2)8.8g。
[0401]
·
化合物(3-2)
[0402][0403]
(合成例3-3)
[0404]
向50ml的茄型烧瓶内投入8.5g的化合物(3-2)、8.5g的1,3-双(三氟甲基)苯、3.2g的hn(ch2ch＝ch2)2和0.7g三乙基胺，在氮气气氛下以90℃进行搅拌。在反应结束后，添加ak-225，用水和饱和食盐水进行清洗，回收有机相后，用蒸发仪进行浓缩。其后，在实施硅胶柱层析后，馏去溶剂，得到化合物(3-3)7.9g。
[0405]
·
化合物[3-3)
和200g的1,3-双三氟甲基苯，进行氮封，以70℃进行搅拌。用2n的hcl停止反应，用ac-2000进行提取，并进行减压浓缩。其后，在实施硅胶柱后，馏去溶剂，得到下述化合物(4-2)38.4g。
[0419]
·
化合物4a
[0420][0421]
其中，p平均为7.2，q平均为9.2。
[0422]
·
化合物(4-2)
[0423][0424]
(合成例4-3)
[0425]
向连接有回流冷凝器的200ml茄型烧瓶中投入20.2g的前述化合物(4-2)、5.1g的naf粉末、40.4g的ac-2000，添加19.5g的下述(hfpo)2。在氮气气氛下，以40℃进行搅拌后，以25℃搅拌整夜。利用加压过滤器将naf粉末去除后，减压馏去过量的(hfpo)2和ac-2000。利用硅胶柱层析去除高极性的杂质，得到23.1g的下述化合物(4-3)。
[0426]
·
化合物（hfpo）2[0427][0428]
·
化合物(4-3)
[0429][0430]
(合成例4-4)
[0431]
准备高压釜(镍制、内容积500ml)，在高压釜的气体出口处串联设置有保持至0℃的冷却器、naf粒料填充层和保持至-10℃的冷却器。此外，设置将从保持至-10℃的冷却器凝集的液体返回至高压釜中的液体返送管线。
[0432]
向高压釜中投入250g的r-419，保持至25℃，同时进行搅拌。以25℃向高压釜中吹入1小时的氮气后，以25℃、2.0l/小时的流速吹入1小时的20％氟气。接着，以相同的流速吹入20％氟气，同时向高压釜中注入将20g前述化合物(4-3)溶解于80g的r-419而得的溶液。
[0433]
接着，以相同的流速吹入20％氟气，同时将高压釜的内部压力加压至0.15mpa(表压)为止。将在r-419中包含0.015g/ml苯的苯溶液15ml从25℃加热至40℃，同时注入至高压釜内，关闭高压釜的苯溶液注入口。在搅拌后，再次将苯溶液10ml在保持40℃的同时进行注入，关闭注入口。将同样的操作进一步反复3次。苯的注入总量为0.82g。
[0434]
进而，以相同的流速吹入20％氟气，同时继续搅拌。接着，将高压釜内的压力设为大气压，吹入1小时的氮气。将高压釜的内容物用蒸发仪进行浓缩，得到20.9g的下述化合物(4-4)。
[0435]
·
化合物(4-4)
[0436][0437]
(合成例4-5)
[0438]
向50ml的茄型烧瓶中投入15.0g的前述化合物4-4、0.7g的naf和15g的ac-2000。在氮气气氛下，添加甲醇0.6g，以50℃进行搅拌后，以25℃进行搅拌。利用加压过滤器将naf去除后，将反应混合物用蒸发仪进行浓缩，得到12.6g的下述化合物(4-5)。
[0439]
·
化全物(4-5
[0440][0441]
(合成例4-6)
[0442]
在200ml的三口茄型烧瓶内，使氯化锂0.18g溶解于乙醇18.5g。向其中添加化合物(4-5)12.5g，用冰浴进行冷却，同时缓慢滴加使氢化硼钠1.9g溶解于乙醇45g而得的溶液。卸下冰浴，缓慢升温至25℃，同时继续搅拌。在以25℃进行搅拌后，滴加盐酸水溶液直至液性呈现酸性为止。添加30ml的ac-2000，用水和饱和食盐水进行清洗，回收有机相。将所回收的有机相用蒸发仪进行浓缩，得到11.4g的下述化合物(4-6)。
[0443]
·
化合物(4-6)
[0444][0445]
(合成例4-7)
[0446]
