预热气体反应装置的制作方法

技术特征：
1.一种预热气体反应装置，其特征在于，包括：一反应腔；一基板承载装置，设置在该反应腔内，该基板承载装置与该反应腔之间形成一快速气流通道，该快速气流通道的高度介于5毫米～0毫米，该基板承载装置用于承载至少一基板，该基板承载装置包括：至少一碟盘，具有一上方开放的基板槽，以供该基板以反应面朝下的方式置入，该基板槽下方设有一反应口以供该反应面裸露；一下大盘，具有至少一个上方开放的碟盘槽，以供该碟盘置入，该碟盘槽下方设有一底口以供该反应面裸露；以及一上大盘，遮盖于该下大盘的上方并将该碟盘槽上方封闭；一喷头，包括复数喷气孔，该喷头穿设于该反应腔，且该喷头的该复数喷气孔露出于该快速气流通道中；一管路总成，包括复数管路，该复数管路连通该喷头，以供应反应气体至该喷头并由该复数喷气孔喷出；以及一加热单元，包覆该管路总成的该复数管路，以对该复数管路内的反应气体加热。2.如权利要求1所述的预热气体反应装置，其特征在于：该加热单元为阻式加热器、红外线加热器、感应式加热器的任一或者任意组合。3.如权利要求1所述的预热气体反应装置，其特征在于：该碟盘槽设有一环槽沟，该碟盘设有一入于该环槽沟的对接部，该环槽沟内设有一环状气浮通道；该环状气浮通道以切线方向衔接一入气引道，以引入气浮气体施力于该对接部，使该碟盘悬浮及旋转；该环槽沟衔接于一第一泄出口，以供该气浮气体排出。4.如权利要求3所述的预热气体反应装置，其特征在于：该上大盘设有一第二泄出口与该第一泄出口衔接。5.如权利要求1所述的预热气体反应装置，其特征在于：该基板槽内壁边缘设有若干承载指以承托该基板的边缘，该承载指的顶面朝向该基板槽中心倾斜。6.如权利要求1所述的预热气体反应装置，其特征在于：还包括一升降筒暨废气收集环，连接于该下大盘以支撑并带动该基板承载装置升降及旋转，并收集反应后的废气。7.如权利要求6所述的预热气体反应装置，其特征在于：该反应腔的侧壁设有至少一取放口。

技术总结
本实用新型为一种预热气体反应装置，其应用于面下型(Face Down)或面上型的化学气相沉积反应技术。预热气体反应装置包括反应腔内设有基板承载装置，其与反应腔之间形成快速气流通道。反应腔及基板承载装置上设有喷头连通管路总成的复数管路，其供应反应气体至喷头的复数喷气孔喷出，以在快速气流通道快速流动。特征在于，更包括加热单元包覆管路总成的复数管路，以对复数管路内的反应气体加热。本实用新型为使气流快速流动后，仍可维持基板形成薄膜的功效，利用加热单元预先对气体加热，当气体接触基板时，即可与基板反应形成薄膜。即可与基板反应形成薄膜。即可与基板反应形成薄膜。


技术研发人员：吴铭钦 刘峰
受保护的技术使用者：苏州雨竹机电有限公司
技术研发日：2020.12.07
技术公布日：2021/11/16