技术特征：
1.一种基板平整装置，其特征在于，包括：驱动单元和压边单元，所述压边单元包括多个压板，多个所述压板用于与基板的多个边缘区域一一对应设置，所述驱动单元被配置为，在吸盘完成对所述基板的吸附后，若所述基板的某一边缘区域的真空吸附阈值不满足设定条件时，则朝接近所述基板的方向驱动相应所述压板以至少对真空吸附阈值不满足设定条件的所述边缘区域进行按压。2.如权利要求1所述的基板平整装置，其特征在于，所述驱动单元包括多个传动机构，各所述传动机构用于驱动至少一所述压板。3.如权利要求2所述的基板平整装置，其特征在于，各所述传动机构分别用于驱动一所述压板，或者，用于驱动沿同一方向设置的两个所述压板，或者，用于驱动相邻的两个或两个以上的所述压板。4.如权利要求2所述的基板平整装置，其特征在于，所述驱动单元还包括多个连接件，多个所述连接件和多个所述传动机构一一对应设置，所述压板通过所述连接件固定于所述传动机构，所述传动机构在对所述压板进行驱动时，所述连接件之间互不干涉。5.如权利要求1所述的基板平整装置，其特征在于，所述压边单元包括沿第一方向设置的两个所述压板和沿第二方向设置的两个所述压板，所述第二方向垂直于所述第一方向，所述驱动单元包括第一传动机构和第二传动机构，所述第一传动机构用于驱动沿第一方向设置的两个所述压板，所述第二传动机构用于驱动沿第二方向设置的两个所述压板。6.如权利要求1所述的基板平整装置，其特征在于，所述基板平整装置还包括设置于所述压板的弹性结构，所述压板对所述基板的边缘区域进行按压时，通过所述弹性结构与所述边缘区域相接触。7.如权利要求6所述的基板平整装置，其特征在于，所述弹性结构的用于与所述基板相接触的部分为橡胶体。8.如权利要求6所述的基板平整装置，其特征在于，所述弹性结构包括第一弹性体，所述第一弹性体设置于所述压板朝向所述基板的一侧。9.如权利要求8所述的基板平整装置，其特征在于，所述第一弹性体为o型橡胶圈。10.如权利要求6所述的基板平整装置，其特征在于，所述弹性结构包括压帽、第二弹性体、传动螺销和压条，所述弹性结构通过所述压条与所述边缘区域相接触，所述压帽固定于所述压板背向所述基板的一侧，所述传动螺销的一端通过所述第二弹性体与所述压帽相接，另一端贯穿所述压板，与所述压条相接。11.如权利要求10所述的基板平整装置，其特征在于，所述第二弹性体为弹簧。12.一种光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括：吸盘及如权利要求1～11任一项所述的基板平整装置；所述基板平整装置用于对所述吸盘吸附的基板的边缘区域进行平整处理。13.如权利要求12所述的光刻设备，其特征在于，所述吸盘包括设于边缘区域且突起的环形密封圈，所述环形密封圈为褶皱密封圈或所述环形密封圈具有均匀分布的多个吸嘴。
技术总结
本实用新型提供一种基板平整装置及光刻设备，所述基板平整装置包括:驱动单元和压边单元，所述压边单元包括多个压板，多个所述压板用于与基板的多个边缘区域一一对应设置，所述驱动单元被配置为，在吸盘完成对所述基板的吸附后，若所述基板的某一边缘区域的真空吸附阈值不满足设定条件时，则朝接近所述基板的方向驱动相应所述压板以至少对真空吸附阈值不满足设定条件的所述边缘区域进行按压，如此便可解决翘曲基板吸附问题，提高工件台对不同基板的适应性及吸附能力。板的适应性及吸附能力。板的适应性及吸附能力。
技术研发人员：杨博光 王鑫鑫 蔡晨 孙铖
受保护的技术使用者：上海微电子装备（集团）股份有限公司
技术研发日：2021.06.30
技术公布日：2021/11/29
再多了解一些
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