向100ml的两口茄型烧瓶中添加10.0g的前述化合物(4-6)、0.5g的四丁基硫酸氢铵、0.7g的brch2ch＝ch2和0.3g的20％氢氧化钾水溶液，以60℃搅拌8小时。在反应结束后，添加ac-2000，用稀盐酸水溶液进行清洗，回收有机相。将所回收的有机相通入硅胶柱中，将回收的溶液用蒸发仪进行浓缩，得到10.1g的化合物(4-7)。
[0447]
·
化合物(4-7)
[0448][0449]
(合成例4-8)
[0450]
向安装有回流冷凝器、温度计和搅拌器的100ml四颈烧瓶中投入前述化合物(4-7)8.5g、1,3-双(三氟甲基)苯8.5g、三乙酰氧基甲基硅烷0.12g、三氯硅烷0.93g，在氮气气流下以5℃进行搅拌。接着，添加包含1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的pt络合物2％的二甲苯溶液0.1ml后，使其升温至60℃，在该温度下进行搅拌。其后，通过在减压下馏去挥
发成分而得到下述化合物(4-8)。
[0451]
·
化合物(4-8)
[0452][0453]
(合成例4-9)
[0454]
向安装有回流冷凝器、温度计和搅拌器的100ml四颈烧瓶中投入前述化合物(4-8)7.0g、1,3-双(三氟甲基)苯20g，在氮气气流下以5℃进行搅拌。接着，添加包含烯丙基溴化镁1mol/l的二乙基醚溶液11.4ml后，升温至25℃，以该温度进行搅拌。其后，冷却至5℃为止，添加甲醇5ml后，升温至25℃，并过滤不溶物。接着，在减压下馏去挥发成分后，用ac-2000稀释不挥发成分，用甲醇进行清洗，在减压下馏去挥发成分。接着，实施硅胶柱层析(洗脱液：ac-2000)后，馏去溶剂，得到7.0g的下述化合物(4-9)。
[0455]
·
化合物(4-9)
[0456][0457]
(合成例4-10)
[0458]
向100ml的pfa制茄型烧瓶中投入5.2g的前述化合物(4-9)、0.26g的铂/1,3-二乙烯基1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、1.17g的hsi(och3)3、0.025g的二甲基亚砜和2.1g的1,3-双(三氟甲基)苯，以40℃进行搅拌。在反应结束后，减压
馏去溶剂等，用孔径为0.2μm的膜滤器进行过滤，得到5.4g的下述化合物iv。产物的数均分子量为8620。
[0459]
·
化合物iv
[0460][0461]
[例5]化合物v的合成
[0462]
(合成例5-1)
[0463]
向300ml的pfa制茄型烧瓶中添加碳酸钾21.3g、赤藓醇5g和21.5g的ae-3000。以120℃搅拌混合物，同时缓慢添加42.9g的cf2＝cfo-cf2cf2cf2ch2oh，并加热搅拌。将反应混合物冷却后，添加100g的ae-3000、45g的2n盐酸水溶液，使反应停止。用水和饱和食盐水进行清洗，回收有机相后，将回收的有机层用蒸发仪进行浓缩，得到32.6g的化合物(5-1)。
[0464]
·
化合物《5-1)
[0465][0466]
(合成例5-2)
[0467]
向连接有回流冷凝器的200ml茄型烧瓶中添加合成例5-1中得到的化合物(5-1)20g、碳酸钾17.7g。在氮气气氛下加热至100℃，同时滴加cf2＝cfo-cf2cf2cf2ch2oh。在升温至120℃并加以保持的状态下进一步搅拌后，添加盐酸水溶液，处理过量的碳酸钾，添加水和ae-3000，进行分液处理。在水洗后，回收有机相，用蒸发仪进行浓缩，由此得到高粘度的低聚物。再次用ae-3000进行稀释，在硅胶柱色谱中展开，进行分取。关于各级分，由
19
f-nmr的积分值求出单元数m11、m12、m13和m14的平均值。得到将下式中m11、m12、m13和m14的平均值为3～5的级分合并而得的化合物(5-2)28.3g。
[0468]
·
化合物(5-2)
[0469][0470]
(合成例5-3)
[0471]
向连接有回流冷凝器的100ml茄型烧瓶中投入20.5g的合成例5-2中得到的化合物(5-21)、4.3g的naf粉末、41g的ac-2000，添加9.82g的cf3cf2cf2ocf(cf3)cof。在氮气气氛下，以40℃搅拌24小时后，以25℃进行搅拌。用加压过滤器将naf粉末去除后，减压馏去过量的cf3cf2cf2ocf(cf3)cof和ac-2000。利用硅胶柱层析去除高极性的杂质，得到下式中的m11 m12 m13 m14的平均值为20的化合物(5-3)24.2g。
