1.本实用新型属于电子机械技术领域，涉及一种夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统。
背景技术：
2.以电子为能量的离子源形成的离子束对工件表面进行镀层的设备，其原理是采用多级降压收集极使离开互作用区的电子按不同的速度分类收集，对较低动能的电子则采用较高电位的收集极，使电子软着陆于工件的表面形成导电膜层，导电膜层在形成的过程中，由于离子束的溅射角为分散形式存在，会使得导电膜不均匀，影响产品的质量。
技术实现要素：
3.本实用新型所要解决的技术问题是提供一种夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统, 结构简单，采用夹持机构和电机分别位于支撑转盘的上下侧与其连接，工件位于支撑转盘上，夹持机构沿向心槽滑动调节夹持距离并夹持工件，加热片位于电机和支撑转盘之间，电机驱动支撑转盘带动工件旋转，加热片对工件加热，控制系统控制电机的转速和加热片的加热速率，有利于提高工件表面导电膜的均匀度，附着牢靠，提高产品的质量，操作简单方便。
4.为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，它包括支撑转盘、夹持机构、加热片和控制系统；所述夹持机构位于支撑转盘的上侧，控制系统的电机位于支撑转盘的下侧，加热片位于电机和支撑转盘之间；夹持机构的滑块与支撑转盘上的向心槽滑动配合，多个夹持机构呈等间距环形分布，夹持机构的滑动方向朝向支撑转盘的中心。
5.所述支撑转盘为圆形平板，圆形平板上设置多个呈环形分布的加热孔和向心槽，向心槽远离圆形平板中心。
6.所述支撑转盘上还设置有支撑块，多个支撑块呈环形分布，位于向心槽和圆形平板中心之间。
7.所述夹持机构包括滑动座下侧连接的滑块，滑动座上侧连接的压持把，锁紧螺钉穿过滑块与滑动座连接。
8.所述滑动座为块状体，一端设置的压持口朝向支撑转盘的中心，压持把竖直穿过压持口与滑动座配合。
9.所述加热片为环形结构，散发的热量朝上穿过支撑转盘的加热孔。
10.所述控制系统为plc控制系统，电机和加热片与其电性连接，plc控制系统控制电机转速和加热片的电阻大小。
11.本实用新型的有益效果在于：
12.采用在支撑转盘上设置加热孔，加热片散发的热量朝上对工件进行加热，有利于提高工件表面导电膜层的附着力。
13.采用在支撑转盘上侧设置支撑块支撑工件，并由夹持机构压持工件边沿，避免支撑转盘旋转时工件滑动，稳定性好。
14.工件在旋转状态下，接收离子束，有利于提高导电膜层的均匀度，进而提高产品质量。
15.通过控制系统控制加热片的电阻，使其产生的热量适中，有利于对工件进行均衡加热，避免工件加热过程中升温过快导致工件变形。
16.通过控制系统控制电机的转速，有利于使工件的转速与加热速率的关系，同时有利于控制工件成膜的时间。
附图说明
17.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：
18.图1为本实用新型的结构示意图。
19.图2为图1的主视示意图。
20.图3为图2的俯视示意图。
21.图4为图3的a-a处剖视示意图。
22.图中：支撑转盘1，加热孔11，向心槽12，支撑块13，夹持机构2，滑动座21，滑块22，压持把23，锁紧螺钉24，压持口25，加热片3，控制系统4，电机41。
具体实施方式
23.如图1~图4中，一种夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，它包括支撑转盘1、夹持机构2、加热片3和控制系统4；所述夹持机构2位于支撑转盘1的上侧，控制系统4的电机41位于支撑转盘1的下侧，加热片3位于电机41和支撑转盘1之间；夹持机构2的滑块22与支撑转盘1上的向心槽12滑动配合，多个夹持机构2呈等间距环形分布，夹持机构2的滑动方向朝向支撑转盘1的中心。使用时，电机41驱动支撑转盘1带动工件旋转，加热片3对工件加热，控制系统4控制电机41的转速和加热片3的加热速率，有利于提高工件表面导电膜的均匀度，附着牢靠，提高产品的质量，操作简单方便。
24.优选的方案中，所述支撑转盘1为圆形平板，圆形平板上设置多个呈环形分布的加热孔11和向心槽12，向心槽12远离圆形平板中心。结构简单，使用时，加热片3散发的热量朝上穿过加热孔11对工件进行加热，离子源再工作，离子束抵达加热后的工件表面，有利于提高附着力。
25.优选的方案中，所述支撑转盘1上还设置有支撑块13，多个支撑块13呈环形分布，位于向心槽12和圆形平板中心之间。结构简单，安装时，将工件放置于支撑块13上，由支撑块13支撑工件使其悬空，减小工件下侧面与支撑转盘1上侧面的接触面积。
26.优选的方案中，所述夹持机构2包括滑动座21下侧连接的滑块22，滑动座21上侧连接的压持把23，锁紧螺钉24穿过滑块22与滑动座21连接。结构简单，安装时，推动夹持机构2，使滑块22沿向心槽12滑动靠近或远离支撑转盘1的中心，调节滑动座21与工件边沿的压持距离，再旋转锁紧螺钉24锁紧滑动座21。
