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一种平面研磨清洗剂及其制备方法与流程

2022-03-02 04:06:35 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种平面研磨清洗剂,其特征在于,该平面研磨清洗剂由以下质量份数的原料制成:去离子水90-120份、阴离子表面活性剂10-20份、非离子表面活性剂24-32份、清洗助剂6-14份、珍珠岩粉末4-8份、氧化铝粉末4-8份、防锈油5-10份、精油3-6份、消泡剂1.4-2.2份。2.根据权利要求1所述的一种平面研磨清洗剂,其特征在于:所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠和α-烯基磺酸钠中的一种或多种混合。3.根据权利要求2所述的一种平面研磨清洗剂,其特征在于:所述非离子表面活性剂为月桂基葡糖苷、脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷基醇酰胺和烷基酚聚氧乙烯醚中的一种或几种混合。4.根据权利要求3所述的一种平面研磨清洗剂,其特征在于:所述清洗助剂包括以下原料组分:硫酸钠3-7份、硅酸钠3-7份。5.根据权利要求4所述的一种平面研磨清洗剂,其特征在于:所述防锈油为环氧大豆油和蓖麻油中的一种或多种混合。6.根据权利要求5所述的一种平面研磨清洗剂,其特征在于:所述精油包括以下原料组分:茉莉花精油1-2份、柠檬精油2-4份。7.根据权利要求6所述的一种平面研磨清洗剂,其特征在于:所述消泡剂为聚醚改性有机硅。8.根据权利要求7所述的一种平面研磨清洗剂,其特征在于:所述珍珠岩粉末和所述氧化铝粉末的粒径为150-250微米。9.一种平面研磨清洗剂的制备方法,其特征在于,用于权利要求8所述的一种平面研磨清洗剂的制备,包括以下步骤:步骤s101:根据上述质量份数,称取所述平面研磨清洗剂所需各原料;步骤s103:将称取的珍珠岩粉末和氧化铝粉末放入到搅拌釜中搅拌5-10min,再将称取的防锈油加入到搅拌釜中,再次搅拌15-20min,静置3-4min中,得到混合物a;步骤s105:依次将去离子水、阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、硫酸钠和硅酸钠加入到容器中搅拌混合4-8min,再加入聚醚改性有机硅加入到容器中加热搅拌10-15min得到混合物b;步骤s107:将步骤s103中得到的混合物a加入到混合物b的容器中再次搅拌15-25min,最后将茉莉花精油和柠檬精油加入到容器中搅拌2-3min可得到平面研磨清洗剂。10.根据权利要求9所述的平面研磨清洗剂的制备方法,其特征在于:步骤s105中加热的温度为25-30℃。

技术总结
本发明公开了一种平面研磨清洗剂及其制备方法,该平面研磨清洗剂由以下质量份数的原料制成:去离子水90-120份、阴离子表面活性剂10-20份、非离子表面活性剂24-32份、清洗助剂6-14份、珍珠岩粉末4-8份、氧化铝粉末4-8份、防锈油5-10份、精油3-6份、消泡剂1.4-2.2份。本发明可以增加清洗剂与金属表面的摩擦系数,可以对金属表面进行彻底的清洗,将锈斑和油斑进行清除,保证清洗的效果,提高美观,同时由于其粒径较小,因此不会对金属表面造成损坏,保证产品的质量,还可以对清洗后进行保护,进行防锈处理,提高后期的防锈能力,性能稳定性佳、去污能力强、对金属工件腐蚀性小,能有效提升产品品位和质量。品位和质量。品位和质量。


技术研发人员:曾好逑 张元兵 潘达春
受保护的技术使用者:厦门普诺尔新材料科技有限公司
技术研发日:2021.11.29
技术公布日:2022/3/1
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