[0472]
·
化合物(5-3)
[0473][0474]
(合成例5-4)
[0475]
准备高压釜(镍制、内容积500ml)，在高压釜的气体出口处串联设置有保持至0℃的冷却器、naf粒料填充层和保持至-10℃的冷却器。此外，设置将从保持至-10℃的冷却器中凝集的液体返回至高压釜中的液体返送管线。
[0476]
向高压釜中投入312g的r-113，保持至25℃，同时进行搅拌。以25℃向高压釜中吹入1小时的氮气后，以25℃、2.0l/小时的流速吹入1小时的20％氟气。接着，以相同的流速吹入20％氟气，同时向高压釜中注入使合成例5-3中得到的化合物(5-3)20.2g溶解于84g的r-113而得的溶液。
[0477]
接着，以相同的流速吹入20％氟气，同时将高压釜的内部压力加压至0.15mpa(表压)。将在r-113中包含0.015g/ml苯的苯溶液9ml从25℃加热至40℃，同时注入至高压釜内，关闭高压釜的苯溶液注入口。在搅拌15分钟后，再次将苯溶液6ml在保持至40℃的同时进行注入，关闭注入口。将同样的操作进一步反复3次。苯的注入总量为0.35g。
[0478]
进而，以相同的流速吹入20％氟气，同时继续搅拌1小时。接着，使高压釜内的压力为大气压，吹入1小时的氮气。将高压釜的内容物用蒸发仪进行浓缩，得到22.3g的化合物(5-4)。
[0479]
·
化合物（5-4）
[0480][0481]
(合成例5-5)
[0482]
向100ml茄型烧瓶中投入15.0g的例5-4中得到的化合物(5-4)、0.8g的naf和15g的
ac-2000。在氮气气氛下，添加甲醇0.6g，以50℃进行搅拌后，以25℃进行搅拌。利用加压过滤器将naf去除后，将反应混合物用蒸发仪进行浓缩，得到化合物(5-5)12.2g。
[0483]
·
化合物(5-5)
[0484][0485]
(合成例5-6)
[0486]
向50ml茄型烧瓶中投入10.0g的合成例5-5中得到的化合物(5-5)和1.1g的h2n-ch
2-c(ch2ch＝ch2)3，并进行搅拌。由nmr确认到化合物(5-5)全部转化为化合物(5-6)。此外，生成了作为副产物的甲醇。将所得溶液用9.0g的ae-3000进行稀释，用硅胶柱层析进行精制，得到化合物(5-6)8.4g。
[0487]
·
化合物(5-6)
[0488][0489]
(合成例5-7)
[0490]
向50ml的pfa制容器中投入5.5g的化合物(5-6)、0.55g的铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、1.4g的hsi(och3)3、0.03g的二甲基亚砜和5.5g的1,3-双(三氟甲基)苯，以40℃搅拌4小时。在反应结束后，减压馏去溶剂等，用膜滤器进行过滤，得到包含化合物(5-6)的3个烯丙基经硅氢化的化合物v与化合物(5-6)的3个烯丙基的一部分或全部异构化成内烯烃(-ch＝chch3)的副产物在内的组合物5.3g。化合物v的数均分子量为7630。
[0491]
·
化合物v
[0492][0493]
[例6]化合物vi的合成
[0494]
向100ml圆底烧瓶内投入33.1g的cf3o[cf2cf2o]acf2c(o)och2ch3、3.7g的nh2ch2ch2ch2si(och3)3，在室温下搅拌，得到下式所示的化合物vi(数均分子量为1100)。
[0495]
cf3o(cf2cf2o)ncf2c(o)nh(ch2)3si(och3)
[0496]
[例7]化合物vii的合成
[0497]
通过国际公开第2014/126064号单行本的化合物(ii-2)的合成方法，得到下式所示的化合物vii(数均分子量为4930)。
[0498]
cf3cf2ocf2cf2o(cf2cf2cf2cf2ocf2cf2o)
13
cf2cf2cf2c(o)nhch2ch2ch2si(och3)3[0499]