27.优选地，滑块22的高度小于支撑转盘1的厚度，在锁紧螺钉24锁紧后，锁紧螺钉24与支撑转盘1下侧面抵触，形成对滑动座21向下的拉力应力。
28.优选的方案中，所述滑动座21为块状体，一端设置的压持口25朝向支撑转盘1的中心，压持把23竖直穿过压持口25与滑动座21配合。结构简单，使用时，工件边沿位于滑动座21下侧的压持口25内，旋转压持把23使其与工件上表面抵触压持工件。
29.优选的方案中，所述加热片3为环形结构，散发的热量朝上穿过支撑转盘1的加热孔11。结构简单，使用时，加热片3启动后，散发的热量向上扩散，穿过加热孔11对工件进行加热，环形结构的加热片3有利于扩大加热面积，使工件加热过程中趋于均衡。
30.优选的方案中，所述控制系统4为plc控制系统，电机41和加热片3与其电性连接，plc控制系统控制电机41转速和加热片3的电阻大小。结构简单，使用时，控制系统4采用plc控制系统，有利于灵活设定电机41的转速和加热片3的电阻，使得电机的转速和加热片3的加热曲线趋于重合，有利于精准控制一定转速下的加热速率，从而适应不同材质，且能够提高导电膜层的附着力。
31.上述的实施例仅为本实用新型的优选技术方案，而不应视为对于本实用新型的限制，本申请中的实施例及实施例中的特征在不冲突的情况下，可以相互任意组合。本实用新型的保护范围应以权利要求记载的技术方案，包括权利要求记载的技术方案中技术特征的等同替换方案为保护范围。即在此范围内的等同替换改进，也在本实用新型的保护范围之内。
技术特征：
1.一种夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，其特征是：它包括支撑转盘（1）、夹持机构（2）、加热片（3）和控制系统（4）；所述夹持机构（2）位于支撑转盘（1）的上侧，控制系统（4）的电机（41）位于支撑转盘（1）的下侧，加热片（3）位于电机（41）和支撑转盘（1）之间；夹持机构（2）的滑块（22）与支撑转盘（1）上的向心槽（12）滑动配合，多个夹持机构（2）呈等间距环形分布，夹持机构（2）的滑动方向朝向支撑转盘（1）的中心。2.根据权利要求1所述的夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，其特征是：所述支撑转盘（1）为圆形平板，圆形平板上设置多个呈环形分布的加热孔（11）和向心槽（12），向心槽（12）远离圆形平板中心。3.根据权利要求2所述的夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，其特征是：所述支撑转盘（1）上还设置有支撑块（13），多个支撑块（13）呈环形分布，位于向心槽（12）和圆形平板中心之间。4.根据权利要求1所述的夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，其特征是：所述夹持机构（2）包括滑动座（21）下侧连接的滑块（22），滑动座（21）上侧连接的压持把（23），锁紧螺钉（24）穿过滑块（22）与滑动座（21）连接。5.根据权利要求4所述的夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，其特征是：所述滑动座（21）为块状体，一端设置的压持口（25）朝向支撑转盘（1）的中心，压持把（23）竖直穿过压持口（25）与滑动座（21）配合。6.根据权利要求1所述的夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，其特征是：所述加热片（3）为环形结构，散发的热量朝上穿过支撑转盘（1）的加热孔（11）。7.根据权利要求1所述的夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，其特征是：所述控制系统（4）为plc控制系统，电机（41）和加热片（3）与其电性连接，plc控制系统控制电机（41）转速和加热片（3）的电阻大小。
技术总结
一种夹持工件旋转接收离子束提高导电膜层质量的控制系统，它包括支撑转盘、夹持机构、加热片和控制系统，通过夹持机构和电机分别位于支撑转盘的上下侧与其连接，工件位于支撑转盘上，夹持机构沿向心槽滑动调节夹持距离并夹持工件，加热片位于电机和支撑转盘之间，通过电机驱动支撑转盘带动工件旋转，加热片对工件加热，控制系统控制电机的转速和加热片的加热速率，有利于提高工件表面导电膜的均匀度，附着牢靠，提高产品的质量，操作简单方便。操作简单方便。操作简单方便。
技术研发人员：秦工 邹丽
受保护的技术使用者：湖北三峡职业技术学院
技术研发日：2021.08.04
技术公布日：2022/2/25
再多了解一些
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