[例8]化合物viii的合成
[0500]
(合成例8-1)
[0501]
向100cc的耐压反应器中投入10g的前述化合物(1-4)、50g的1,3-双三氟苯、5g的2.0m氨-甲醇溶液，在室温下搅拌。其后，馏去溶剂，得到9.8g的下述化合物(8-1)。
[0502]
·
化合物(8-1)
[0503]
[0504]
其中，m15 m16 m17的平均为27。
[0505]
(合成例8-2)
[0506]
向300cc的茄型烧瓶中添加9g的化合物(8-1)、45g的ac-6000、18g的二乙基醚，在冰浴下搅拌。其后，缓慢添加氢化锂铝0.7g，在室温下搅拌20小时。其后，添加硫酸钠饱和水溶液0.3cc，将析出的固体通过硅藻土过滤来去除。将所得滤液浓缩后，利用硅胶柱层析进行精制，得到5.2g的目标化合物(8-2)。
[0507]
·
化合物(8-2)
[0508][0509]
(合成例8-3)
[0510]
向50cc的茄型烧瓶中添加0.9g的ho(c＝o)ch(ch2ch＝ch2)2、10ml的二氯甲烷、0.9ml的草酰氯，在冰冷下搅拌，其后，添加dmf(n,n-二甲基甲酰胺)0.1g。其后，在室温下搅拌后，进行浓缩，得到0.9g的cl(c＝o)ch(ch2ch＝ch2)2。
[0511]
另行向50cc的茄型烧瓶中添加5g的化合物(8-2)、1.4ml的三乙基胺，添加上述cl(c＝o)ch(ch2ch＝ch2)2和1,3-双三氟甲基苯20ml。进行搅拌，馏去溶剂。将所得粗体利用硅胶柱层析进行精制，得到1.7g的化合物(8-3)。
[0512]
·
化合物(8-3
[0513][0514]
(合成例8-4)
[0515]
向100ml的pfa制茄型烧瓶中投入1g的前述化合物(8-3)、0.05g的铂/1,3-二乙烯基1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、0.64g的hsi(och3)3、0.01g的二甲基亚砜和0.4g的1,3-双(三氟甲基)苯，以40℃搅拌10小时。在反应结束后，减压馏去溶剂等，用孔径0.2μm的膜滤器进行过滤，得到1.2g的下述化合物viii。产物的数均分子量为4550。
[0516]
·
化合物viii
[0517][0518]
[例9]化合物ix的合成
[0519]
(合成例9-1)
[0520]
向200cc的茄型烧瓶中添加1.3g的ho(c＝o)c(ch2ch＝ch2)3、10ml的二氯甲烷、
1.3ml的草酰氯，在冰冷下搅拌，其后，添加0.13g的dmf(n,n-二甲基甲酰胺)。其后，在室温下搅拌后，进行浓缩，得到cl(c＝o)c(ch2ch＝ch2)3。
[0521]
另行向50cc的茄型烧瓶中添加5g的化合物(4-6)、10g的ac-6000、1g的三乙基胺、1.3g的n,n-二甲基-4-氨基吡啶，添加上述cl(c＝o)c(ch2ch＝ch2)3并搅拌。将所得反应液通过硅胶柱层析进行精制，得到1.3g的化合物(9-1)。
[0522]
·
化合物（9-1）
[0523][0524]
(合成例9-2)
[0525]
向100ml的pfa制茄型烧瓶中添加1g的前述化合物(9-1)、0.8g的铂/1,3-二乙烯基1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、0.4g的hsi(och3)3、0.005g的二甲基亚砜和0.5g的1,3-双(三氟甲基)苯，以40℃进行搅拌。在反应结束后，减压馏去溶剂等，利用膜滤器进行过滤，得到1.2g的下述化合物ix。产物的数均分子量为9190。
[0526]
·
化合物ix
[0527][0528]
[例10]化合物x的合成
[0529]
(合成例10-1)
[0530]
添加二烯丙基丙二酸二乙酯(60.0g)、氯化锂(23.7g)、水(6.5g)、二甲基亚砜(263g)，以160℃进行搅拌。冷却至室温后，添加水，用乙酸乙酯进行提取。将己烷添加至有机层中，用饱和食盐水进行清洗，用硫酸钠进行干燥。在过滤后，馏去溶剂，由此得到39.5g的下述化合物(10-1)。
[0531][0532]
(合成例10-2)
[0533]
添加thf(260ml)、二异丙胺(29.8ml)后，将溶液冷却至-78℃。添加正丁基锂己烷溶液(2.76m、96.6ml)，升温至0℃。在搅拌后，冷却至-78℃，制备二异丙基酰胺锂(lda)的thf溶液。将上述化合物(10-1)(39.5g)添加至thf溶液中，进行搅拌后，添加烯丙基溴(24.1ml)。升温至0℃，添加1m盐酸(100ml)，减压馏去thf。用二氯甲烷提取后，添加硫酸钠。在过滤后馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到45.0g的化合物(10-2)。
[0534][0535]
(合成例10-3)
[0536]
使上述化合物(10-2)(45.0g)溶解于thf(620ml)，冷却至0℃。添加氢化锂铝的thf溶液(104ml)，进行搅拌。添加水、15％氢氧化钠水溶液，在室温下搅拌后，用二氯甲烷进行稀释。在过滤后馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到31.3g的下述化合物(10-3)。
[0537][0538]
(合成例10-4)
[0539]
添加乙腈(380ml)、前述化合物(10-3)(31.3g)、三苯基膦(64.3g)、四氯化碳(33.9g)，以90℃进行搅拌。在浓缩后，添加乙酸乙酯/己烷，并进行搅拌。在过滤、浓缩后，通过蒸馏而得到28.2g的下述化合物(10-4)。
[0540][0541]
(合成例10-5)
[0542]
向镁(2.36g)中添加thf(35ml)、碘(0.180g)，在室温下搅拌。添加前述化合物(10-4)(14.0g)的thf(35ml)溶液，进行加热回流，由此制备下述化合物(10-5)的溶液(0.80m)。
[0543][0544]
(合成例10-6)
[0545]
添加1-溴-4-氯丁烷(2.9g)、1-苯基-1-丙炔(0.20g)、cucl2(0.05g)，以0℃进行搅拌。添加前述化合物(10-5)(0.80m、24.0ml)并搅拌。添加1m盐酸，用二氯甲烷进行提取，添加硫酸钠。在过滤、浓缩后，通过蒸馏而得到3.45g的下述化合物(10-6)。
[0546][0547]
(合成例10-7)
[0548]
向镁(0.17g)中添加thf(2.6ml)、碘(14.0mg)，在室温下搅拌。添加前述化合物(10-6)(1.41g)的thf(2.6ml)溶液，进行热回流，由此制备下述化合物(10-7)的溶液(0.74m)。
[0549][0550]
(合成例10-8)
[0551]
在200ml的三口茄型烧瓶内，使氯化锂0.18g溶解于乙醇18.5g。向其中添加上述化合物(5-5)10g，边用冰浴冷却边缓慢滴加使2.9g氢化硼钠溶解于150g的thf而得的溶液。卸下冰浴，边缓慢升温至25℃边继续搅拌。以25℃进行搅拌后，滴加盐酸水溶液直至液性呈现酸性为止。添加150ml的ac-2000，用水和饱和食盐水进行清洗，回收有机相。用蒸发仪浓缩所回收的有机相，得到9.2g的下述化合物(10-8)。
[0552][0553]
(合成例10-9)
[0554]
添加9g的前述化合物(10-8)、3g的2,6-二甲基吡啶、45g的1,3-双氟甲基苯，以0℃进行搅拌。添加三氟甲磺酸酐3.9g后，在室温下搅拌。用水清洗后，馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到6.8g的下述化合物(10-9)。
[0555][0556]
其中，otf为三氟甲磺酸盐：-o-s(＝o)2(-cf3)。
[0557]
(合成例10-10)
[0558]
添加0.144g的cucl2、0.31g的1-苯基-1-丙炔、190g的1,3-双三氟甲基苯、9.5g的前述化合物(10-9)后，添加17.7g的前述化合物(10-7)。在室温下搅拌后，用1m盐酸进行清洗，用硫酸钠进行干燥。在过滤后馏去溶剂，添加ac-6000。用dmf、meoh进行清洗后，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到0.9g的下述化合物(10-10)。
[0559]
·
式(10-10)
[0560][0561]
(合成例10-11)
[0562]
向100ml的pfa制茄型烧瓶中投入1g的前述化合物(10-10)、0.05g的铂/1,3-二乙烯基1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、0.64g的hsi(och3)3、0.01g的二甲基亚砜和0.4g的1,3-双(三氟甲基)苯，以40℃进行搅拌。在反应结束后，减压馏去溶剂等，用膜滤器进行过滤，得到0.7g的下述化合物x。产物的数均分子量为8940。
[0563]
·
化合物x
[0564][0565]
[物品的制造和评价]
[0566]
使用例1～10中得到的各化合物进行基材的表面处理，得到具有拒水拒油层的物品。作为表面处理方法，针对各例分别使用下述的干涂法和湿涂法。使用化学强化玻璃作为基材。针对所得物品，利用下述方法进行评价。将结果示于表1～2。
[0567]
(干涂法)
[0568]
干涂使用真空蒸镀装置(ulvac公司制、vtr-350m)来进行(真空蒸镀法)。将例1～7中得到的各化合物0.5g填充至真空蒸镀装置内的钼制舟中，将真空蒸镀装置内排气至1
×
10-3
pa以下。将配置有化合物的舟以升温速度为10℃/分钟以下的速度进行加热，在基于晶体震荡式膜厚计的蒸镀速度超过1nm/秒的时刻打开挡板，开始在基材表面上的成膜。在膜厚达到约50nm的时刻关闭挡板，结束在基材表面上的成膜。将堆积有化合物的基材以200℃加热处理30分钟，用ak-225进行清洗，由此得到在基材表面具有拒水拒油层的物品。
[0569]
(湿涂法)
[0570]
将例1～10中得到的各化合物与作为液体介质的c4f9oc2h5(3m公司制、novec(注册商标)7200)混合，制备固体成分浓度为0.05％的涂布液。将基材浸渍于涂布液，放置30分钟后，提拉基材(浸涂法)。使涂膜以200℃干燥30分钟，用ak-225进行清洗，由此得到在基材表面具有拒水拒油层的物品。
[0571]
(评价方法)
[0572]
《接触角的测定方法》
[0573]
使用接触角测定装置(协和界面科学公司制、dm-500)，测定在拒水拒油层的表面放置的约2μl的蒸馏水或正十六烷的接触角。在表面层表面的5个不同部位进行测定，计算其平均值。在接触角的计算中使用2θ法。
[0574]
《初始接触角》
[0575]
针对拒水拒油层，利用前述测定方法测定初始水接触角和初始正十六烷接触角。评价基准如下所示。
[0576]
初始水接触角：
[0577]
◎
(优)：113度以上。
[0578]
○
(良)：105度以上且小于113度。
[0579]
△
(合格)：100度以上且小于105度。
[0580]
×
(不合格)：小于100度。
[0581]
初始正十六烷接触角：
[0582]
◎
(优)：66度以上。
[0583]
○
(良)：63度以上且小于66度。
[0584]
△
(合格)：60度以上且小于63度。
[0585]
×
(不合格)：小于60度。
[0586]
《耐摩擦性》
[0587]
针对拒水拒油层，使用毛毡磨耗试验机，使毛毡(尺寸：10mm
×
10mm
×
50mm)在载荷：9.8n、速度：80rpm的条件下往返。每往返1,000次测定拒水拒油层的水接触角。磨耗后的水接触角的降低越小，则由磨耗造成的性能降低越小，耐磨耗性越优异。
[0588]
维持100度的水接触角的次数：
[0589]
◎
(优)：10,000次以上
[0590]
○
(良)：5,000次以上且小于10,000次
[0591]
△
(合格)：3,000次以上且小于5,000次
[0592]
×
(不合格)：小于3,000次。
[0593]
《耐碱性》
[0594]
将例1～7的物品在ph13的氢氧化钠水溶液中含浸2小时。将物品水洗干燥后，测定拒水拒油层的水接触角。
[0595]
碱浸渍后的水接触角：
[0596]
◎
(优)：113度以上。
[0597]
○
(良)：105度以上且小于113度。
[0598]
△
(合格)：100度以上且小于105度。
[0599]
×
(不合格)：小于100度。
[0600]
《油脂污垢去除性》
[0601]
用油酸人工地使油脂污垢附着于拒水拒油层表面后，以恒定载荷用纤维素制的无纺布(旭化成公司制、pencott m-3)进行擦拭，目视判定油脂污垢的掉落容易度。判定基准如下所示。
[0602]
油脂污垢去除性的判定基准：
[0603]
○
(良)：能够完全拭去油脂污垢。
[0604]
△
(合格)：残留油脂污垢的擦拭痕迹。
[0605]
×
(不合格)：无法拭去油脂污垢。
[0606]
[表1]
[0607]
表t
[0608][0609]
可知存在如下倾向：如化合物i～v那样分子中存在的氟亚烷基的分子量越大或水解性甲硅烷基的数量越多，则耐磨耗性越会提高。考虑这是因为：结合于基材的氟量多或分子中的与基材结合的位点增加。关于耐碱性而启示出：如化合物iv那样，越是在分子内具有难以被碱影响的单元，则耐碱性越优异。
[0610]
[制造例：带有硅氧化物层的玻璃基材的制造]
[0611]
向5质量％的硅酸钠水溶液(昭和化学公司制的3号硅酸钠溶液)20g中添加阳离子交换树脂(三菱化学公司制的sk1b)12g，搅拌10分钟。通过过滤来去除阳离子交换树脂，得到硅酸水溶液。向异丙醇4.75g中添加硅酸水溶液0.25g，得到硅氧化物层形成用涂布液1(固体成分浓度(sio2换算)：0.25质量％)。
[0612]
针对硅氧化物层形成用涂布液1，进行下述测定，其结果确认：得到相对于si具有300ppm钠的硅氧化物粉末。
[0613]
(测定方法)
[0614]
将硅氧化物层形成用涂布液1以150℃进行干燥，去除有机溶剂和水，得到硅氧化物粉末。利用icp发光分光分析(日立高新科技公司制、sps5520)，测定钠相对于硅氧化物粉末中包含的si的含量。
[0615]
使用高频电源(春日电机公司制、cg102a)，在80v、3.5a的条件下，对玻璃基材(agc公司制、dragontrail(注册商标))的一个表面进行电晕放电处理。
[0616]
利用旋涂法，在转速：3,000rpm、旋转时间：20秒钟的条件下，在玻璃基材的经电晕放电处理的面涂布硅氧化物层形成用涂布液1，形成湿膜。将该湿膜在烧成温度：550℃、烧
成时间：30分钟的条件下进行烧成，制造具有厚度约10nm的硅氧化物层的带有硅氧化物层的玻璃基材。
[0617]
在上述物品的制造和评价中，将基材由化学强化玻璃变更为上述带有硅氧化物层的玻璃基材，使用上述例1、例2、例4、例5和例10中得到的化合物，分别使用上述干涂法和湿涂法，进行基材的表面处理。针对所得物品，利用前述方法进行评价。将结果示于表2。
[0618]
[表2]
[0619]
表2
[0620][0621]
需要说明的是，表中的“a
×
10＾b”表示“a
×
10
b”。
[0622]
在含钠的硅氧化物层的情况下，与通常的sio2层相比，化合物i、ii均显示高的磨耗耐久性。尤其是，在化合物ii中制成含钠的硅氧化物层时，显示出耐久性提高程度比i更高的结果。可认为这是因为：因含钠的硅氧化物层的效果而使与基材结合的水解性甲硅烷基的数量增加。
[0623]
产业上的可利用性
[0624]
作为一例，具备包含本化合物的拒水拒油层的物品有效用作作为下述制品的一部分而使用的光学物品、触摸面板、防反射薄膜、防反射玻璃、sio2处理玻璃、强化玻璃、蓝宝石玻璃、石英基板、模具金属等。
[0625]
制品：汽车导航、便携电话、数码照相机、数码摄像机、便携信息终端(pda)、便携音乐播放器、汽车音响、游戏机、眼镜镜片、照相机镜头、镜头过滤器、太阳镜、医疗器械(胃镜等)、复印机、个人电脑(pc)、液晶显示器、有机el显示器、等离子体显示器、触摸面板显示器、保护薄膜、防反射薄膜、防反射玻璃、纳米压印的模板、模具等。
[0626]
该申请以2019年9月27日申请的日本技术日本特愿2019-177662作为基础而要求优先权，并将其全部公开内容援引至此。
[0627]
附图标记说明
[0628]
10：带有基底层的基材、12：基材、14：基底层、
[0629]
20：物品、22：拒水拒油层